2025版《日本光刻胶剥离液制造工艺配方精选汇编》

石墨烯生产 新技术新工艺
《石墨烯采暖电热膜制造工艺配方精选汇编》

New Technology Of Graphite Materials

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《石墨烯采暖电热膜制造工艺配方精选汇编》！产品应用，产品配方生产工艺技术。技术新，环保，涉及面广。内容涵盖技术背景/原理、材料配方比例、制作方法、工艺步骤、结构设计图（部分设备类有），以及发明人名称、地址、邮编、申请日期、专利号、权利要求等详细信息！！！

《石墨烯采暖电热膜制造工艺配方精选汇编》

石墨烯生产技术配方及应用专辑》

石墨烯由于具有优异的光学、电学、力学特性等被认为是一种未来革命性的材料。基于石墨烯优异的导电、导热性能，以石墨烯为发热体的供暖产品在市场中越来越多。

石墨烯电热膜是通电后可产生热能的聚酯薄膜发热系统，热转换率高达 99.28%，是目前所有电采暖系统热转化效率最高的，电热膜技术最早应用于航天工业，随着技术的不断成熟和发展，逐渐转为民用，并成功应用于建筑供暖。是加工高科技产品，一般用于石墨烯地暖、养生加热垫、加热榻榻米、电热炕、汗蒸房等。石墨烯电热膜产品具备了很多优势。自限温特性：电热膜拥有自限温特性，避免局部过热引起的地面塌陷问题，即使温控器在失灵状态下，电热膜本身也不会出现温度过高现象的发生，使用更安全。

中国在石墨烯研究上也具有独特的优势，从生产角度看，作为石墨烯生产原料的石墨，在我国储能丰富，价格低廉。正是看到了石墨烯的应用前景，许多国家纷纷建立石墨烯相关技术研发中心，尝试使用石墨烯商业化，进而在工业、技术和电子相关领域获得潜在的应用专利.

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2025版《日本光刻胶剥离液制造工艺配方精选汇编》

日本在全球光刻胶及剥离液市场中占据主导地位，尤其是在高端光刻胶领域。然而，中国通过政策支持、技术研发和产业链协同，正在加速实现光刻胶及相关材料的国产化替代。尽管短期内仍面临供应风险和技术挑战，但长期来看，国产光刻胶的自主可控将成为中国半导体产业发展的关键。

　　本资料是收录涉及日本光刻胶剥离剂最新专利技术资料，资料中包括制造原料、配方、生产工艺、产品性能测试及标准、实际应用效果，技术指标，解决的具体问题等等，是企业提高产品质量和发展新产品的重要、实用、超值和难得的技术资料。

【资料内容】制造工艺及配方
【资料语种】英文中文
【项目数量】54项
【电子版】1980元（PDF文档邮件发送）

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价格：￥ 1980.00

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日本在全球光刻胶及剥离液市场中占据主导地位，尤其是在高端光刻胶领域。然而，中国通过政策支持、技术研发和产业链协同，正在加速实现光刻胶及相关材料的国产化替代。尽管短期内仍面临供应风险和技术挑战，但长期来看，国产光刻胶的自主可控将成为中国半导体产业发展的关键。

　　本资料是收录涉及日本光刻胶剥离剂最新专利技术资料，资料中包括制造原料、配方、生产工艺、产品性能测试及标准、实际应用效果，技术指标，解决的具体问题等等，是企业提高产品质量和发展新产品的重要、实用、超值和难得的技术资料。

【资料内容】制造工艺及配方
【资料语种】英文中文
【项目数量】54项
【电子版】1980元（PDF文档邮件发送）

1	硬化物層を基板から剥離する剥離方法、パターン化された硬化物層を備える基板の製造方法、及び剥離液	東京応化工業株式会社
2	樹脂マスク剥離用洗浄剤組成物	花王株式会社
3	レジスト剥離液	太陽インキ製造株式会社
4	フォトレジスト剥離液	ナガセケムテックス株式会社
5	フォトレジスト剥離組成物	関東化学株式会社
6	レジスト剥離液組成物及びそれを用いたパターン形成方法	東友ファインケム株式会社
7	回路基板用樹脂膜剥離剤	日油株式会社
8	レジストの剥離液	株式会社ＪＣＵ
9	レジスト用剥離組成物	三洋化成工業株式会社
10	レジスト剥離液組成物	野村マイクロ・サイエンス株式会社
11	レジスト剥離液及びレジストの剥離方法	ナガセケムテックス株式会社
12	ネガ型樹脂マスク剥離用洗浄剤組成物	花王株式会社
13	レジスト剥離液及びレジスト剥離方法	野村マイクロ・サイエンス株式会社
14	剥離液、これを用いた剥離方法および半導体基板製品の製造方法	富士フイルム株式会社
15	レジスト剥離液とその製造方法	パナソニックＩＰマネジメント株式会社
16	フォトレジスト用剥離液	パナソニックＩＰマネジメント株式会社
17	レジスト剥離剤及びそれを用いたレジスト剥離方法	東ソー株式会社
18	フォトリソグラフィ用剥離液及びパターン形成方法	東京応化工業株式会社
19	レジスト剥離液の組成比維持装置およびレジスト剥離液の組成比維持方法	パナソニックＩＰマネジメント株式会社
20	変性レジストの剥離液、これを用いた変性レジストの剥離方法および半導体基板製品の製造方法	富士フイルム株式会社
21	パターン剥離方法、電子デバイスの製造方法	富士フイルム株式会社
22	レジスト剥離液及びレジスト剥離方法	旭化成イーマテリアルズ株式会社
23	レジスト剥離液	パナソニック株式会社
24	レジスト剥離剤組成物	ライオン株式会社
25	レジスト除去液およびレジスト剥離方法	富士フイルム株式会社
26	フォトレジスト剥離液組成物	パナソニックＩＰマネジメント株式会社
27	フォトリソグラフィ用剥離液、及びパターン形成方法	東京応化工業株式会社
28	レジスト剥離剤及びそれを用いた剥離方法	東ソー株式会社
29	レジスト剥離剤	野村マイクロ・サイエンス株式会社
30	レジスト剥離液の劣化抑制方法、レジスト剥離方法及びシステム	三菱瓦斯化学株式会社
31	レジスト剥離液およびレジスト剥離方法	富士フイルム株式会社
32	剥離剤組成物	パナソニックＩＰマネジメント株式会社
33	剥離液リサイクルシステムと運転方法および剥離液のリサイクル方法	パナソニック株式会社
34	フォトレジスト用剥離液	パナソニック株式会社
35	フォトレジスト剥離剤組成物	三菱瓦斯化学株式会社
36	レジスト剥離剤組成物及び当該組成物を用いたレジストの剥離方法	和光純薬工業株式会社
37	レジスト剥離液組成物及びこれを用いたレジストの剥離方法	東友ファインケム株式会社
38	フォトレジスト剥離剤組成物及びフォトレジスト剥離方法	ナガセケムテックス株式会社
39	レジスト剥離剤組成物及びそれを用いたレジスト剥離方法	出光興産株式会社
40	防食性フォトレジスト剥離剤組成物	出光興産株式会社
41	フェニルジケトン誘導体を含有する防食剤又は剥離剤。	宇部興産株式会社
42	インドール化合物を含有する防食剤又は剥離剤。	宇部興産株式会社
43	レジスト剥離液	東ソー株式会社
44	レジスト剥離液	パナソニックＩＰマネジメント株式会社
45	ビアリール化合物を含有する防食剤又は剥離剤。	宇部興産株式会社
46	レジスト剥離剤用化合物及びそれを用いたレジスト剥離剤	出光興産株式会社
47	剥離用組成物および剥離方法	旭硝子株式会社
48	半導体デバイスの剥離液、及び、剥離方法	富士フイルム株式会社
49	レジスト用剥離剤組成物及び半導体装置の製造方法	ソニー株式会社
50	レジスト剥離剤組成物	東亞合成株式会社
51	フォトレジスト剥離剤組成物	ナガセケムテックス株式会社
52	レジスト剥離剤及びその製造方法	出光興産株式会社
53	粒子を含有するレジスト剥離液及びそれを用いた剥離方法	富士フイルム株式会社
54	フォトレジスト剥離液組成物	三菱瓦斯化学株式会社

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《石墨材料新技术》

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