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日本无机高分子絮凝剂新技术

以栗田工業株式会社、三洋化成工業株式会社、ダイヤニトリックス株式会社为代表的日本无机高分子絮凝,以先进的产品配方和生产工艺,占领着水处理高端市场。日本近年来在铝盐和铁盐的基础上发展合成新工艺,涉及聚合硫酸铝、聚合硫酸铁等新型的水处理剂,新型复合水处理药剂,它的出现不仅降低了处理成本,而且提高了功效。


  本篇重点收录了近年来日本企业优秀无机高分子絮凝剂专利技术工艺配方,其技术含量高,工艺配方详细,实用性强。该资料是国内企业掌握国际领先技术配方的重要参考资料,阅读掌握这些优秀配方为企业研发新产品提高会提供最有效的帮助!
2025版《光刻胶剥离液制造工艺配方精选汇编》

2025版《光刻胶剥离液制造工艺配方精选汇编》

日本在全球光刻胶及剥离液市场中占据主导地位,尤其是在高端光刻胶领域。然而,中国通过政策支持、技术研发和产业链协同,正在加速实现光刻胶及相关材料的国产化替代。尽管短期内仍面临供应风险和技术挑战,但长期来看,国产光刻胶的自主可控将成为中国半导体产业发展的关键。

  本资料是收录涉及国内光刻胶剥离剂最新专利技术资料,资料中包括制造原料、配方、生产工艺、产品性能测试及标准、实际应用效果,技术指标,解决的具体问题等等,是企业提高产品质量和发展新产品的重要、实用、超值和难得的技术资料。


【资料内容】制造工艺及配方
【资料语种】中文
【项目数量】56项
电子版】1480元(PDF文档  邮件发送)


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日本在全球光刻胶及剥离液市场中占据主导地位,尤其是在高端光刻胶领域。然而,中国通过政策支持、技术研发和产业链协同,正在加速实现光刻胶及相关材料的国产化替代。尽管短期内仍面临供应风险和技术挑战,但长期来看,国产光刻胶的自主可控将成为中国半导体产业发展的关键。

  本资料是收录涉及国内光刻胶剥离剂最新专利技术资料,资料中包括制造原料、配方、生产工艺、产品性能测试及标准、实际应用效果,技术指标,解决的具体问题等等,是企业提高产品质量和发展新产品的重要、实用、超值和难得的技术资料。


【资料内容】制造工艺及配方
【资料语种】中文
【项目数量】56项
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目录

1一种长效光刻胶剥离液及其应用上海戎洲芯科技有限公司
2一种光刻胶剥离液及其制备方法和应用福建泓光半导体材料有限公司
3一种低腐蚀、易清洗的芯片光刻胶剥离液、其制备方法及用途浙江奥首材料科技有限公司
4一种能够保护GaAs和PI衬底的光刻胶剥离液及其应用芯越微电子材料(嘉兴)有限公司
5一种聚乙烯醇肉桂酸酯型KPR光刻胶蚀刻残留剥离剂组合物深圳迪道微电子科技有限公司
6AMOLED领域用水性光刻胶剥离液及其制备方法苏州博洋化学股份有限公司
7一种显示面板用水系光刻胶剥离液及其制备方法和应用浙江奥首材料科技有限公司
8一种光刻胶剥离液、其制备方法及应用北京盛剑微电子技术有限公司
9一种显示面板用正性光刻胶剥离液及其制备方法和应用浙江奥首材料科技有限公司
10一种光刻胶剥离液、其制备方法与应用浙江奥首材料科技有限公司
11光刻胶清洗液及其制备方法、应用上海盛剑微电子有限公司
12一种用于显示面板的水基型光刻胶剥离液、制备方法及应用浙江奥首材料科技有限公司
13一种高回收率的光刻胶剥离液合肥中聚和成电子材料有限公司
14一种低腐蚀芯片光刻胶剥离液、其制备方法及应用浙江奥首材料科技有限公司
15一种显示面板光刻胶剥离液及其制备方法与应用浙江奥首材料科技有限公司
16一种芯片光刻胶剥离液、其制备方法及用途浙江奥首材料科技有限公司
17光刻胶剥离液及其应用上海盛剑微电子有限公司
18一种可再生光刻胶剥离液及其制备方法惠州达诚微电子材料有限公司
19一种铜钼基板用光刻胶剥离液合肥中聚和成电子材料有限公司
20用于制造液晶显示的光刻胶剥离剂组合物安庆市鑫祥瑞环保科技有限公司
21一种用于半导体化合物光刻胶的剥离液、其制备方法及用途浙江奥首材料科技有限公司
22一种水性光刻胶剥离液及其制备方法安庆市鑫祥瑞环保科技有限公司
23光刻胶剥离组合物关东化学株式会社
24光刻胶剥离液及其制备方法和应用深圳市信维通信股份有限公司
25光刻胶剥离组合物关东化学株式会社
26一种半导体芯片光刻胶剥离液及其制备方法与应用浙江奥首材料科技有限公司
27一种正性光刻胶剥离液组合物易安爱富(武汉)科技有限公司
28高耐热性光刻胶的剥离组合物及其应用上海飞凯材料科技股份有限公司
29一种耐高温低腐蚀光刻胶剥离液及其制备方法与应用浙江奥首材料科技有限公司
30一种光刻胶用剥离液及其制备方法惠州达诚微电子材料有限公司
31一种高分散芯片光刻胶清洗剂及其制备方法与用途浙江奥首材料科技有限公司
32光刻胶剥离用组合物株式会社东进世美肯
33一种负性光刻胶剥离液无锡中珂芯维科技有限公司
34一种还原性芯片光刻胶剥离液、其制备方法与应用浙江奥首材料科技有限公司
35一种光刻胶有机剥离液及其制备方法和应用绵阳艾萨斯电子材料有限公司
36一种高效缓蚀芯片光刻胶剥离液、其制备方法与用途浙江奥首材料科技有限公司
37一种光刻胶剥离液组合物、制备方法及其应用成都三贡化工有限公司
38一种光刻胶剥离液及其制备方法和应用上海盛剑微电子有限公司
39一种芯片光刻胶剥离剂、其制备方法与应用浙江奥首材料科技有限公司
40一种芯片光刻胶剥离剂组合物、其制备方法与应用浙江奥首材料科技有限公司
41一种用于制备金属凸点的双层正性光刻胶剥离方法南昌大学;南昌硅基半导体科技有限公司
42一种水系光刻胶剥离液合肥中聚和成电子材料有限公司
43光刻胶剥离液及其制备方法和光刻胶的剥离方法上海盛剑微电子有限公司
44一种用于去除铜层负性光刻胶的剥离液及其制备方法和应用江苏艾森半导体材料股份有限公司;艾森半导体材料(南通)有限公司
45一种光刻胶剥离液及其制备方法华璞微电子科技(宁波)有限公司
46一种光刻胶剥离去胶液及其应用工艺江苏长进微电子材料有限公司
47光刻胶剥离液TCL华星光电技术有限公司
48一种金属低蚀刻率光刻胶剥离液组合物及其应用昆山欣谷微电子材料有限公司
49用于半导体化合物光刻胶的剥离剂、其制备方法及用途江苏奥首材料科技有限公司
50一种用于三五族半导体化合物光刻胶的剥离剂、其制备方法及用途江苏奥首材料科技有限公司
51一种改进的环保水系光刻胶剥离液江阴江化微电子材料股份有限公司
52光刻胶剥离液组合物及其制备方法易安爱富科技有限公司
53一种正性光刻胶剥离液组合物及应用易安爱富(武汉)科技有限公司
54一种光刻胶剥离液组合物合肥中聚和成电子材料有限公司
55PFA光刻胶再生剥离液及其制备方法与应用绵阳艾萨斯电子材料有限公司
56一种光刻胶剥离液及其制备方法芯越微电子材料(嘉兴)有限公司