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《绿色环保内墙涂料制造工艺配方精选》


         国际新技术网编辑:为了更好的为读者呈现国际、国内外新型涂料技术详细内容,满足企业读者不同需求,共同探讨涂料制造的技术动态,恒志信科技公司独家推出《涂料新技术》资料版块,深度披露现今涂料制造与研制的发展方向,以及新工艺和产品用途,呈现我国涂料未来研制的技术环境及产品走向,欢迎关注!


         内墙涂料就是一般装修用的乳胶漆。乳胶漆即是乳液性涂料,按照基材的不同,分为聚醋酸乙烯乳液和丙烯酸乳液两大类。乳胶漆以水为稀释剂,是一种施工方便、安全、耐水洗、透气性好的的涂料,它可根据不同的配色方案调配出不同的色泽。种类:水性内墙漆、油性内墙漆、干粉型内墙漆,属水性涂料,主要由水,乳液,颜料,填料,添加剂五种成分构成。


涂料分类

第一类是低档水溶性涂料,是聚乙烯醇溶解在水中,再在其中加入颜料等其他助剂而成。为改进其性能和降低成本采取了多种途径,牌号很多,最常见的是106、803涂料。该类涂料具有价格便宜、无毒、无臭、施工方便等优点。由于其成膜物是水溶性的,所以用湿布擦洗后总要留下些痕迹,耐久性也不好,易泛黄变色,但其价格便宜,施工也十分方便,目前消耗量仍最大,多为中低档居室或临时居室室内墙装饰选用。


第二类是乳胶漆,它是一种以水为介质,以丙烯酸酯类、苯乙烯-丙烯酸酯共聚物、醋酸乙烯酯类聚合物的水溶液为成膜物质,加入多种辅助成分制成,其成膜物是不溶于水的,涂膜的耐水性和耐侯性比第一类大大提高,湿擦洗后不留痕迹,并有平光、高光等不同装饰类型。由于其色彩较少,装饰效果与106类相似,再加上宣传力度不够,价格又比106类涂料高得多,所以尚未被普遍认识。其实这两类涂料完全不是一个档次,乳胶漆在国外用得十分普遍,是一种既有前途的内墙装饰涂料。


第三类,新型的粉末涂料,包括硅藻泥、海藻泥、活性炭墙材等,是目前比较环保的涂料。粉末涂料,直接兑水,工艺配合专用模具施工,深受消费者和设计师厚爱。


第四类是水性仿瓷涂料,其装饰效果细腻、光洁、淡雅,价格不高,施工工艺繁杂,耐湿擦性差。水性仿瓷涂料(环保配方):它包含方解石粉、锌白粉、轻质碳酸钙、双飞粉、灰钙粉,其特征在于它采用水溶性甲基纤维素和乙基纤维素的混合胶体溶液来作为混合粉料的溶剂;该仿瓷材料中各组成物的主要配比为:方解石粉料20-25份,锌白粉5-15份,轻质碳酸钙15-25份,双飞粉20-35份,灰钙粉15-25份,蒸馏水70份,甲基纤维素0.6份,乙基纤维素0.4份。该水性仿瓷涂料配方中可掺入适量钛白粉。该水性仿瓷涂料在调配和施工中不存在刺激性气味和其它有害物质。

仿瓷涂料不但在家装和墙艺中运用,而且在工艺品中也可以但到很好的效果,用这种涂料喷涂的产品仿瓷效果,可以到达逼真的程度。


第五类是十分风行的多彩涂料,该涂料的成膜物质是硝基纤维素,以水包油形式分散在水相中,一次喷涂可以形成多种颜色花纹。


第六类,又称液体墙纸,液体壁纸,是流行趋势较大的内墙装饰涂料,效果多样,色彩任意调制,而且可以任意订制效果,相比于第四类有超强的耐摩擦,抗污性能,而且工艺配合专用模具施工方便。



         本篇是为了配合国家产业政策向广大企业、科研院校提供内墙涂料技术制造工艺配方汇编技术资料。资料中每个项目包含了最详细的技术制造资料,现有技术问题及解决方案、产品生产工艺、配方、产品性能测试,对比分析。资料信息量大,实用性强,是从事新产品开发、参与市场竞争的必备工具。


         本篇系列汇编资料分为为精装合订本和光盘版,内容相同,用户可根据自己需求购买。


2025版《日本光刻胶制造工艺配方精选汇编》

2025版《日本光刻胶制造工艺配方精选汇编》

日本企业占据了全球光刻胶市场约70%到90%的份额,尤其在高端的ArF和EUV光刻胶领域,市场份额甚至超过90%。这些高端光刻胶是半导体制造中不可或缺的关键材料,直接影响芯片的性能和制造精度。

本篇资料收录了日本著名公司光刻胶制造专利技术,涉及:工艺、配方、制备方法等,是我国从事光刻胶行业研究生产单位的重要参考资料。

【资料内容】生产工艺、配方
【出品单位】国际新技术资料网
【资料语种】日文
【电  子 版】1680元(PDF文档 邮箱发送)
【联系电话】13141225688 梅兰(女士)

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日本企业占据了全球光刻胶市场约70%到90%的份额,尤其在高端的ArF和EUV光刻胶领域,市场份额甚至超过90%。这些高端光刻胶是半导体制造中不可或缺的关键材料,直接影响芯片的性能和制造精度。

本篇资料收录了日本著名公司光刻胶制造专利技术,涉及:工艺、配方、制备方法等,是我国从事光刻胶行业研究生产单位的重要参考资料。

【资料内容】生产工艺、配方
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【资料语种】日文
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目录

1半導体フォトレジスト用組成物およびこれを利用したパターン形成方法三星エスディアイ株式会社
2フォトレジスト用樹脂、フォトレジスト組成物および硬化物日油株式会社
3金属含有フォトレジスト現像液組成物、およびこれを利用した現像段階を含むパターン形成方法三星エスディアイ株式会社
4金属含有フォトレジストのエッジビーズ除去用組成物または金属含有フォトレジストの現像液組成物、およびこれを利用したパターン形成方法三星エスディアイ株式会社
5フォトレジスト上層膜用組成物およびこれを利用したパターン形成方法三星エスディアイ株式会社
6半導体フォトレジスト用組成物およびこれを用いたパターン形成方法三星エスディアイ株式会社
7金属含有フォトレジスト用現像液組成物、およびこれを用いた現像段階を含むパターン形成方法三星エスディアイ株式会社
8有機塩、それを含むフォトレジスト組成物、及びフォトレジスト組成物を用いるパターン形成方法三星電子株式会社
9金属含有フォトレジスト用現像液組成物、およびこれを用いた現像工程を含むパターン形成方法三星エスディアイ株式会社
10重合性化合物、酸発生剤、樹脂、及びフォトレジストサンアプロ株式会社
11有機金属化合物、フォトレジスト用感光材、及びフォトレジストサンアプロ株式会社
12スルホニウム塩、前記スルホニウム塩を含む酸発生剤、及び前記スルホニウム塩を含むフォトレジストサンアプロ株式会社
13金属含有膜形成用化合物、金属含有膜形成用組成物、パターン形成方法、及び半導体フォトレジスト材料信越化学工業株式会社
14電着フォトレジスト用塗料組成物株式会社シミズ
15カルボン酸塩、それを含むフォトレジスト組成物、及びそのフォトレジスト組成物を用いるパターン形成方法三星電子株式会社
16フォトレジスト剥離液ナガセケムテックス株式会社
17金属含有フォトレジスト現像液組成物、およびこれを用いた現像工程を含むパターン形成方法三星エスディアイ株式会社
18フォトレジスト用剥離液及びこれを用いた基板の処理方法東京応化工業株式会社
19フォトレジスト剥離組成物関東化学株式会社
20電着フォトレジスト塗膜の剥離方法ハニー化成株式会社
21改良されたフォトレジスト製剤船井電機株式会社
22光酸発生剤、それを含むフォトレジスト組成物、及びそれを利用したパターン形成方法三星電子株式会社
23パターン化された有機金属フォトレジスト及びパターニングの方法インプリア・コーポレイション
24化合物、前記化合物を含む酸発生剤、フォトレジスト、及び前記フォトレジストを使用した電子デバイスの製造方法サンアプロ株式会社
25ノボラック型フェノール樹脂、ノボラック型フェノール樹脂の製造方法、及びフォトレジスト組成物明和化成株式会社
26複合フォトレジスト材料とその製造方法、および流体吐出ヘッド船井電機株式会社
27ネガ型レジスト樹脂組成物およびネガ型フォトレジスト樹脂組成物サンアプロ株式会社
28ノズルプレートの接着性を強化するためのフォトレジストイメージングおよび現像船井電機株式会社
29フォトレジスト組成物及びパターン形成方法ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシー
30半導体フォトレジスト用組成物およびそれを用いたパターン形成方法三星エスディアイ株式会社
31半導体フォトレジスト用組成物およびその製造方法、ならびにこれを用いたパターン形成方法三星エスディアイ株式会社
32フォトレジスト樹脂の製造方法株式会社ダイセル
33フォトレジスト組成物、液体吐出ヘッド及び液体吐出ヘッドの製造方法キヤノン株式会社
34フォトレジストパターン形成方法東京応化工業株式会社
35フォトレジスト用のノボラック型フェノール樹脂およびその製造方法、ならびにフォトレジスト用の感光性樹脂組成物住友ベークライト株式会社
36フォトレジストの特性解析方法および特性解析装置フェムトディプロイメンツ株式会社
37フォトレジスト組成物およびその硬化物太陽インキ製造株式会社
38ネガ型カチオン性電着フォトレジスト用樹脂組成物及びそれを電着塗装してなる塗膜ハニー化成株式会社
39フォトレジスト用フェノール樹脂組成物及びフォトレジスト組成物明和化成株式会社
40厚膜用フォトレジスト組成物及び厚膜フォトレジストパターン形成方法東京応化工業株式会社
41単量体、フォトレジスト用樹脂、フォトレジスト用樹脂組成物、及びパターン形成方法株式会社ダイセル
42フォトレジスト除去用組成物三菱ガス化学トレーディング株式会社
43フォトレジスト用組成物株式会社ダイセル
44フォトレジスト用樹脂、フォトレジスト用樹脂の製造方法及びフォトレジスト組成物明和化成株式会社
45感光性樹脂組成物、これを用いたフォトレジストフィルム、及びレジストパターンの形成方法ニッコー・マテリアルズ株式会社
46フォトレジスト用樹脂、フォトレジスト用樹脂の製造方法、フォトレジスト用樹脂組成物、及びパターン形成方法株式会社ダイセル
47重合性化合物、重合性組成物、重合体及びフォトレジスト用組成物JNC株式会社
48フォトレジスト用保護フィルム三菱ケミカル株式会社
49フォトレジスト及びフォトリソグラフィ日本化成株式会社
50フォトレジスト塗布装置トヨタ自動車株式会社
51化学増幅型フォトレジスト組成物サンアプロ株式会社
52化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物サンアプロ株式会社
53ネガ型フォトレジスト用樹脂組成物及び硬化膜サンアプロ株式会社
54光発生装置、光発生装置を備える露光装置、露光システム、光発生方法、及び露光フォトレジスト製造方法公立大学法人兵庫県立大学
55誘導自己組織化用の化学テンプレートを形成するための硬化フォトレジストのUV支援剥離東京エレクトロン株式会社
56ネガティブトーン現像剤相溶性フォトレジスト組成物及び使用方法トーキョー エレクトロン ユーエス ホールディングス,インコーポレーテッド
57機能構造体製造方法及びフォトレジスト処理装置ウシオ電機株式会社
58ポジ型フォトレジスト住友精化株式会社
59コーティング用組成物およびフォトレジスト積層体の製造方法旭硝子株式会社
60フォトレジスト組成物及びこれを利用する微細パターン形成方法三星電子株式会社
61フォトレジスト用樹脂、フォトレジスト樹脂の製造方法、フォトレジスト用樹脂組成物、及びパターン形成方法株式会社ダイセル
62フォトレジストフィルム、レジストパターンの形成方法、および導体パターンの形成方法ニッコー・マテリアルズ株式会社
63ドライフィルムフォトレジスト支持体二軸配向ポリエステルフィルム東レ株式会社
64アルコール誘導体、アクリル酸エステル誘導体、混合物、高分子化合物およびフォトレジスト組成物株式会社クラレ
65コーティング用組成物の製造方法およびフォトレジスト積層体の製造方法AGC株式会社
66フォトレジスト成分濃度測定装置および濃度測定方法パナソニックIPマネジメント株式会社
67ポジ型フォトレジスト組成物東京応化工業株式会社
68フォトレジスト組成物並びにそれを用いたドライエッチング用マスク及び積層体旭化成イーマテリアルズ株式会社
69半導体基板処理装置、フォトレジストを剥離する方法、および半導体装置の製造方法セイコーインスツル株式会社
70フォトレジスト用活性エネルギー線硬化性組成物ダイセル・オルネクス株式会社