《氧化锆陶瓷制造工艺配方精选》    
     
耐高温  机械强度高  耐损耗   超高功率  国家标准产品
New Technology Of Graphite Materials
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  • 氧化锆陶瓷高新技术!产品应用,产品配方 生产工艺技术。技术新,环保,涉及面广。内容涵盖技术背景/原理、材料配方比例、制作方法、工艺步骤、结构设计图(部分设备类有),以及发明人名称、地址、邮编、申请日期、专利号、权利要求等详细信息!!!   想要高技术配方! 想生产高性能!想降低成本! 想创业转型! 请订购2021新版《氧化锆陶瓷制造配方及应用新技术精选》!


2021新版《氧化锆陶瓷制造工艺配方精选》

         氧化锆陶瓷的生产要求制备高纯、分散性能好、粒子超细、粒度分布窄的粉体,氧化锆超细粉末的制备方法很多,氧化锆的提纯主要有氯化和热分解法、碱金属氧化分解法、石灰熔融法、等离子弧法、沉淀法、胶体法、水解法、喷雾热解法等。粉体加工方法有共沉淀法、溶胶一凝胶法、蒸发法、超临界合成法、微乳液法、水热合成法网及气相沉积法等.


       在功能陶瓷方面,其优异的耐高温性能作为感应加热管、耐火材料、发热元件使用。氧化锆陶瓷具有敏感的电性能参数,主要应用于氧传感器、固体氧化物燃料电池(Solid Oxide Fuel Cell, SOFC)和高温发热体等领域。ZrO2具有较高的折射率(N-21^22),在超细的氧化锆粉末中添加一定的着色元素(V2O5, MoO3, Fe2O3等),可将它制成多彩的半透明多晶ZrO2材料,像天然宝石一样闪烁着绚丽多彩的光芒,可制成各种装饰品。另外,氧化锆在热障涂层、催化剂载体、医疗、保健、耐火材料、纺织等领域正得到广泛应用。


       为了配合国家产业政策向广大企业、科研院校提供的我国及国外最新工艺功能陶瓷及耐火制品技术制造工艺配方专利汇编技术资料。资料中每个项目包含了最详细的技术制造 资料,现有技术问题及解决方案、产品生产工艺、配方、产品性能测试,对比分析。资料信息量大,实用性强,是从事新产品开发、参与市场竞争的必备工具。 本篇汇编资料分为精装合订本和光盘版,内容相同,用户可根据自己需求购买。现货发行,欢迎新老客户选购。特快专递邮寄。资料分为上、下两册,A4纸大,共748页现货发行,欢迎订购

地    址:北京市中国公安大学南门中企财写字楼B座415 (100038)
电    话:010-63488305  
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2025版《日本光刻胶剥离液制造工艺配方精选汇编》

2025版《日本光刻胶剥离液制造工艺配方精选汇编》

日本在全球光刻胶及剥离液市场中占据主导地位,尤其是在高端光刻胶领域。然而,中国通过政策支持、技术研发和产业链协同,正在加速实现光刻胶及相关材料的国产化替代。尽管短期内仍面临供应风险和技术挑战,但长期来看,国产光刻胶的自主可控将成为中国半导体产业发展的关键。

  本资料是收录涉及日本光刻胶剥离剂最新专利技术资料,资料中包括制造原料、配方、生产工艺、产品性能测试及标准、实际应用效果,技术指标,解决的具体问题等等,是企业提高产品质量和发展新产品的重要、实用、超值和难得的技术资料。


【资料内容】制造工艺及配方
【资料语种】英文 中文
【项目数量】54项
电子版】1980元(PDF文档  邮件发送)


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日本在全球光刻胶及剥离液市场中占据主导地位,尤其是在高端光刻胶领域。然而,中国通过政策支持、技术研发和产业链协同,正在加速实现光刻胶及相关材料的国产化替代。尽管短期内仍面临供应风险和技术挑战,但长期来看,国产光刻胶的自主可控将成为中国半导体产业发展的关键。

  本资料是收录涉及日本光刻胶剥离剂最新专利技术资料,资料中包括制造原料、配方、生产工艺、产品性能测试及标准、实际应用效果,技术指标,解决的具体问题等等,是企业提高产品质量和发展新产品的重要、实用、超值和难得的技术资料。


【资料内容】制造工艺及配方
【资料语种】英文 中文
【项目数量】54项
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目录

1硬化物層を基板から剥離する剥離方法、パターン化された硬化物層を備える基板の製造方法、及び剥離液東京応化工業株式会社
2樹脂マスク剥離用洗浄剤組成物花王株式会社
3レジスト剥離液太陽インキ製造株式会社
4フォトレジスト剥離液ナガセケムテックス株式会社
5フォトレジスト剥離組成物関東化学株式会社
6レジスト剥離液組成物及びそれを用いたパターン形成方法東友ファインケム株式会社
7回路基板用樹脂膜剥離剤日油株式会社
8レジストの剥離液株式会社JCU
9レジスト用剥離組成物三洋化成工業株式会社
10レジスト剥離液組成物野村マイクロ・サイエンス株式会社
11レジスト剥離液及びレジストの剥離方法ナガセケムテックス株式会社
12ネガ型樹脂マスク剥離用洗浄剤組成物花王株式会社
13レジスト剥離液及びレジスト剥離方法野村マイクロ・サイエンス株式会社
14剥離液、これを用いた剥離方法および半導体基板製品の製造方法富士フイルム株式会社
15レジスト剥離液とその製造方法パナソニックIPマネジメント株式会社
16フォトレジスト用剥離液パナソニックIPマネジメント株式会社
17レジスト剥離剤及びそれを用いたレジスト剥離方法東ソー株式会社
18フォトリソグラフィ用剥離液及びパターン形成方法東京応化工業株式会社
19レジスト剥離液の組成比維持装置およびレジスト剥離液の組成比維持方法パナソニックIPマネジメント株式会社
20変性レジストの剥離液、これを用いた変性レジストの剥離方法および半導体基板製品の製造方法富士フイルム株式会社
21パターン剥離方法、電子デバイスの製造方法富士フイルム株式会社
22レジスト剥離液及びレジスト剥離方法旭化成イーマテリアルズ株式会社
23レジスト剥離液パナソニック株式会社
24レジスト剥離剤組成物ライオン株式会社
25レジスト除去液およびレジスト剥離方法富士フイルム株式会社
26フォトレジスト剥離液組成物パナソニックIPマネジメント株式会社
27フォトリソグラフィ用剥離液、及びパターン形成方法東京応化工業株式会社
28レジスト剥離剤及びそれを用いた剥離方法東ソー株式会社
29レジスト剥離剤野村マイクロ・サイエンス株式会社
30レジスト剥離液の劣化抑制方法、レジスト剥離方法及びシステム三菱瓦斯化学株式会社
31レジスト剥離液およびレジスト剥離方法富士フイルム株式会社
32剥離剤組成物パナソニックIPマネジメント株式会社
33剥離液リサイクルシステムと運転方法および剥離液のリサイクル方法パナソニック株式会社
34フォトレジスト用剥離液パナソニック株式会社
35フォトレジスト剥離剤組成物三菱瓦斯化学株式会社
36レジスト剥離剤組成物及び当該組成物を用いたレジストの剥離方法和光純薬工業株式会社
37レジスト剥離液組成物及びこれを用いたレジストの剥離方法東友ファインケム株式会社
38フォトレジスト剥離剤組成物及びフォトレジスト剥離方法ナガセケムテックス株式会社
39レジスト剥離剤組成物及びそれを用いたレジスト剥離方法出光興産株式会社
40防食性フォトレジスト剥離剤組成物出光興産株式会社
41フェニルジケトン誘導体を含有する防食剤又は剥離剤。宇部興産株式会社
42インドール化合物を含有する防食剤又は剥離剤。宇部興産株式会社
43レジスト剥離液東ソー株式会社
44レジスト剥離液パナソニックIPマネジメント株式会社
45ビアリール化合物を含有する防食剤又は剥離剤。宇部興産株式会社
46レジスト剥離剤用化合物及びそれを用いたレジスト剥離剤出光興産株式会社
47剥離用組成物および剥離方法旭硝子株式会社
48半導体デバイスの剥離液、及び、剥離方法富士フイルム株式会社
49レジスト用剥離剤組成物及び半導体装置の製造方法ソニー株式会社
50レジスト剥離剤組成物東亞合成株式会社
51フォトレジスト剥離剤組成物ナガセケムテックス株式会社
52レジスト剥離剤及びその製造方法出光興産株式会社
53粒子を含有するレジスト剥離液及びそれを用いた剥離方法富士フイルム株式会社
54フォトレジスト剥離液組成物三菱瓦斯化学株式会社



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