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《3D打印-尼龙粉 制造工艺配方精选》


3D打印尼龙粉概述
尼龙粉是一种常用于3D打印的热塑性材料,具有高强度、耐磨性、耐化学腐蚀性以及良好的机械性能。它广泛应用于选择性激光烧结(SLS)、多喷射熔融(MJF)等3D打印工艺。

3D打印尼龙粉的常见类型
尼龙11(PA11):具有良好的抗紫外线和抗冲击性能,适合户外使用。
尼龙12(PA12):强度和刚度更高,是SLS打印中最常用的材料之一。
复合尼龙材料:如玻璃纤维增强尼龙(如Nylon 12 GF Powder)和碳纤维增强尼龙(如Nylon 11 CF Powder),这些材料在强度和刚性上表现更优。

3D打印尼龙粉的应用领域
工业制造:用于制造机械零件、齿轮、轴承等,具有良好的耐磨性和机械强度。
汽车与航空航天:用于制造功能测试部件、发动机进气歧管、轻量化结构件等。
医疗领域:可用于制造生物相容性好的医疗器械。
消费品:如运动器材、鞋底模具等。

3D打印尼龙粉的优势
高精度与复杂结构:SLS和MJF工艺可以实现复杂几何形状的打印,无需支撑结构。
材料可重复使用:未烧结的尼龙粉末可以回收再利用,减少浪费。
良好的表面处理:尼龙粉末打印的部件表面可以进行喷砂、喷漆等后处理。

3D打印尼龙粉的局限性
吸湿性:尼龙材料容易吸收空气中的水分,可能导致打印件变形或性能下降。
表面粗糙度:MJF打印的部件表面相对粗糙,需要额外的后处理。
材料选择有限:与FDM等其他3D打印技术相比,SLS和MJF的材料种类相对较少。

总结
3D打印尼龙粉因其优异的机械性能和广泛的适用性,在工业制造、汽车、航空航天等领域具有重要的应用价值。然而,其吸湿性和表面粗糙度等局限性也需要在实际应用中加以注意。


2025版《光刻胶剥离液制造工艺配方精选汇编》

2025版《光刻胶剥离液制造工艺配方精选汇编》

日本在全球光刻胶及剥离液市场中占据主导地位,尤其是在高端光刻胶领域。然而,中国通过政策支持、技术研发和产业链协同,正在加速实现光刻胶及相关材料的国产化替代。尽管短期内仍面临供应风险和技术挑战,但长期来看,国产光刻胶的自主可控将成为中国半导体产业发展的关键。

  本资料是收录涉及国内光刻胶剥离剂最新专利技术资料,资料中包括制造原料、配方、生产工艺、产品性能测试及标准、实际应用效果,技术指标,解决的具体问题等等,是企业提高产品质量和发展新产品的重要、实用、超值和难得的技术资料。


【资料内容】制造工艺及配方
【资料语种】中文
【项目数量】56项
电子版】1480元(PDF文档  邮件发送)


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日本在全球光刻胶及剥离液市场中占据主导地位,尤其是在高端光刻胶领域。然而,中国通过政策支持、技术研发和产业链协同,正在加速实现光刻胶及相关材料的国产化替代。尽管短期内仍面临供应风险和技术挑战,但长期来看,国产光刻胶的自主可控将成为中国半导体产业发展的关键。

  本资料是收录涉及国内光刻胶剥离剂最新专利技术资料,资料中包括制造原料、配方、生产工艺、产品性能测试及标准、实际应用效果,技术指标,解决的具体问题等等,是企业提高产品质量和发展新产品的重要、实用、超值和难得的技术资料。


【资料内容】制造工艺及配方
【资料语种】中文
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目录

1一种长效光刻胶剥离液及其应用上海戎洲芯科技有限公司
2一种光刻胶剥离液及其制备方法和应用福建泓光半导体材料有限公司
3一种低腐蚀、易清洗的芯片光刻胶剥离液、其制备方法及用途浙江奥首材料科技有限公司
4一种能够保护GaAs和PI衬底的光刻胶剥离液及其应用芯越微电子材料(嘉兴)有限公司
5一种聚乙烯醇肉桂酸酯型KPR光刻胶蚀刻残留剥离剂组合物深圳迪道微电子科技有限公司
6AMOLED领域用水性光刻胶剥离液及其制备方法苏州博洋化学股份有限公司
7一种显示面板用水系光刻胶剥离液及其制备方法和应用浙江奥首材料科技有限公司
8一种光刻胶剥离液、其制备方法及应用北京盛剑微电子技术有限公司
9一种显示面板用正性光刻胶剥离液及其制备方法和应用浙江奥首材料科技有限公司
10一种光刻胶剥离液、其制备方法与应用浙江奥首材料科技有限公司
11光刻胶清洗液及其制备方法、应用上海盛剑微电子有限公司
12一种用于显示面板的水基型光刻胶剥离液、制备方法及应用浙江奥首材料科技有限公司
13一种高回收率的光刻胶剥离液合肥中聚和成电子材料有限公司
14一种低腐蚀芯片光刻胶剥离液、其制备方法及应用浙江奥首材料科技有限公司
15一种显示面板光刻胶剥离液及其制备方法与应用浙江奥首材料科技有限公司
16一种芯片光刻胶剥离液、其制备方法及用途浙江奥首材料科技有限公司
17光刻胶剥离液及其应用上海盛剑微电子有限公司
18一种可再生光刻胶剥离液及其制备方法惠州达诚微电子材料有限公司
19一种铜钼基板用光刻胶剥离液合肥中聚和成电子材料有限公司
20用于制造液晶显示的光刻胶剥离剂组合物安庆市鑫祥瑞环保科技有限公司
21一种用于半导体化合物光刻胶的剥离液、其制备方法及用途浙江奥首材料科技有限公司
22一种水性光刻胶剥离液及其制备方法安庆市鑫祥瑞环保科技有限公司
23光刻胶剥离组合物关东化学株式会社
24光刻胶剥离液及其制备方法和应用深圳市信维通信股份有限公司
25光刻胶剥离组合物关东化学株式会社
26一种半导体芯片光刻胶剥离液及其制备方法与应用浙江奥首材料科技有限公司
27一种正性光刻胶剥离液组合物易安爱富(武汉)科技有限公司
28高耐热性光刻胶的剥离组合物及其应用上海飞凯材料科技股份有限公司
29一种耐高温低腐蚀光刻胶剥离液及其制备方法与应用浙江奥首材料科技有限公司
30一种光刻胶用剥离液及其制备方法惠州达诚微电子材料有限公司
31一种高分散芯片光刻胶清洗剂及其制备方法与用途浙江奥首材料科技有限公司
32光刻胶剥离用组合物株式会社东进世美肯
33一种负性光刻胶剥离液无锡中珂芯维科技有限公司
34一种还原性芯片光刻胶剥离液、其制备方法与应用浙江奥首材料科技有限公司
35一种光刻胶有机剥离液及其制备方法和应用绵阳艾萨斯电子材料有限公司
36一种高效缓蚀芯片光刻胶剥离液、其制备方法与用途浙江奥首材料科技有限公司
37一种光刻胶剥离液组合物、制备方法及其应用成都三贡化工有限公司
38一种光刻胶剥离液及其制备方法和应用上海盛剑微电子有限公司
39一种芯片光刻胶剥离剂、其制备方法与应用浙江奥首材料科技有限公司
40一种芯片光刻胶剥离剂组合物、其制备方法与应用浙江奥首材料科技有限公司
41一种用于制备金属凸点的双层正性光刻胶剥离方法南昌大学;南昌硅基半导体科技有限公司
42一种水系光刻胶剥离液合肥中聚和成电子材料有限公司
43光刻胶剥离液及其制备方法和光刻胶的剥离方法上海盛剑微电子有限公司
44一种用于去除铜层负性光刻胶的剥离液及其制备方法和应用江苏艾森半导体材料股份有限公司;艾森半导体材料(南通)有限公司
45一种光刻胶剥离液及其制备方法华璞微电子科技(宁波)有限公司
46一种光刻胶剥离去胶液及其应用工艺江苏长进微电子材料有限公司
47光刻胶剥离液TCL华星光电技术有限公司
48一种金属低蚀刻率光刻胶剥离液组合物及其应用昆山欣谷微电子材料有限公司
49用于半导体化合物光刻胶的剥离剂、其制备方法及用途江苏奥首材料科技有限公司
50一种用于三五族半导体化合物光刻胶的剥离剂、其制备方法及用途江苏奥首材料科技有限公司
51一种改进的环保水系光刻胶剥离液江阴江化微电子材料股份有限公司
52光刻胶剥离液组合物及其制备方法易安爱富科技有限公司
53一种正性光刻胶剥离液组合物及应用易安爱富(武汉)科技有限公司
54一种光刻胶剥离液组合物合肥中聚和成电子材料有限公司
55PFA光刻胶再生剥离液及其制备方法与应用绵阳艾萨斯电子材料有限公司
56一种光刻胶剥离液及其制备方法芯越微电子材料(嘉兴)有限公司