欢迎光临国际新技术资料网
国际新技术资料网
咨询热线:13141225688

《水性环氧地坪涂料制造工艺配方精选》

       


         国际新技术网编辑:为了更好的为读者呈现国际、国内外新型涂料技术详细内容,满足企业读者不同需求,共同探讨涂料制造的技术动态,恒志信科技公司独家推出《涂料新技术》资料版块,深度披露现今涂料制造与研制的发展方向,以及新工艺和产品用途,呈现我国涂料未来研制的技术环境及产品走向,欢迎关注!


         重防腐涂料能在苛刻条件下使用,并具有长效防腐寿命,重防腐涂料在化工大气和海洋环境里,一般可使用10年或15年以上,即使在酸、碱、盐和溶剂介质里,并在一定温度条件下,也能使用5年以上。厚膜化是重防腐涂料的重要标志。一般防腐涂料的涂层干膜厚度为100μm或150μm左右,而重防腐涂料干膜厚度则在200μm或300μm以上,还有500μm~1000μm,甚至高达2000μm。涂层与基体结合力强,涂料组成物中含有羟基(-OH),金属基体提供正离子,能形成化学键结合,在涂料中的偶联剂帮助下,甚至实现共价链的结合。在空间网状结构维系下,涂料组合物中含有的金属、金属氧化物纳米材料和稀土氧化物超微粉体,帮助涂层形成一个致密的界面过渡层,使其综合热力学性质与基体相匹配。


         防腐涂料应用领域主要有以下五个方面:


         1、新兴海洋工程:海上设施、海岸及海湾构造物、海上石油钻井平台;


         2、现代交通运输:高速公路护栏、桥梁、船艇、集装箱、火车及铁道设施、汽车、机场设施;


         3、能源工业:水工设备、水罐、气罐、石油精制设备、石油贮存设备(油管、油罐)、输变电设备、核电、煤矿;


         4、大型工业企业:造纸设备、医药设备、食品化工设备、金属容器内外壁、化工、钢铁、石化厂的管道、贮槽、矿山冶炼、水泥厂设备、有腐蚀介质的地面、墙壁、水泥构件;


         5、市政设施:煤气管道及其设施(如煤气柜)、天然气管道、饮水设施、垃圾处理设备等;


         防腐涂料已成为涂料领域的重要的生力军,防腐涂料发挥着越来越大的作用,发展前景可观。但传统产品逐渐改进完善,新的产品不断研发问世,要适应防腐市场和环保法规发展中新的标准和要求,尚需积极进取,持续创新。根据业内专家人士分析:现今防腐涂料价格明显呈上升趁势,这和对船舶涂料,海洋开发有关。近几年国家一直在对地球十分之七的海洋加大投资力度,其中防腐涂料就是这一块中的一个突出点。海洋采油平台是固定和半固定在海洋中的大型钢结构,长期受到海洋环境的严重腐蚀。由于平台远离大陆维修困难,所以要求防腐涂料对平台的保护寿命至少在15年以上,因此要采用重防腐涂料和耐久性高的长效防腐涂层配套体系。


         本篇是为了配合国家产业政策向广大企业、科研院校提供重防腐涂料技术制造工艺配方汇编技术资料。资料中每个项目包含了最详细的技术制造资料,现有技术问题及解决方案、产品生产工艺、配方、产品性能测试,对比分析。资料信息量大,实用性强,是从事新产品开发、参与市场竞争的必备工具。


         本篇系列汇编资料分为为精装合订本和光盘版,内容相同,用户可根据自己需求购买。


2025版《日本光刻胶制造工艺配方精选汇编》

2025版《日本光刻胶制造工艺配方精选汇编》

日本企业占据了全球光刻胶市场约70%到90%的份额,尤其在高端的ArF和EUV光刻胶领域,市场份额甚至超过90%。这些高端光刻胶是半导体制造中不可或缺的关键材料,直接影响芯片的性能和制造精度。

本篇资料收录了日本著名公司光刻胶制造专利技术,涉及:工艺、配方、制备方法等,是我国从事光刻胶行业研究生产单位的重要参考资料。

【资料内容】生产工艺、配方
【出品单位】国际新技术资料网
【资料语种】日文
【电  子 版】1680元(PDF文档 邮箱发送)
【联系电话】13141225688 梅兰(女士)

0.00
1680.00
数量:
立即购买
加入购物车
  

日本企业占据了全球光刻胶市场约70%到90%的份额,尤其在高端的ArF和EUV光刻胶领域,市场份额甚至超过90%。这些高端光刻胶是半导体制造中不可或缺的关键材料,直接影响芯片的性能和制造精度。

本篇资料收录了日本著名公司光刻胶制造专利技术,涉及:工艺、配方、制备方法等,是我国从事光刻胶行业研究生产单位的重要参考资料。

【资料内容】生产工艺、配方
【出品单位】国际新技术资料网
【资料语种】日文
【电  子 版】1680元(PDF文档 邮箱发送)
【联系电话】13141225688 梅兰(女士)

目录

1半導体フォトレジスト用組成物およびこれを利用したパターン形成方法三星エスディアイ株式会社
2フォトレジスト用樹脂、フォトレジスト組成物および硬化物日油株式会社
3金属含有フォトレジスト現像液組成物、およびこれを利用した現像段階を含むパターン形成方法三星エスディアイ株式会社
4金属含有フォトレジストのエッジビーズ除去用組成物または金属含有フォトレジストの現像液組成物、およびこれを利用したパターン形成方法三星エスディアイ株式会社
5フォトレジスト上層膜用組成物およびこれを利用したパターン形成方法三星エスディアイ株式会社
6半導体フォトレジスト用組成物およびこれを用いたパターン形成方法三星エスディアイ株式会社
7金属含有フォトレジスト用現像液組成物、およびこれを用いた現像段階を含むパターン形成方法三星エスディアイ株式会社
8有機塩、それを含むフォトレジスト組成物、及びフォトレジスト組成物を用いるパターン形成方法三星電子株式会社
9金属含有フォトレジスト用現像液組成物、およびこれを用いた現像工程を含むパターン形成方法三星エスディアイ株式会社
10重合性化合物、酸発生剤、樹脂、及びフォトレジストサンアプロ株式会社
11有機金属化合物、フォトレジスト用感光材、及びフォトレジストサンアプロ株式会社
12スルホニウム塩、前記スルホニウム塩を含む酸発生剤、及び前記スルホニウム塩を含むフォトレジストサンアプロ株式会社
13金属含有膜形成用化合物、金属含有膜形成用組成物、パターン形成方法、及び半導体フォトレジスト材料信越化学工業株式会社
14電着フォトレジスト用塗料組成物株式会社シミズ
15カルボン酸塩、それを含むフォトレジスト組成物、及びそのフォトレジスト組成物を用いるパターン形成方法三星電子株式会社
16フォトレジスト剥離液ナガセケムテックス株式会社
17金属含有フォトレジスト現像液組成物、およびこれを用いた現像工程を含むパターン形成方法三星エスディアイ株式会社
18フォトレジスト用剥離液及びこれを用いた基板の処理方法東京応化工業株式会社
19フォトレジスト剥離組成物関東化学株式会社
20電着フォトレジスト塗膜の剥離方法ハニー化成株式会社
21改良されたフォトレジスト製剤船井電機株式会社
22光酸発生剤、それを含むフォトレジスト組成物、及びそれを利用したパターン形成方法三星電子株式会社
23パターン化された有機金属フォトレジスト及びパターニングの方法インプリア・コーポレイション
24化合物、前記化合物を含む酸発生剤、フォトレジスト、及び前記フォトレジストを使用した電子デバイスの製造方法サンアプロ株式会社
25ノボラック型フェノール樹脂、ノボラック型フェノール樹脂の製造方法、及びフォトレジスト組成物明和化成株式会社
26複合フォトレジスト材料とその製造方法、および流体吐出ヘッド船井電機株式会社
27ネガ型レジスト樹脂組成物およびネガ型フォトレジスト樹脂組成物サンアプロ株式会社
28ノズルプレートの接着性を強化するためのフォトレジストイメージングおよび現像船井電機株式会社
29フォトレジスト組成物及びパターン形成方法ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシー
30半導体フォトレジスト用組成物およびそれを用いたパターン形成方法三星エスディアイ株式会社
31半導体フォトレジスト用組成物およびその製造方法、ならびにこれを用いたパターン形成方法三星エスディアイ株式会社
32フォトレジスト樹脂の製造方法株式会社ダイセル
33フォトレジスト組成物、液体吐出ヘッド及び液体吐出ヘッドの製造方法キヤノン株式会社
34フォトレジストパターン形成方法東京応化工業株式会社
35フォトレジスト用のノボラック型フェノール樹脂およびその製造方法、ならびにフォトレジスト用の感光性樹脂組成物住友ベークライト株式会社
36フォトレジストの特性解析方法および特性解析装置フェムトディプロイメンツ株式会社
37フォトレジスト組成物およびその硬化物太陽インキ製造株式会社
38ネガ型カチオン性電着フォトレジスト用樹脂組成物及びそれを電着塗装してなる塗膜ハニー化成株式会社
39フォトレジスト用フェノール樹脂組成物及びフォトレジスト組成物明和化成株式会社
40厚膜用フォトレジスト組成物及び厚膜フォトレジストパターン形成方法東京応化工業株式会社
41単量体、フォトレジスト用樹脂、フォトレジスト用樹脂組成物、及びパターン形成方法株式会社ダイセル
42フォトレジスト除去用組成物三菱ガス化学トレーディング株式会社
43フォトレジスト用組成物株式会社ダイセル
44フォトレジスト用樹脂、フォトレジスト用樹脂の製造方法及びフォトレジスト組成物明和化成株式会社
45感光性樹脂組成物、これを用いたフォトレジストフィルム、及びレジストパターンの形成方法ニッコー・マテリアルズ株式会社
46フォトレジスト用樹脂、フォトレジスト用樹脂の製造方法、フォトレジスト用樹脂組成物、及びパターン形成方法株式会社ダイセル
47重合性化合物、重合性組成物、重合体及びフォトレジスト用組成物JNC株式会社
48フォトレジスト用保護フィルム三菱ケミカル株式会社
49フォトレジスト及びフォトリソグラフィ日本化成株式会社
50フォトレジスト塗布装置トヨタ自動車株式会社
51化学増幅型フォトレジスト組成物サンアプロ株式会社
52化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物サンアプロ株式会社
53ネガ型フォトレジスト用樹脂組成物及び硬化膜サンアプロ株式会社
54光発生装置、光発生装置を備える露光装置、露光システム、光発生方法、及び露光フォトレジスト製造方法公立大学法人兵庫県立大学
55誘導自己組織化用の化学テンプレートを形成するための硬化フォトレジストのUV支援剥離東京エレクトロン株式会社
56ネガティブトーン現像剤相溶性フォトレジスト組成物及び使用方法トーキョー エレクトロン ユーエス ホールディングス,インコーポレーテッド
57機能構造体製造方法及びフォトレジスト処理装置ウシオ電機株式会社
58ポジ型フォトレジスト住友精化株式会社
59コーティング用組成物およびフォトレジスト積層体の製造方法旭硝子株式会社
60フォトレジスト組成物及びこれを利用する微細パターン形成方法三星電子株式会社
61フォトレジスト用樹脂、フォトレジスト樹脂の製造方法、フォトレジスト用樹脂組成物、及びパターン形成方法株式会社ダイセル
62フォトレジストフィルム、レジストパターンの形成方法、および導体パターンの形成方法ニッコー・マテリアルズ株式会社
63ドライフィルムフォトレジスト支持体二軸配向ポリエステルフィルム東レ株式会社
64アルコール誘導体、アクリル酸エステル誘導体、混合物、高分子化合物およびフォトレジスト組成物株式会社クラレ
65コーティング用組成物の製造方法およびフォトレジスト積層体の製造方法AGC株式会社
66フォトレジスト成分濃度測定装置および濃度測定方法パナソニックIPマネジメント株式会社
67ポジ型フォトレジスト組成物東京応化工業株式会社
68フォトレジスト組成物並びにそれを用いたドライエッチング用マスク及び積層体旭化成イーマテリアルズ株式会社
69半導体基板処理装置、フォトレジストを剥離する方法、および半導体装置の製造方法セイコーインスツル株式会社
70フォトレジスト用活性エネルギー線硬化性組成物ダイセル・オルネクス株式会社