１    用玻璃抛光废渣颗粒再生技术制备盖板玻璃用稀土抛光粉的方法，采用了部分溶解与颗粒二次凝聚技术，以难溶氟化物为核，通过包覆使细小颗粒紧密团聚在一起，表面形成的稀土化合物物通过煅烧与中心的氟化物反应，既恢复了团聚颗粒的棱角又增加了再生稀土抛光粉的团聚强度；可以将抛光废渣中的有效元素高效回收，稀土元素回收率可达９０％以上，所产出的再生稀土抛光粉能够满足盖板玻璃抛光对抛光速度及表面质量的严苛要求。

２    化学机械抛光用ＣｅＯ２研磨颗粒的制备方法，该方法制备的ＣｅＯ２纳米颗粒配置成ＣｅＯ２基化学机械抛光液适用于氧化硅制品的高效抛光中，该制备方法具有选用原料廉价、制备工艺简单、生产周期短的特点，同时所制备的ＣｅＯ２颗粒具有抛光效率高的特点。

３    大口径光学玻璃抛光液的制备方法，核心为通过直接沉淀制备丝状碳酸稀土团聚体，获得了廉价的纳米级前驱体；通过过氧化氢的氧化作用使三价铈转化为四价铈，获得抛光的化学活性，并通过氟的引入进一步稳定其化学活性；利用转化后颗粒形貌遗传前驱体的特点，使颗粒依旧保持足够的物理抛光作用，从而实现对大口径光学玻璃的快速精密抛光；有益效果：生产工艺满足大口径光学玻璃抛光需求，成本上符合市场预期，生产上环保高效。

４    以铈富集物为原料制备光学玻璃用抛光液的方法，制备的抛光粉具备良好化学稳定性，在水中分散性与悬浮性极佳，制备的抛光液半沉淀期Ｔ５０低至３０‑２４０ｍｉｎ，沉积指数低至５‑８％。

５    纳米抛光粉的制备方法，通过采用多次缓慢沉积和水热法制备获得的镧铈氧化物抛光粉的尺寸为纳米级别，尺度均一，流动性好，通过氨化石墨烯引入小颗粒的沉淀晶体，获得的氧化物颗粒高度分散，通过强碱水热法制备镧铈氧化物，使镧进入氧化铈晶格，能够有效的屏蔽因为抛光粉中成分不一而导致的抛光效果差的技术问题，并提高抛光粉的硬度。

６    微晶玻璃抛光用多晶氧化铈抛光液及其制备方法和应用，用以解决现有抛光液对特殊的玻璃陶瓷‑微晶玻璃进行抛光时存在的加工难度大，抛光时间长，抛光效率低且抛光稳定性差的技术问题。保证抛光效率的稳定和延长抛光液的寿命；且多晶氧化铈抛光液的制备方法简单，操作方便，易于现代工业生产。

７    焙烧法制备氟化镧铈抛光粉的方法，属于可控晶型、可控物相粉体制备领域。采用氟化稀土镧铈碳酸盐原料焙烧法制备氟化镧铈抛光粉，通过改变焙烧温度、升温速率、保温时间等因素制备可控晶型、可控物相氟化镧铈抛光粉的方法，其制备方法可操作性强，焙烧工艺简单，焙烧温度、保温时间、升温速率控制精确，可获得从原料氟化稀土镧铈碳酸盐到可控晶型、可控物相的氟化镧铈抛光粉的不同工艺方法产品。

８    纳米铈基抛光浆液的制备方法。合成纳米氢氧化铈磨粒一次颗粒尺寸为３～１０ｎｍ，具有高表面化学活性，能与过氧化氢发生以下表面化学反应在表面生成氧化性较强的过氧化氢氧化铈（Ｃｅ（ＯＨ）３ＯＯＨ）：Ｃｅ（ＯＨ）４＋Ｈ２Ｏ２＝Ｃｅ（ＯＨ）３ＯＯＨ＋Ｈ２Ｏ，从而强化了其作为抛光磨粒的化学去除作用。该纳米铈基抛光浆液的制备方法流程短，得到的抛光浆液悬浮稳定性好，无需添加分散剂。

９    焙烧法制备镧铈固溶体抛光粉的方法，属于可控晶型、采用碳酸镧铈原料焙烧法制备镧铈固溶体，通过改变焙烧温度、升温速率、保温时间等因素制备可控晶型、可控粒径镧铈固溶体抛光粉的方法，其制备方法可操作性强，焙烧工艺简单，焙烧温度、保温时间、升温速率控制精确，可获得从原料碳酸镧铈到可控晶型、可控粒径的镧铈固溶体七氧化四铈Ｃｅ４Ｏ７抛光粉的不同工艺方法产品。

１０ 近球形Ｌａ３＋掺杂Ｃｅ１‑ｘＬａｘＯ２纳米抛光粉及其制备方法，将Ｃｅ（ＮＯ３）３·６Ｈ２Ｏ、镧盐和熔盐混合后在坩埚中研磨均匀得混合物；将混合物倒入无水乙醇中磁力搅拌均匀，然后倒入坩埚中在干燥箱中干燥得混合盐；将干燥后的混合盐连同坩埚一起放置在马弗炉中焙烧后自然冷却；用去离子水洗涤，除去杂质离子得到白色沉淀；将白色沉淀产物倒入离心管中，在离心机中用去离子水进行离心洗涤，置入干燥箱干燥后研磨，得到近球形Ｌａ３＋掺杂Ｃｅ１‑ｘＬａｘＯ２纳米抛光粉。具有选用原料廉价、制备工艺简单、生产周期短的特点。

１１ 提升良率降低用量的玻璃抛光液，制备的玻璃抛光液，能有效的降低生产过程中的稀土金属氧化物的用量，提升玻璃抛光加工的良率，对后续清洗工艺降低了难度，使抛光后的玻璃制品，易清洗，将清洗的制程时间缩短一半，制备方法较为简单直观，物料损耗少，经济效益好，该玻璃抛光液可广泛应用于仪器玻璃、电子５Ｇ玻璃、汽车中控玻璃、手表和镜头等产品中。

１２ 纳米二氧化铈抛光液（粉）的制备方法。采用分散剂聚乙烯吡咯烷酮和醇类溶剂，与湿法球磨相结合，球磨后分离液体得到纳米二氧化铈悬浊液；再用去离子水稀释得到纳米二氧化铈抛光液，抛光液在温度为８０‑１２０℃下喷雾干燥，得到适合运输的纳米二氧化铈抛光粉。解决了制备纳米二氧化铈抛光液时二氧化铈颗粒在溶剂中易沉降和团聚的问题，所制备的纳米二氧化铈抛光液（粉）具有良好的分散性和悬浮性，粒径分布窄，尺寸小，抛光性能显著。

１３ 用于熔石英磁流变抛光的高效率抛光浆料及制备方法，可以显著提高对熔石英的去除效率，与此同时还能够保持熔石英的优异表面质量。

１４ 制备稀土抛光粉的系统及方法，创造性的将氢氟酸、磷酸和硫酸按比例混合制备改性剂，并用改性剂对碳酸稀土干物料在常温下喷洒混合反应进行改性，不但使得碳酸稀土前躯体的晶粒尺寸均匀，氟化反应均匀完全，不产生影响抛光精度及速率的游离态氟离子及氟化物，结晶度高；而且，不产生含氟废水，改性剂可以回收循环利用，安全环保，且降低原材料成本。

１５ 表面改性的氧化铈颗粒作为抛光液磨粒的应用。表面改性的氧化铈颗粒由氧化铈经如式Ｉ所示的改性剂改性得到。抛光液在氧化硅膜和氮化硅膜之间的抛光选择比较高，沟槽部的碟陷Ｄｉｓｈｉｎｇ量较低，粗糙度均方根值ＲＭＳ小。

１６ 氧化铈颗粒在抛光工艺中的应用。氧化铈颗粒在抛光工艺中作为抛光浆料的抛光粒子；氧化铈颗粒的前驱体材料的第一颗粒尺寸为２００‑５００μｍ；氧化铈颗粒的拉曼光谱包含在４５８ｃｍ‑１处的峰和５８３ｃｍ‑１处的峰，且其中在４５８ｃｍ‑１处的峰的强度与在５８３ｃｍ‑１处的峰的强度的比率为峰比率，氧化铈颗粒的峰比率为７０‑９０。通过控制氧化铈颗粒的颗粒峰比率、氧化铈颗粒的前驱体材料的颗粒尺寸在一定范围内，使得应用于ＳＴＩ的ＣＭＰ制程时，具有优良的移除速率和选择性，且具有不引起微划痕或使微划痕数量最小化的能力。

１７ 高性能３Ｄ玻璃用稀土抛光粉干法制备工艺，主要对现行工艺中湿法加氟工艺进行创新，通过对稀土抛光材料的原料稀土碳酸盐先利用余热进行烘干，然后将烘干后的稀土碳酸盐经连续氟化装置在动态下通入氟化氢气体进行气固反应加氟等工艺设备组成，经生产实践验证而成。制备的稀土含氟抛光粉工艺合理流畅，产出的抛光粉成品粒径分布窄，成品出成率高，无三废产生。本发明思路独特，使用安全，操作方便，经济效益和环境效益显著。在以下范围起到效果：大规模含氟稀土抛光粉制备。

１８ 铈锆掺杂抛光液及其制备方法和应用，以碳酸稀土和碱式碳酸锆作为前驱体物，通过预先的高能球磨，在大大减小原料粒度的同时通过能量输入减低原料中晶界能，喷雾干燥保证了水分除去的同时粉体颗粒之间的分散均匀性，此后结合特定的二次煅烧方式，实现了阻挡原晶在煅烧过程中过多长大，使得晶粒在煅烧过程中生长的更完整，晶格更完善，棱角更分明，更易获得晶粒尺寸小、粒径分布均匀的物料，制成的抛光液应用于抛光蓝玻璃时具有高切削量的同时兼具高表面质量。

１９ 铈基稀土抛光粉及其制备方法和应用，制成的铈基稀土抛光粉，其中细小硬度较大的晶粒，而且提高了晶粒的畸变能，改善了颗粒物理化学性质，进而使得本发明的抛光粉能够在抛光玻璃尤其是冕玻璃、火石玻璃和重火石玻璃中获得极佳的抛光质量、高抛蚀量，且制备用时短，操作方便，环保性好。

２０ 微波条件下氟化二氧化铈抛光粉的制备方法，制备的二氧化铈粉体颗粒结晶度高，形貌规整呈（类）球形，粒度分布均匀，分散性好，进一步提高了氟化二氧化铈粉体的抛光效率和抛光精度。
２１从废稀土抛光粉中分离提取稀土与再生稀土抛光粉的方法，废稀土抛光粉中稀土的总浸出率达到９５％以上，稀土的总回收率达到９３％以上，实现了废稀土抛光粉中稀土的高效分离提取及再生利用。

２２ 光学玻璃及液晶显示玻璃用铈基抛光粉前驱体的制备方法，在抛光粉前驱体制备时加入磷酸盐、氟盐、碳酸盐组成的复合沉淀剂，制得的抛光粉前驱体的颗粒形貌为均匀的团聚体，粒度大小适中，粒度分布窄，大颗粒数量少。抛光粉切削率高，使用寿命长，研磨后玻璃的基本无划伤，表面光洁度好。

２３ 稀土抛光粉的制备方法，包括氧化铈和氧化钇，氧化铈的稀土氧化物总量占比ＣｅＯ２／ＴＲＥＯ＝４５ｗ％～８５ｗ％，氧化钇的稀土氧化物总量占比Ｙ２Ｏ３／ＴＲＥＯ＝１ｗ％～１０ｗ％，摩尔比ＲＥＯ：Ｙ２Ｏ３＝１：０．０１５～０．１５。通过精确计算Ｙ２Ｏ３的加入量使ＣｅＯ２晶格常数变小，形成氧空位，增强了抛光粉的耐磨性、研削力、反应活性。

２４ 稀土抛光粉废料的回收方法，包括以下步骤：将稀土抛光粉废料采用强酸多级逆流浸出，制得含稀土离子的浸出液；将含稀土离子的浸出液采用第一萃取剂进行第一次萃取，制得萃余液；将萃余液采用第二萃取剂进行第二次萃取，制得萃取液；将萃取液经酸洗涤、反萃后得到高纯氯化稀土溶液，高纯氯化稀土溶液与表面活性剂、碳酸氢铵混合，制得碳酸稀土；将碳酸稀土与氟化物混合再焙烧，得到高性能稀土抛光粉。该方法回收率高，制得的抛光粉纯度高，抛光性能优异，且能耗低、环境友好。

２５ 化学机械抛光组合物，包含：（ａ）氧化铈研磨剂颗粒；（ｂ）阳离子型聚合物；（ｃ）非离子型聚合物，包含聚乙二醇十八烷基醚、聚乙二醇月桂基醚、聚乙二醇油烯基醚、聚（乙烯）‑共‑聚（乙二醇）、辛基苯氧基聚（乙烯氧基）乙醇、或其组合；（ｄ）饱和一元酸；及（ｅ）水性载剂。涉及抛光基板的方法。

２６ 化学机械抛光液，包括氧化铈、硫酸铈和ｐＨ调节剂。化学机械抛光液使用氧化铈作为抛光颗粒并配合使用硫酸铈作为氧化剂，不仅可以提高无定形碳材料的抛光速率，还能够提高抛光液的稳定性。

２７ 用于玻璃面板抛光的稀土抛光液及利用其抛光的方法，属于玻璃表面抛光处理领域。为了解决现有的消泡性能差的问题，用于玻璃面板抛光的稀土抛光液对玻璃面板进行抛光处理。能够实现高化学抛光活性和高分散性，且实现有效消泡能力和使用寿命长的效果。

２８ 氟化稀土抛光粉及氟化稀土抛光液的制备方法，制备的抛光粉应用于表面处理后，在保证光学玻璃表面没有划伤等表面缺陷的前提下实现了高切削率，制备方法更简单，完全做到了将沉淀与氟化同步同时进行的目的。

２９ 氟化稀土抛光粉及氟化稀土抛光液的制备方法，制备的抛光粉应用于表面处理后，在保证光学玻璃表面没有划伤等表面缺陷的前提下实现高切削率，制备方法更简单，成本更低，生产周期更短，且无需每一个生产厂家均设置大型的废水处理系统。

３０ 锆掺杂氟氧化镧铈抛光粉的制备方法，在制备锆掺杂氟氧化镧铈抛光粉时，不烧结，易处理，对玻璃进行抛光，抛蚀量高，玻璃表面质量高，易清洗，制备工艺简单易行。

３１玻璃抛光液及其制备方法和使用其进行抛光处理的方法。该玻璃抛光液在使用时分散剂不会积累，分散、悬浮效果好，稳定性好，使用寿命长，磨削速率稳定，抛光效果稳定，良率高；表面活性剂也不会发生积累，在抛光过程中不会产生大量泡沫，无需额外添加的消泡剂，磨削速率佳，抛光效果好。

３２高铝含碱玻璃抛光液及其制备方法，所述高铝含碱玻璃抛光液包括稀土抛光粉和表面活性剂，所述稀土抛光粉包括氧化铈、以及其它任意一种或多种稀土氧化物，所述述稀土抛光粉中的总稀土含量大于等于８８％，其中，氧化铈在总稀土中的含量大于等于５５％，所述稀土抛光粉的粒度分布满足以下要求：Ｄ０≤１０μｍ、Ｄ１０≤４μｍ、Ｄ５０为０．８～２μｍ、Ｄ９０≥０．５μｍ。解决了现有抛光液用于高铝含碱玻璃抛光导致二次划伤、抛光粉残留在玻璃表面的问题。

３３玻璃抛光剂及其制备方法、制得的玻璃抛光剂具有颗粒尺寸可控、分布均匀优点。在对工件进行抛光时，不同粒径分布的玻璃抛光液能够较好地粘附于本发明中的抛光毛刷上。

３４纳米氧化铈抛光液及其制备方法，用于对玻璃进行抛光处理，既能够提高抛光效率以及抛光效果，还不会对玻璃以及加工机台造成污染。

３５高精度抛光粉及其制备方法，该抛光粉的稀土重量（ＲＥＯ）≥８０％，ＣｅＯ２／ＲＥＯ≥５５％。提供的高精度抛光粉具有粒度分布均匀，悬浮性好，硬度高，研磨均匀，使用寿命长。制备方法工艺流程简单，环保，工艺容易操作，易于工业化生产。

３６ 氧化铈磨料在ＰＩ介电材料抛光中的用途，其中所述氧化铈磨料混合于化学机械抛光液形成组合物使用，使用氧化铈作为磨料，在适当的氧化铈磨料含量和抛光液ｐＨ范围下，表现出较高的ＰＩ介电材料的抛光速率。

３７ 乙酸在ＳＴＩ抛光中的用途。抛光液不仅具有较高的二氧化硅抛光速率，还具有较高的二氧化硅／氮化硅抛光速率选择比，在抛光过程中，能够在高效地去除二氧化硅介质层的同时，使抛光停止在氮化硅层，从而得到满足工业生产要求的抛光产品。

３８ 焦性没食子酸在二氧化硅抛光中的用途，所述焦性没食子酸与化学机械抛光液混合使用，化学机械抛光液包括氧化铈研磨颗粒，焦性没食子酸的浓度为２０‑１０００ｐｐｍ，化学机械抛光液的ｐＨ为４．５。通过向化学机械抛光液中添加焦性没食子酸，能够适当抑制二氧化硅的抛光速率，从而避免了抛光过程中在二氧化硅表面产生蝶形缺陷，提升了抛光产品的质量。

３９ 废弃稀土抛光粉中硅铝杂质的脱除方法，通过将废弃稀土抛光粉和碱液在研磨介质作用下混合，可利用研磨介质的机械作用，使碱液与废弃稀土抛光粉充分接触，并使废弃稀土抛光粉中包覆在稀土氧化物表面的硅铝杂质脱落，从而加快后续浸出反应的进行，缩短反应时间，提高浸出效率，达到减少碱液用量、降低能耗的目的。

４０ 从废稀土抛光粉中提取铝、氧化硅和稀土的方法，包括在预处理后的废稀土抛光粉中加强酸，将铝、稀土溶解，氧化硅粉留在浸出渣中将含有氧化硅粉的浸出渣洗涤和纯化，得到氧化硅粉；在浸出液中加入沉淀剂将稀土沉淀、过滤得到稀土盐和铝盐溶液；将铝盐溶液中和后，静置沉降２～１２小时，得到含铝产品；将稀土盐经过氟化和灼烧，制备稀土抛光粉。将废稀土抛光粉中的硅、铝和稀土进行了综合回收，形成超细氧化硅粉、铝盐和稀土抛光粉三种产品，无固废产生，有价元素全部利用。

４１ 玻璃用抛光液，采用氧化铈与氧化铝复配作为磨料，氧化铝可有效提高抛光速率，氧化铈可降低加工件表面粗糙度，提高玻璃强度；同时分散剂中的Ｆ、Ｏ等元素可与磨料粒子中的金属离子络合，提高抛光液的悬浮性；上述组分共同作用，使得抛光液悬浮分散性较好、稳定性强的同时，也具较好的抛光效率，使抛光后产品强度高、粗糙度低、表观良率较高。

４２ 稀土抛光粉及其制备方法，包括，改性碳酸稀土前驱体的合成、改性碳酸稀土前驱体洗涤、改性碳酸稀土前驱体的脱水、焙烧、粉碎等步骤。本发明制备的稀土抛光粉具有耐磨性好，抛光速率快，拋光精度容易控制；产品的均一性好，生产效率高、成本低、无污染，适用于集成电路、平面显示、光学玻璃等电子信息产业精密器件的表面拋光加工。

４３ 氧化铈抛光液及其制备方法和应用。其中，该抛光液含有研磨剂、分散剂、消泡剂和水，其中，研磨剂为氧化铈、氧化镧、氟化镧、氧氟化镧和氧化钛的混合物；分散剂为烯丙基聚氧乙烯醚和／或聚氧乙烯辛基苯酚醚与三乙基己基磷酸、乙烯基双硬脂酰胺、苯乙烯磺酸钠的混合物；消泡剂为聚氧乙烯聚氧丙烯醇胺醚和聚醚二甲基硅氧烷共聚物。将该抛光液应用于玻璃表面进行抛光，抛光效率高，分散能力强以及持久消泡效果好和能够长时间消泡。

４４ 用于抛光玻璃的稀土抛光液及其制备方法，兼具高切削量、高表面质量且可降低有机物的使用，对环境友好。

４５ 超精密氧化铈抛光粉的筛选方法，用于抛光表面用氧化铈抛光液的制备，该方法筛选的溶液粒径更小，粒度分布更均匀，用于超光滑表面抛光，不易产生划痕。

４６ 镧铈钇稀土抛光粉以含钇的稀土盐溶液为主要原料，以碳酸氢铵为沉淀剂进行合成，再经洗涤、过滤、煅烧、破碎分级等工序获得。钇的添加使抛光粉的形貌从根本上发生变化，由原来的不规则的块状变成规则的片状，浆料悬浮性更好，有效成分更多，从而增强了浆料的切削力。

４７ 镧铈镨钕钇稀土抛光粉，稀土抛光粉颗粒均匀、粒度分布窄，抛光后玻璃表面光洁度好。

４８ 钇铈稀土抛光粉，其该抛光粉以含钇和铈的稀土盐溶液为主要原料，经过合成、洗涤、过滤、煅烧、破碎分级等工序获得，所制备的稀土抛光粉颗粒形貌均匀，松装比重小，用量小，使用寿命长的稀土抛光粉。

４９ 玻璃用抛光粉、抛光液及其制备方法、玻璃和电子产品，涉及玻璃抛光技术领域。通过控制抛光粉成分含量、粒度分布和硬度，既能保证高切削速率又能减少划伤。此外，通过悬浮剂、分散剂、流平剂和助磨剂的添加，增加了抛光粉悬浮性能、分散性能、流平性和均匀性能以及研磨效率，抛光液悬浮、分散性能优异，抛光速率高，表面质量好。

５０ 具有长效性的稀土抛光剂，相比现有技术具有以下优点：本发明中通过合理配比各原料，得到各原料分布均匀的抛光剂，适合用于树脂镜片抛光，具有极低的粘度和高铺展性，能够有效延长保存周期，降低长期保存后刮伤比率，切削力强，抛光效率高，抛光后易清洗。

５１ 稀土基晶体抛光粉的制备方法，具有粒径分布窄、活性高和抛光效果好的特点，在粉末冶金技术行业的发展中具有广阔的前景。

５２ 用于玻璃抛光的氧化铈液态悬浮抛光液，具体为玻璃抛光液技术领域。产品除了添加触变剂之外，也添加其它助剂，使氧化铈为粉颗粒分散，降低玻璃抛光划伤；玻璃接口产生钝化，容易研磨抛光，并且不产生团聚现象。有效延长氧化铈磨料寿命，提高研磨和抛光质量，并且提升研磨抛光液的使用寿命，并且降低研磨抛光液的物料成本，研磨过程，降低研磨玻璃工件划伤的问题。

５３ 稀土氧化物抛光粉原料的生产方法，包括如下步骤：（１）将稀土氯化物的水溶液加热，然后分批加入碳酸氢铵溶液，得到稀土碳酸物；（２）将稀土碳酸物分阶段热处理，从而得到稀土氧化物抛光粉原料。本发明的方法可以获得粒度均匀性良好的抛光粉原料。

５４ 玻璃抛光用纳米氧化铈抛光液及其制备方法，提供的纳米氧化铈抛光液在上述组分的协同作用下具有较高的抛光效率，且抛光产品表面粗糙度较低。纳米氧化铈抛光液进行玻璃晶片抛光时，抛光产品的平均表观良率＞９０％，平均抛光速率为１‑２μｍ／ｍｉｎ，产品的表面粗糙度由Ｒａ＞０．９ｎｍ降至Ｒａ＜０．６５ｎｍ。

５５ 抛光液组合物及其制备方法和玻璃抛光方法。所述制备方法包括将稀土氧化物、加速剂和水混合，然后依次加入润滑剂和ｐＨ值调节剂。本发明还涉及抛光液组合物对玻璃进行抛光处理。通过上述技术方案，抛光液组合物，在低压条件下抛光效率高，玻璃抛光后表面粗糙度低、划伤率低、玻璃表面平整，易清洗。

５６ 光学玻璃抛光用高浓度氧化铈抛光液，包含氧化铈磨料、有机酸抛光速率促进剂及复配表面活性剂。氧化铈抛光液浓度高、悬浮稳定性好，在保证高抛光效率的同时，能有效提高抛光后光学玻璃的表面质量。

５７化学‑机械抛光组合物，其包含：（ａ）湿法氧化铈研磨剂，（ｂ）包含含胺的锚定基团及亚乙基氧‑亚丙基氧稳定化基团的表面活性剂，其中该表面活性剂具有约１０００道尔顿至约５０００道尔顿的分子量，（ｃ）芳族羧酸或杂芳族羧酸，及（ｄ）水，其中该抛光组合物具有约３至约６的ｐＨ。本发明进一步提供利用本发明化学机械抛光组合物来化学机械抛光基板的方法。典型地，所述基板含有硅氧化物。

５８                                                                                                                                        镧铈稀土抛光粉的制备方法，工艺操作简单，原料价格低廉，生产成本低，适合大规模工业化的高效率地制备粒度均一的高性能镧铈稀土抛光粉。

５９ 玻璃抛光用水基氧化铈抛光液及其制备方法，抛光液悬浮分散性好，抛光后产品良率高。

６０ 稀土抛光粉及其制备方法，稀土抛光粉为镧铈稀土抛光粉或镧铈镨稀土抛光粉，抛光速率比正常的镧铈抛光粉高１０％以上，抛光的良率与对比镧铈抛光粉相当，玻璃的易清洗程度和使用寿命优于未取代的稀土抛光粉。

６１ 无氟稀土抛光粉组合物及其制备方法，将氧化铈和氧化钐的组合物通过沉淀剂进行共沉淀，并进行脱水和水洗后再进行后处理，所用的沉淀剂是碳酸盐、草酸盐或者氢氧化物中的一种或多种。制备的无氟稀土抛光粉在ＲＬ‑１３Ｂ抛光机上进行手机玻璃抛光实验，抛光速率比市场上其它的稀土抛光粉高１５％左右，优于无氟铈基抛光粉，改善了无氟铈基稀土抛光粉的性能，提升了稀土抛光粉的品质，降低了稀土价格波动造成的稀土抛光粉价格的波动。

６２ 钐铈稀土抛光粉及其制备方法，制备的钐铈稀土抛光粉在ＲＬ‑１３Ｂ抛光机上进行抛光实验，抛光速率比正常的镧铈抛光粉高３０％左右，抛光的良率与对比的镧铈抛光粉相当，玻璃的易清洗程度优于其它稀土抛光粉，使用寿命优于其它稀土抛光粉。本方法通过制备钐铈稀土抛光粉，达到了开拓氧化钐应用的目的，同时利用了氧化钐在稀土抛光粉中相比于氧化镧的优势，大大提升了抛光粉的性能。

６３ 氧化铈抛光粉的制备方法，包括以下步骤，高温保温灼烧阶段，在５００～１１００℃的温度条件下，先采用氧化性气氛灼烧，后采用还原性气氛灼烧，采用还原性气氛灼烧时，控制烟气中ＣＯ占烟气的体积比０．００５‑５％；降温阶段，采用还原性气氛灼烧氧化铈抛光粉，直到温度低于５００度。该稀土抛光粉的制备方法，在还原性气氛灼烧时，控制ＣＯ占烟气的体积比０．５‑２％，此时三价铈的含量较高，且燃料可以充分燃烧，因此稀土抛光粉的抛光速率较高，从而提高稀土抛光粉抛光的精度。

６４ 氧化铈抛光粉的制备方法，该氧化铈抛光粉的制备方法，在还原性气氛灼烧时，控制ＣＯ占烟气的体积比０．５‑２％，此时三价铈的含量较高，且燃料可以充分燃烧，因此稀土抛光粉的抛光速率较高，从而提高稀土抛光粉抛光的良品率。

６５ 含钐稀土抛光粉，该稀土抛光粉以含钐的稀土盐溶液为主要原料，向原料中加入含氟的沉淀剂溶液，通过调整沉淀剂中的氟离子浓度控制产品中的氟含量，再经洗涤、烘干、煅烧、破碎分级等工序获得。该工艺区别于其他生产工艺的主要表现为在稀土原料中引入了钐元素，在沉淀剂中引入了氟元素，具有制备工艺简单，原材料来源广泛等优点。所制备的稀土抛光粉晶粒均匀、棱角明显，切削速度快。

６６ 含钐铈基抛光粉，该铈基抛光粉以含钐的稀土盐溶液为主要原料，采用共沉淀方式，以含氟的混合沉淀剂进行合成，再经洗涤、过滤、煅烧、破碎分级等工序获得。本发明在稀土原料中引入了钐元素，使所得的铈基稀土抛光粉棱角更加锋利，晶粒均匀紧密，在保证表面精度的同时，具有较好的研磨效率及循环使用性能。同时具有制备工艺简单，原材料来源广泛等优点。

６７ 化学机械抛光液，包括溶胶型氧化铈、含羟基的非离子型表面活性剂以及ｐＨ调节剂。采用溶胶型氧化铈研磨颗粒与含有羟基的非离子型表面活性剂配合使用的技术方案，在一定ｐＨ条件下，实现在几乎不降低氧化硅的抛光速率的条件下，提高氧化硅对多晶硅的选择比。

６８ 用于ＴＦＴ‑ＬＣＤ玻璃基板的高效抛光液，抛光液利用率高，降低了生产成本，同时减小了抛光液废液对环境的污染；本发明抛光液抛光玻璃基板的材料去除率高，抛光后玻璃表面无明显划痕，表面粗糙度比抛光前有所降低，同时反应器使用透明的非金属材料，能够避免有机物、金属离子、大颗粒等有害物质进入到抛光液中，从而降低金属离子的浓度，避免硅溶胶凝聚现象的出现。

６９ 新型稀土抛光粉及其制备方法。制备方法将烘干后的产品进行湿法研磨成球状，然后在包覆到传统工艺流程的产品上，再进行煅烧，这样烧后的产品基本上都是亚球形的，经过气流磨粉碎后，所生产的抛光粉没有锐角，形状都是亚球形的，不会对玻璃产生划伤，质量的到了极大的提升。

７０ 微酸性条件下的碱性玻璃抛光液，其特征在于：抛光液的有效成份为稀土氧化物，以及一种有机和／或无机缓冲液，使抛光液保持ｐＨ在５‑８之间。该抛光液用于含硅化合物以及其它各种氧化物或半导体或导体、玻璃制品、单晶硅表面、芯片生产的绝缘氧化层的抛光。

７１ 高浓度氧化铈抛光液及其制备方法，采用有黄原胶与ＣＭＣ复配作为增稠剂，可以使得氧化铈颗粒长时间悬浮于抛光液中，并使用硅溶胶做为稳定剂，通过其与氧化铈之间相互作用，可以减少氧化铈颗粒团聚，使其不板结于抛光液底部，增强其再分散性。本发明的抛光组合物，适用于液晶玻璃基板、手机盖板玻璃、光学玻璃元件等的抛光，其优势在于切削力大、表面质量好，抛光后易清洗。

７２ 二氧化铈抛光液的制备方法，将二氧化铈粉体加入硅烷基偶联剂化合物与有机溶液的混合溶液中，所述硅烷基偶联剂化合物为一端含有烷氧基，一端含极性官能团；所述有机溶液中有机溶剂为醇类；混合溶液脱水干燥后即可得到抛光粉，然后将抛光粉溶于水溶液中，即得到抛光液。根据本发明的方法所得到的二氧化铈粉末，能够在水溶液中稳定而均匀地分散，并且具有较长悬浮时间，不易产生沉淀，可应用于制作各种二氧化铈相关的抛光粉浆、液浆，具有一定的产业应用价值。

７３  从稀土抛光粉废渣中回收抛光粉的方法：以玻璃抛光行业所产生的稀土抛光粉废渣为原料，首先采用酸性溶液对其进行活化，然后通过特殊药剂浮选以及碱液中和和旋流分级等技术手段，实现稀土抛光粉废渣中含有的无效组分及颗粒较细的过磨稀土组分与保持原有抛光特性的稀土组分之间的高效分离，由此获得高含量稀土抛光粉，并且采用碱液中和的方式实现特殊浮选药剂的高效再生与循环利用。有效保持了稀土抛光粉原有的抛光特性，并且无需高温焙烧过程，有效降低了能耗。