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日本无机高分子絮凝剂新技术
以栗田工業株式会社、三洋化成工業株式会社、ダイヤニトリックス株式会社为代表的日本无机高分子絮凝，以先进的产品配方和生产工艺，占领着水处理高端市场。日本近年来在铝盐和铁盐的基础上发展合成新工艺，涉及聚合硫酸铝、聚合硫酸铁等新型的水处理剂，新型复合水处理药剂，它的出现不仅降低了处理成本，而且提高了功效。
日本在全球光刻胶及剥离液市场中占据主导地位，尤其是在高端光刻胶领域。然而，中国通过政策支持、技术研发和产业链协同，正在加速实现光刻胶及相关材料的国产化替代。尽管短期内仍面临供应风险和技术挑战，但长期来看，国产光刻胶的自主可控将成为中国半导体产业发展的关键。
本资料是收录涉及国内光刻胶剥离剂最新专利技术资料，资料中包括制造原料、配方、生产工艺、产品性能测试及标准、实际应用效果，技术指标，解决的具体问题等等，是企业提高产品质量和发展新产品的重要、实用、超值和难得的技术资料。
【资料内容】制造工艺及配方
【资料语种】中文
【项目数量】56项
【电子版】1480元（PDF文档 邮件发送）
目录
| 1 | 一种长效光刻胶剥离液及其应用 | 上海戎洲芯科技有限公司 |
| 2 | 一种光刻胶剥离液及其制备方法和应用 | 福建泓光半导体材料有限公司 |
| 3 | 一种低腐蚀、易清洗的芯片光刻胶剥离液、其制备方法及用途 | 浙江奥首材料科技有限公司 |
| 4 | 一种能够保护GaAs和PI衬底的光刻胶剥离液及其应用 | 芯越微电子材料（嘉兴）有限公司 |
| 5 | 一种聚乙烯醇肉桂酸酯型KPR光刻胶蚀刻残留剥离剂组合物 | 深圳迪道微电子科技有限公司 |
| 6 | AMOLED领域用水性光刻胶剥离液及其制备方法 | 苏州博洋化学股份有限公司 |
| 7 | 一种显示面板用水系光刻胶剥离液及其制备方法和应用 | 浙江奥首材料科技有限公司 |
| 8 | 一种光刻胶剥离液、其制备方法及应用 | 北京盛剑微电子技术有限公司 |
| 9 | 一种显示面板用正性光刻胶剥离液及其制备方法和应用 | 浙江奥首材料科技有限公司 |
| 10 | 一种光刻胶剥离液、其制备方法与应用 | 浙江奥首材料科技有限公司 |
| 11 | 光刻胶清洗液及其制备方法、应用 | 上海盛剑微电子有限公司 |
| 12 | 一种用于显示面板的水基型光刻胶剥离液、制备方法及应用 | 浙江奥首材料科技有限公司 |
| 13 | 一种高回收率的光刻胶剥离液 | 合肥中聚和成电子材料有限公司 |
| 14 | 一种低腐蚀芯片光刻胶剥离液、其制备方法及应用 | 浙江奥首材料科技有限公司 |
| 15 | 一种显示面板光刻胶剥离液及其制备方法与应用 | 浙江奥首材料科技有限公司 |
| 16 | 一种芯片光刻胶剥离液、其制备方法及用途 | 浙江奥首材料科技有限公司 |
| 17 | 光刻胶剥离液及其应用 | 上海盛剑微电子有限公司 |
| 18 | 一种可再生光刻胶剥离液及其制备方法 | 惠州达诚微电子材料有限公司 |
| 19 | 一种铜钼基板用光刻胶剥离液 | 合肥中聚和成电子材料有限公司 |
| 20 | 用于制造液晶显示的光刻胶剥离剂组合物 | 安庆市鑫祥瑞环保科技有限公司 |
| 21 | 一种用于半导体化合物光刻胶的剥离液、其制备方法及用途 | 浙江奥首材料科技有限公司 |
| 22 | 一种水性光刻胶剥离液及其制备方法 | 安庆市鑫祥瑞环保科技有限公司 |
| 23 | 光刻胶剥离组合物 | 关东化学株式会社 |
| 24 | 光刻胶剥离液及其制备方法和应用 | 深圳市信维通信股份有限公司 |
| 25 | 光刻胶剥离组合物 | 关东化学株式会社 |
| 26 | 一种半导体芯片光刻胶剥离液及其制备方法与应用 | 浙江奥首材料科技有限公司 |
| 27 | 一种正性光刻胶剥离液组合物 | 易安爱富（武汉）科技有限公司 |
| 28 | 高耐热性光刻胶的剥离组合物及其应用 | 上海飞凯材料科技股份有限公司 |
| 29 | 一种耐高温低腐蚀光刻胶剥离液及其制备方法与应用 | 浙江奥首材料科技有限公司 |
| 30 | 一种光刻胶用剥离液及其制备方法 | 惠州达诚微电子材料有限公司 |
| 31 | 一种高分散芯片光刻胶清洗剂及其制备方法与用途 | 浙江奥首材料科技有限公司 |
| 32 | 光刻胶剥离用组合物 | 株式会社东进世美肯 |
| 33 | 一种负性光刻胶剥离液 | 无锡中珂芯维科技有限公司 |
| 34 | 一种还原性芯片光刻胶剥离液、其制备方法与应用 | 浙江奥首材料科技有限公司 |
| 35 | 一种光刻胶有机剥离液及其制备方法和应用 | 绵阳艾萨斯电子材料有限公司 |
| 36 | 一种高效缓蚀芯片光刻胶剥离液、其制备方法与用途 | 浙江奥首材料科技有限公司 |
| 37 | 一种光刻胶剥离液组合物、制备方法及其应用 | 成都三贡化工有限公司 |
| 38 | 一种光刻胶剥离液及其制备方法和应用 | 上海盛剑微电子有限公司 |
| 39 | 一种芯片光刻胶剥离剂、其制备方法与应用 | 浙江奥首材料科技有限公司 |
| 40 | 一种芯片光刻胶剥离剂组合物、其制备方法与应用 | 浙江奥首材料科技有限公司 |
| 41 | 一种用于制备金属凸点的双层正性光刻胶剥离方法 | 南昌大学;南昌硅基半导体科技有限公司 |
| 42 | 一种水系光刻胶剥离液 | 合肥中聚和成电子材料有限公司 |
| 43 | 光刻胶剥离液及其制备方法和光刻胶的剥离方法 | 上海盛剑微电子有限公司 |
| 44 | 一种用于去除铜层负性光刻胶的剥离液及其制备方法和应用 | 江苏艾森半导体材料股份有限公司;艾森半导体材料（南通）有限公司 |
| 45 | 一种光刻胶剥离液及其制备方法 | 华璞微电子科技（宁波）有限公司 |
| 46 | 一种光刻胶剥离去胶液及其应用工艺 | 江苏长进微电子材料有限公司 |
| 47 | 光刻胶剥离液 | TCL华星光电技术有限公司 |
| 48 | 一种金属低蚀刻率光刻胶剥离液组合物及其应用 | 昆山欣谷微电子材料有限公司 |
| 49 | 用于半导体化合物光刻胶的剥离剂、其制备方法及用途 | 江苏奥首材料科技有限公司 |
| 50 | 一种用于三五族半导体化合物光刻胶的剥离剂、其制备方法及用途 | 江苏奥首材料科技有限公司 |
| 51 | 一种改进的环保水系光刻胶剥离液 | 江阴江化微电子材料股份有限公司 |
| 52 | 光刻胶剥离液组合物及其制备方法 | 易安爱富科技有限公司 |
| 53 | 一种正性光刻胶剥离液组合物及应用 | 易安爱富（武汉）科技有限公司 |
| 54 | 一种光刻胶剥离液组合物 | 合肥中聚和成电子材料有限公司 |
| 55 | PFA光刻胶再生剥离液及其制备方法与应用 | 绵阳艾萨斯电子材料有限公司 |
| 56 | 一种光刻胶剥离液及其制备方法 | 芯越微电子材料（嘉兴）有限公司 |
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