| 1 | 半導体フォトレジスト用組成物およびこれを利用したパターン形成方法 | 三星エスディアイ株式会社 |
| 2 | フォトレジスト用樹脂、フォトレジスト組成物および硬化物 | 日油株式会社 |
| 3 | 金属含有フォトレジスト現像液組成物、およびこれを利用した現像段階を含むパターン形成方法 | 三星エスディアイ株式会社 |
| 4 | 金属含有フォトレジストのエッジビーズ除去用組成物または金属含有フォトレジストの現像液組成物、およびこれを利用したパターン形成方法 | 三星エスディアイ株式会社 |
| 5 | フォトレジスト上層膜用組成物およびこれを利用したパターン形成方法 | 三星エスディアイ株式会社 |
| 6 | 半導体フォトレジスト用組成物およびこれを用いたパターン形成方法 | 三星エスディアイ株式会社 |
| 7 | 金属含有フォトレジスト用現像液組成物、およびこれを用いた現像段階を含むパターン形成方法 | 三星エスディアイ株式会社 |
| 8 | 有機塩、それを含むフォトレジスト組成物、及びフォトレジスト組成物を用いるパターン形成方法 | 三星電子株式会社 |
| 9 | 金属含有フォトレジスト用現像液組成物、およびこれを用いた現像工程を含むパターン形成方法 | 三星エスディアイ株式会社 |
| 10 | 重合性化合物、酸発生剤、樹脂、及びフォトレジスト | サンアプロ株式会社 |
| 11 | 有機金属化合物、フォトレジスト用感光材、及びフォトレジスト | サンアプロ株式会社 |
| 12 | スルホニウム塩、前記スルホニウム塩を含む酸発生剤、及び前記スルホニウム塩を含むフォトレジスト | サンアプロ株式会社 |
| 13 | 金属含有膜形成用化合物、金属含有膜形成用組成物、パターン形成方法、及び半導体フォトレジスト材料 | 信越化学工業株式会社 |
| 14 | 電着フォトレジスト用塗料組成物 | 株式会社シミズ |
| 15 | カルボン酸塩、それを含むフォトレジスト組成物、及びそのフォトレジスト組成物を用いるパターン形成方法 | 三星電子株式会社 |
| 16 | フォトレジスト剥離液 | ナガセケムテックス株式会社 |
| 17 | 金属含有フォトレジスト現像液組成物、およびこれを用いた現像工程を含むパターン形成方法 | 三星エスディアイ株式会社 |
| 18 | フォトレジスト用剥離液及びこれを用いた基板の処理方法 | 東京応化工業株式会社 |
| 19 | フォトレジスト剥離組成物 | 関東化学株式会社 |
| 20 | 電着フォトレジスト塗膜の剥離方法 | ハニー化成株式会社 |
| 21 | 改良されたフォトレジスト製剤 | 船井電機株式会社 |
| 22 | 光酸発生剤、それを含むフォトレジスト組成物、及びそれを利用したパターン形成方法 | 三星電子株式会社 |
| 23 | パターン化された有機金属フォトレジスト及びパターニングの方法 | インプリア・コーポレイション |
| 24 | 化合物、前記化合物を含む酸発生剤、フォトレジスト、及び前記フォトレジストを使用した電子デバイスの製造方法 | サンアプロ株式会社 |
| 25 | ノボラック型フェノール樹脂、ノボラック型フェノール樹脂の製造方法、及びフォトレジスト組成物 | 明和化成株式会社 |
| 26 | 複合フォトレジスト材料とその製造方法、および流体吐出ヘッド | 船井電機株式会社 |
| 27 | ネガ型レジスト樹脂組成物およびネガ型フォトレジスト樹脂組成物 | サンアプロ株式会社 |
| 28 | ノズルプレートの接着性を強化するためのフォトレジストイメージングおよび現像 | 船井電機株式会社 |
| 29 | フォトレジスト組成物及びパターン形成方法 | ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシー |
| 30 | 半導体フォトレジスト用組成物およびそれを用いたパターン形成方法 | 三星エスディアイ株式会社 |
| 31 | 半導体フォトレジスト用組成物およびその製造方法、ならびにこれを用いたパターン形成方法 | 三星エスディアイ株式会社 |
| 32 | フォトレジスト樹脂の製造方法 | 株式会社ダイセル |
| 33 | フォトレジスト組成物、液体吐出ヘッド及び液体吐出ヘッドの製造方法 | キヤノン株式会社 |
| 34 | フォトレジストパターン形成方法 | 東京応化工業株式会社 |
| 35 | フォトレジスト用のノボラック型フェノール樹脂およびその製造方法、ならびにフォトレジスト用の感光性樹脂組成物 | 住友ベークライト株式会社 |
| 36 | フォトレジストの特性解析方法および特性解析装置 | フェムトディプロイメンツ株式会社 |
| 37 | フォトレジスト組成物およびその硬化物 | 太陽インキ製造株式会社 |
| 38 | ネガ型カチオン性電着フォトレジスト用樹脂組成物及びそれを電着塗装してなる塗膜 | ハニー化成株式会社 |
| 39 | フォトレジスト用フェノール樹脂組成物及びフォトレジスト組成物 | 明和化成株式会社 |
| 40 | 厚膜用フォトレジスト組成物及び厚膜フォトレジストパターン形成方法 | 東京応化工業株式会社 |
| 41 | 単量体、フォトレジスト用樹脂、フォトレジスト用樹脂組成物、及びパターン形成方法 | 株式会社ダイセル |
| 42 | フォトレジスト除去用組成物 | 三菱ガス化学トレーディング株式会社 |
| 43 | フォトレジスト用組成物 | 株式会社ダイセル |
| 44 | フォトレジスト用樹脂、フォトレジスト用樹脂の製造方法及びフォトレジスト組成物 | 明和化成株式会社 |
| 45 | 感光性樹脂組成物、これを用いたフォトレジストフィルム、及びレジストパターンの形成方法 | ニッコー・マテリアルズ株式会社 |
| 46 | フォトレジスト用樹脂、フォトレジスト用樹脂の製造方法、フォトレジスト用樹脂組成物、及びパターン形成方法 | 株式会社ダイセル |
| 47 | 重合性化合物、重合性組成物、重合体及びフォトレジスト用組成物 | ＪＮＣ株式会社 |
| 48 | フォトレジスト用保護フィルム | 三菱ケミカル株式会社 |
| 49 | フォトレジスト及びフォトリソグラフィ | 日本化成株式会社 |
| 50 | フォトレジスト塗布装置 | トヨタ自動車株式会社 |
| 51 | 化学増幅型フォトレジスト組成物 | サンアプロ株式会社 |
| 52 | 化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物 | サンアプロ株式会社 |
| 53 | ネガ型フォトレジスト用樹脂組成物及び硬化膜 | サンアプロ株式会社 |
| 54 | 光発生装置、光発生装置を備える露光装置、露光システム、光発生方法、及び露光フォトレジスト製造方法 | 公立大学法人兵庫県立大学 |
| 55 | 誘導自己組織化用の化学テンプレートを形成するための硬化フォトレジストのＵＶ支援剥離 | 東京エレクトロン株式会社 |
| 56 | ネガティブトーン現像剤相溶性フォトレジスト組成物及び使用方法 | トーキョー エレクトロン ユーエス ホールディングス，インコーポレーテッド |
| 57 | 機能構造体製造方法及びフォトレジスト処理装置 | ウシオ電機株式会社 |
| 58 | ポジ型フォトレジスト | 住友精化株式会社 |
| 59 | コーティング用組成物およびフォトレジスト積層体の製造方法 | 旭硝子株式会社 |
| 60 | フォトレジスト組成物及びこれを利用する微細パターン形成方法 | 三星電子株式会社 |
| 61 | フォトレジスト用樹脂、フォトレジスト樹脂の製造方法、フォトレジスト用樹脂組成物、及びパターン形成方法 | 株式会社ダイセル |
| 62 | フォトレジストフィルム、レジストパターンの形成方法、および導体パターンの形成方法 | ニッコー・マテリアルズ株式会社 |
| 63 | ドライフィルムフォトレジスト支持体二軸配向ポリエステルフィルム | 東レ株式会社 |
| 64 | アルコール誘導体、アクリル酸エステル誘導体、混合物、高分子化合物およびフォトレジスト組成物 | 株式会社クラレ |
| 65 | コーティング用組成物の製造方法およびフォトレジスト積層体の製造方法 | ＡＧＣ株式会社 |
| 66 | フォトレジスト成分濃度測定装置および濃度測定方法 | パナソニックＩＰマネジメント株式会社 |
| 67 | ポジ型フォトレジスト組成物 | 東京応化工業株式会社 |
| 68 | フォトレジスト組成物並びにそれを用いたドライエッチング用マスク及び積層体 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 |
| 69 | 半導体基板処理装置、フォトレジストを剥離する方法、および半導体装置の製造方法 | セイコーインスツル株式会社 |
| 70 | フォトレジスト用活性エネルギー線硬化性組成物 | ダイセル・オルネクス株式会社 |
