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《水性环氧地坪涂料制造工艺配方精选》

       


         国际新技术网编辑:为了更好的为读者呈现国际、国内外新型涂料技术详细内容,满足企业读者不同需求,共同探讨涂料制造的技术动态,恒志信科技公司独家推出《涂料新技术》资料版块,深度披露现今涂料制造与研制的发展方向,以及新工艺和产品用途,呈现我国涂料未来研制的技术环境及产品走向,欢迎关注!


         重防腐涂料能在苛刻条件下使用,并具有长效防腐寿命,重防腐涂料在化工大气和海洋环境里,一般可使用10年或15年以上,即使在酸、碱、盐和溶剂介质里,并在一定温度条件下,也能使用5年以上。厚膜化是重防腐涂料的重要标志。一般防腐涂料的涂层干膜厚度为100μm或150μm左右,而重防腐涂料干膜厚度则在200μm或300μm以上,还有500μm~1000μm,甚至高达2000μm。涂层与基体结合力强,涂料组成物中含有羟基(-OH),金属基体提供正离子,能形成化学键结合,在涂料中的偶联剂帮助下,甚至实现共价链的结合。在空间网状结构维系下,涂料组合物中含有的金属、金属氧化物纳米材料和稀土氧化物超微粉体,帮助涂层形成一个致密的界面过渡层,使其综合热力学性质与基体相匹配。


         防腐涂料应用领域主要有以下五个方面:


         1、新兴海洋工程:海上设施、海岸及海湾构造物、海上石油钻井平台;


         2、现代交通运输:高速公路护栏、桥梁、船艇、集装箱、火车及铁道设施、汽车、机场设施;


         3、能源工业:水工设备、水罐、气罐、石油精制设备、石油贮存设备(油管、油罐)、输变电设备、核电、煤矿;


         4、大型工业企业:造纸设备、医药设备、食品化工设备、金属容器内外壁、化工、钢铁、石化厂的管道、贮槽、矿山冶炼、水泥厂设备、有腐蚀介质的地面、墙壁、水泥构件;


         5、市政设施:煤气管道及其设施(如煤气柜)、天然气管道、饮水设施、垃圾处理设备等;


         防腐涂料已成为涂料领域的重要的生力军,防腐涂料发挥着越来越大的作用,发展前景可观。但传统产品逐渐改进完善,新的产品不断研发问世,要适应防腐市场和环保法规发展中新的标准和要求,尚需积极进取,持续创新。根据业内专家人士分析:现今防腐涂料价格明显呈上升趁势,这和对船舶涂料,海洋开发有关。近几年国家一直在对地球十分之七的海洋加大投资力度,其中防腐涂料就是这一块中的一个突出点。海洋采油平台是固定和半固定在海洋中的大型钢结构,长期受到海洋环境的严重腐蚀。由于平台远离大陆维修困难,所以要求防腐涂料对平台的保护寿命至少在15年以上,因此要采用重防腐涂料和耐久性高的长效防腐涂层配套体系。


         本篇是为了配合国家产业政策向广大企业、科研院校提供重防腐涂料技术制造工艺配方汇编技术资料。资料中每个项目包含了最详细的技术制造资料,现有技术问题及解决方案、产品生产工艺、配方、产品性能测试,对比分析。资料信息量大,实用性强,是从事新产品开发、参与市场竞争的必备工具。


         本篇系列汇编资料分为为精装合订本和光盘版,内容相同,用户可根据自己需求购买。


2025版《日本光刻胶剥离液制造工艺配方精选汇编》

2025版《日本光刻胶剥离液制造工艺配方精选汇编》

日本在全球光刻胶及剥离液市场中占据主导地位,尤其是在高端光刻胶领域。然而,中国通过政策支持、技术研发和产业链协同,正在加速实现光刻胶及相关材料的国产化替代。尽管短期内仍面临供应风险和技术挑战,但长期来看,国产光刻胶的自主可控将成为中国半导体产业发展的关键。

  本资料是收录涉及日本光刻胶剥离剂最新专利技术资料,资料中包括制造原料、配方、生产工艺、产品性能测试及标准、实际应用效果,技术指标,解决的具体问题等等,是企业提高产品质量和发展新产品的重要、实用、超值和难得的技术资料。


【资料内容】制造工艺及配方
【资料语种】英文 中文
【项目数量】54项
电子版】1980元(PDF文档  邮件发送)


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日本在全球光刻胶及剥离液市场中占据主导地位,尤其是在高端光刻胶领域。然而,中国通过政策支持、技术研发和产业链协同,正在加速实现光刻胶及相关材料的国产化替代。尽管短期内仍面临供应风险和技术挑战,但长期来看,国产光刻胶的自主可控将成为中国半导体产业发展的关键。

  本资料是收录涉及日本光刻胶剥离剂最新专利技术资料,资料中包括制造原料、配方、生产工艺、产品性能测试及标准、实际应用效果,技术指标,解决的具体问题等等,是企业提高产品质量和发展新产品的重要、实用、超值和难得的技术资料。


【资料内容】制造工艺及配方
【资料语种】英文 中文
【项目数量】54项
电子版】1980元(PDF文档  邮件发送)


目录

1硬化物層を基板から剥離する剥離方法、パターン化された硬化物層を備える基板の製造方法、及び剥離液東京応化工業株式会社
2樹脂マスク剥離用洗浄剤組成物花王株式会社
3レジスト剥離液太陽インキ製造株式会社
4フォトレジスト剥離液ナガセケムテックス株式会社
5フォトレジスト剥離組成物関東化学株式会社
6レジスト剥離液組成物及びそれを用いたパターン形成方法東友ファインケム株式会社
7回路基板用樹脂膜剥離剤日油株式会社
8レジストの剥離液株式会社JCU
9レジスト用剥離組成物三洋化成工業株式会社
10レジスト剥離液組成物野村マイクロ・サイエンス株式会社
11レジスト剥離液及びレジストの剥離方法ナガセケムテックス株式会社
12ネガ型樹脂マスク剥離用洗浄剤組成物花王株式会社
13レジスト剥離液及びレジスト剥離方法野村マイクロ・サイエンス株式会社
14剥離液、これを用いた剥離方法および半導体基板製品の製造方法富士フイルム株式会社
15レジスト剥離液とその製造方法パナソニックIPマネジメント株式会社
16フォトレジスト用剥離液パナソニックIPマネジメント株式会社
17レジスト剥離剤及びそれを用いたレジスト剥離方法東ソー株式会社
18フォトリソグラフィ用剥離液及びパターン形成方法東京応化工業株式会社
19レジスト剥離液の組成比維持装置およびレジスト剥離液の組成比維持方法パナソニックIPマネジメント株式会社
20変性レジストの剥離液、これを用いた変性レジストの剥離方法および半導体基板製品の製造方法富士フイルム株式会社
21パターン剥離方法、電子デバイスの製造方法富士フイルム株式会社
22レジスト剥離液及びレジスト剥離方法旭化成イーマテリアルズ株式会社
23レジスト剥離液パナソニック株式会社
24レジスト剥離剤組成物ライオン株式会社
25レジスト除去液およびレジスト剥離方法富士フイルム株式会社
26フォトレジスト剥離液組成物パナソニックIPマネジメント株式会社
27フォトリソグラフィ用剥離液、及びパターン形成方法東京応化工業株式会社
28レジスト剥離剤及びそれを用いた剥離方法東ソー株式会社
29レジスト剥離剤野村マイクロ・サイエンス株式会社
30レジスト剥離液の劣化抑制方法、レジスト剥離方法及びシステム三菱瓦斯化学株式会社
31レジスト剥離液およびレジスト剥離方法富士フイルム株式会社
32剥離剤組成物パナソニックIPマネジメント株式会社
33剥離液リサイクルシステムと運転方法および剥離液のリサイクル方法パナソニック株式会社
34フォトレジスト用剥離液パナソニック株式会社
35フォトレジスト剥離剤組成物三菱瓦斯化学株式会社
36レジスト剥離剤組成物及び当該組成物を用いたレジストの剥離方法和光純薬工業株式会社
37レジスト剥離液組成物及びこれを用いたレジストの剥離方法東友ファインケム株式会社
38フォトレジスト剥離剤組成物及びフォトレジスト剥離方法ナガセケムテックス株式会社
39レジスト剥離剤組成物及びそれを用いたレジスト剥離方法出光興産株式会社
40防食性フォトレジスト剥離剤組成物出光興産株式会社
41フェニルジケトン誘導体を含有する防食剤又は剥離剤。宇部興産株式会社
42インドール化合物を含有する防食剤又は剥離剤。宇部興産株式会社
43レジスト剥離液東ソー株式会社
44レジスト剥離液パナソニックIPマネジメント株式会社
45ビアリール化合物を含有する防食剤又は剥離剤。宇部興産株式会社
46レジスト剥離剤用化合物及びそれを用いたレジスト剥離剤出光興産株式会社
47剥離用組成物および剥離方法旭硝子株式会社
48半導体デバイスの剥離液、及び、剥離方法富士フイルム株式会社
49レジスト用剥離剤組成物及び半導体装置の製造方法ソニー株式会社
50レジスト剥離剤組成物東亞合成株式会社
51フォトレジスト剥離剤組成物ナガセケムテックス株式会社
52レジスト剥離剤及びその製造方法出光興産株式会社
53粒子を含有するレジスト剥離液及びそれを用いた剥離方法富士フイルム株式会社
54フォトレジスト剥離液組成物三菱瓦斯化学株式会社