《高性能等静压石墨制造工艺配方精选》

    结构精细致密、均匀性好、力学性能优异,大规格石墨制品

国际新技术资料网 创新科技之路
New Technology Of High Purity Graphite
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国际新技术资料网最新推出
2024新版《等静压、各向同型石墨制造工艺配方精选》


        国际新技术网编辑:为了更好的为读者呈现国际、国内外新型石墨制造技术详细内容,满足企业读者不同需求,共同探讨石墨制造的技术动态,恒志信科技公司独家推出《石墨新技术》资料版块,深度披露现今石墨制造与研制的发展方向,以及新工艺和产品用途,呈现我国石墨未来研制的技术环境及产品走向,欢迎关注!


        等静压石墨由高纯石墨压制而成。等静压石墨是国际上近50年来发展起来的新产品,与当今高科技紧密相联。作为全球制造业大国和最大的光伏产品生产国,中国一直保持巨量的等静压石墨需求。当前,随着国内光伏产业的迅猛发展,中国等静压石墨需求量逐年扩大。同期,由于中国等静压石墨生产企业技术基础薄弱,加上国外企业的技术封锁,中国等静压石墨产量和质量均未得到有效提升。2023年,中国等静压石墨需求量达1.8万吨,而同期等静压石墨产量仅为9500吨,供应缺口达8500吨。当前,中国新涉足等静压石墨业务企业普遍存在的技术储备不足及产品结构不合理等问题很难短期内得到解决。


         等静压石墨是新型石墨材料,是石墨材料中的精品,由于具有一系列优良特性,它必然会与高新技术、国防尖端技术紧密相联,成为21世纪最有价值的新材料之一。随着经济发展,静压石墨的国内国际市场容量与日俱增,发展潜力巨大。正因如此,目前国内正兴起一股等静压石墨生产热,一些以生产模压石墨为主的炭素生产企业看中这块“大蛋糕”,陆续上马等静压设备,挤身等静压石墨生产行列中来,竞争将不可避免进入白热化状态,竞争的对手包括国外同行。在激烈的市场竞争中,国内等静压石墨生产企业的立足之本和出路是:将产品升级换代,朝大规格、细结构(超细结构)、高强度、高纯度、多功能方向发展,顺应光伏产业、机械制造、核能利用各行业发展趋势,为中国国民经济的发展更好地服务。

 

         中国是一个发展中国家,正在步入重工业化时期,中国已经成为世界级的“制造大工厂”。而且科学技术的发展带来了新的工业革命,等静压石墨材料及制品的广阔应用领域给等静压石墨产业带来了勃勃生机。当前,由于经济危机的爆发,国外炭素产业受到了较严重的影响,于是他们加大了对中国的销售力度。当前中国约能消耗世界等静压石墨产品的1/4,是世界上最大等静压石墨产品市场之一,等静压石墨产业将迎来发展的新阶段。

         本篇是为了配合国家产业政策向广大企业、科研院校提供环氧涂料技术制造工艺配方汇编技术资料。资料中每个项目包含了最详细的技术制造资料,现有技术问题及解决方案、产品生产工艺、配方、产品性能测试,对比分析。资料信息量大,实用性强,是从事新产品开发、参与市场竞争的必备工具。


         本篇系列汇编资料分为为精装合订本和光盘版,内容相同,用户可根据自己需求购买。

2024年新版《日本化学镀镍、镀镍液制造工艺配方精选》

2024年新版《日本化学镀镍、镀镍液制造工艺配方精选》

本专集收录了日本著名公司的高性能反渗透膜清洗剂制造工配方,涉及:
奥野製薬工業株式会社
石原ケミカル株式会社
東洋鋼鈑株式会社
株式会社JCU
バルスティビニス モクスリニウ トリム インスティチュータス フィジニウ アイアール テクノロジジョス モクスル セントラス
奥野製薬工業株式会社
国立大学法人 宮崎大学
奥野製薬工業株式会社
アトテツク・ドイチユラント・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング
ハッチンソン テクノロジー インコーポレイテッド
奥野製薬工業株式会社
奥野製薬工業株式会社
シーアールアールシー チンタオ シーファン カンパニー,リミティッド
奥野製薬工業株式会社
住友金属鉱山株式会社
三井化学株式会社
住友金属鉱山株式会社
コベントヤ,インコーポレイテッド
アトテツク・ドイチユラント・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング
学校法人関東学院
マクダーミッド アキューメン インコーポレーテッド
マクダーミッド アキューメン インコーポレーテッド
マクダーミッド アキューメン インコーポレーテッド
ナンジン デェァレイ サイエンス アンド テクノロジー カンパニー リミテッド
学校法人関東学院
日本カニゼン株式会社
木田精工株式会社
アトテツク・ドイチユラント・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング
奥野製薬工業株式会社
アトテツク・ドイチユラント・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング
アトテツク・ドイチユラント・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング
ハンワ ケミカル コーポレイション
アトテツク・ドイチユラント・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング
日本カニゼン株式会社
アルスィメール
川原 拓夫
トヨタ自動車株式会社
国立大学法人 新潟大学
住友ベークライト株式会社
李 立斌
日本カニゼン株式会社
上村工業株式会社
上村工業株式会社
マクダーミッド アキューメン インコーポレーテッド
日立化成株式会社
グレート マグテク テクノロジー カンパニー リミテッド
日本カニゼン株式会社
日本カニゼン株式会社
日鉱金属株式会社
上村工業株式会社
エンソン インコーポレイテッド
マイクロン テクノロジー, インク.
株式会社NSC
日本碍子株式会社
日本高純度化学株式会社
上村工業株式会社
上村工業株式会社
上村工業株式会社
株式会社フジクラ
キヤノン株式会社
マクダーミド・インコーポレーテツド
メルテックス株式会社
奥野製薬工業株式会社
アトテック・ドイチュラント・ゲーエムベーハー
奥野製薬工業株式会社
日本リーロナール有限会社
マクダーミド・インコーポレーテツド
等公司的优秀技术、生产工艺、配方。

【资料内容】生产工艺、配方
【资料语种】日本原文
【资料价格】1980元
【资料形式】PDF文档 可电子发送




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本专集收录了日本著名公司的高性能反渗透膜清洗剂制造工配方,涉及:
奥野製薬工業株式会社
石原ケミカル株式会社
東洋鋼鈑株式会社
株式会社JCU
バルスティビニス モクスリニウ トリム インスティチュータス フィジニウ アイアール テクノロジジョス モクスル セントラス
奥野製薬工業株式会社
国立大学法人 宮崎大学
奥野製薬工業株式会社
アトテツク・ドイチユラント・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング
ハッチンソン テクノロジー インコーポレイテッド
奥野製薬工業株式会社
奥野製薬工業株式会社
シーアールアールシー チンタオ シーファン カンパニー,リミティッド
奥野製薬工業株式会社
住友金属鉱山株式会社
三井化学株式会社
住友金属鉱山株式会社
コベントヤ,インコーポレイテッド
アトテツク・ドイチユラント・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング
学校法人関東学院
マクダーミッド アキューメン インコーポレーテッド
マクダーミッド アキューメン インコーポレーテッド
マクダーミッド アキューメン インコーポレーテッド
ナンジン デェァレイ サイエンス アンド テクノロジー カンパニー リミテッド
学校法人関東学院
日本カニゼン株式会社
木田精工株式会社
アトテツク・ドイチユラント・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング
奥野製薬工業株式会社
アトテツク・ドイチユラント・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング
アトテツク・ドイチユラント・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング
ハンワ ケミカル コーポレイション
アトテツク・ドイチユラント・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング
日本カニゼン株式会社
アルスィメール
川原 拓夫
トヨタ自動車株式会社
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住友ベークライト株式会社
李 立斌
日本カニゼン株式会社
上村工業株式会社
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マクダーミッド アキューメン インコーポレーテッド
日立化成株式会社
グレート マグテク テクノロジー カンパニー リミテッド
日本カニゼン株式会社
日本カニゼン株式会社
日鉱金属株式会社
上村工業株式会社
エンソン インコーポレイテッド
マイクロン テクノロジー, インク.
株式会社NSC
日本碍子株式会社
日本高純度化学株式会社
上村工業株式会社
上村工業株式会社
上村工業株式会社
株式会社フジクラ
キヤノン株式会社
マクダーミド・インコーポレーテツド
メルテックス株式会社
奥野製薬工業株式会社
アトテック・ドイチュラント・ゲーエムベーハー
奥野製薬工業株式会社
日本リーロナール有限会社
マクダーミド・インコーポレーテツド
等公司的优秀技术、生产工艺、配方。

【资料内容】生产工艺、配方
【资料语种】日本原文
【资料价格】1980元
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目录

1無電解銀めっき用無電解ニッケル-リンめっき浴、及び、硫黄化合物を含まないニッケルめっき上への無電解銀めっきを施す方法
2無電解ニッケル又はニッケル合金メッキ方法
3ニッケル-リン合金被覆基板、ニッケル-リン合金膜の無電解めっきのための溶液、及びニッケル-リン合金被覆基板の製造方法
4無電解ニッケルめっき浴および無電解ニッケル合金めっき浴
5パラジウムで活性化することなく銅上に無電解ニッケルを析出させる方法
6無電解ニッケル-リンめっき浴
7ニッケル皮膜の生成方法及びその装置
8無電解ニッケル-リンめっき浴
9無電解ニッケルめっき溶液
10ニッケルおよびリンを使用して回路用の材料を形成する方法
11無電解ニッケルめっき液用安定剤、並びにそれを用いためっき液、めっき方法及び分析方法
12無電解ニッケルめっき液及び無電解ニッケルめっき方法
13ニッケルめっき炭素繊維膜、その製造方法、シールド構造及びその作製方法
14無電解ニッケル-リンめっき浴
15ニッケル銅被覆粉体、ニッケル銅被覆粉体の製造方法
16金属/樹脂複合構造体、金属/樹脂複合構造体の製造方法、ニッケルめっき化鉄鋼部材およびニッケルめっき化鉄鋼部材の製造方法
17ニッケルコート銅粉及びそれを用いた導電性ペースト、導電性塗料、導電性シート、並びにニッケルコート銅粉の製造方法
18低減されたイオン濃度を有する無電解ニッケル-リンめっき浴および使用方法
19ニッケル層の無電解析出のためのめっき浴および方法
20無電解ニッケル複合めっき浴、及び無電解ニッケル複合めっき製品
21複合無電解ニッケルめっき
22水性無電解ニッケルめっき浴、及びその使用方法
23高リン無電解ニッケル
24化学ニッケルめっき液の処理方法
25アルミニウム材の表面にニッケル層を形成する方法、その形成方法を用いた半導体ウエハのアルミニウム電極表面へのニッケル層の形成方法及びその形成方法を用いて得られる半導体ウエハ基板
26無電解ニッケルめっき液及びそれを用いた無電解ニッケルめっき方法
27無電解ニッケルりんめっき液の再生方法及び再生装置
28ニッケル層の無電解堆積用のめっき浴
29無電解ニッケルめっき液用添加剤、無電解ニッケルめっき液及び無電解ニッケルめっき方法
30無電解ニッケルリン合金をフレキシブル基板上に堆積するための方法
31無電解ニッケルめっき浴
32リンドーピングされたニッケルナノ粒子およびその製造方法
33無電解ニッケルめっき浴組成物
34無電解ニッケルめっき皮膜および無電解ニッケルめっき液
35半導体固体基板へのニッケル系又はコバルト系の金属層の積層方法及びその方法を行うためのキット
36無電解ニッケルめっき液の再生方法
37無電解ニッケルめっき浴およびそれを用いた無電解ニッケルめっき法
38無電解ニッケルめっき廃液の処理方法
39無電解ニッケル-パラジウム-金めっき方法、めっき処理物、プリント配線板、インターポーザ、および半導体装置
40無電解ニッケルめっき方法
41無電解ニッケルめっき液及びそれを用いた無電解ニッケルめっき方法
42無電解ニッケルめっき浴及びそれを用いためっき方法
43無電解ニッケルめっき方法、リンクチェーン及びその製造方法
44無電解ニッケル廃棄物のリサイクル方法
45無電解ニッケルめっき方法
46マグネシウム合金基板におけるニッケル系積層構造の作成方法、該方法による表面処理マグネシウム合金物及び該方法に用いる清浄溶液と表面処理溶液
47無電解ニッケルめっき液の長寿命化装置
48無電解ニッケルめっき皮膜およびこの皮膜を有する機械部品
49無電解ニッケルめっき液
50無電解ニッケル-リンめっき皮膜及び無電解ニッケル-リンめっき浴
51マイクロ電子機器におけるコバルトとニッケルの無電解メッキ
52アルミニウム、銅、およびタングステンの構造の選択的ニッケルめっき
53無電解ニッケルメッキ方法、無電解ニッケルメッキ用洗浄液、無電解ニッケルメッキ用テクスチャー処理液、無電解ニッケルメッキ用センシタイジング処理液、無電解ニッケルメッキ用表面調整処理液、液晶ディスプレイ用
54無電解ニッケルめっき液の寿命延長方法、及び無電解ニッケルめっき液
55無電解ニッケル置換金めっき処理層、無電解ニッケルめっき液、および無電解ニッケル置換金めっき処理方法
56黒色ニッケル皮膜の形成方法及び無電解ニッケル-リンめっき浴
57無電解ニッケル-リンめっき浴、これを用いた黒色ニッケル皮膜の形成方法、及び酸性黒化処理液
58無電解ニッケルめっき浴及びそれを用いためっき方法
59無電解ニッケルメッキ液
60高耐蝕性無電解ニッケルメッキ方法
61改良された無電解ニッケル複合物メッキ浴
62マグネシウム合金用の無電解ニッケルめっき液
63無電解ニッケルめっき液の処理方法及び処理装置
64無電解ニッケルめっき溶液
65無電解ニッケルめっき液の管理方法
66無電解ニッケルめっき液中の硫黄含有化合物濃度の測定方法
67無電解ニッケル鍍金溶液およびその使用法
68マグネシウム合金素材の無電解ニッケルめっき方法