１    一种铝钛复合材料用抛光液及其制备方法

       将金刚石微粉、硅溶胶、润滑剂、表面活性剂、分散剂、改性硅院偶联剂等原料进行复配得到铝铁复合材料用抛光液，其中改性硅；院偶联剂可以提高金刚石微粉等抛光液磨料与有机添加剂的相溶性，它能够在无机材料和有机材料之间架起一座桥梁，使它们之间能够更好地结合和相互作用，进而改善抛光液的整体性能，提高抛光液的稳定性和分散性，确保抛光液在使用过程中能够均匀、稳定地作用于材料表面。其组分中未采用磷酸和硝酸，且未含磷不口氮元素，不会对环境产生磷和氮相关的污染，囚而环保性较好。

２    一种Ｍａｘ相ＴｉＡｌＣ材料的抛光方法及所制备的Ｍａｘ相ＴｉＡｌＣ抛光材料

       包括如下步骤：采用抛光垫和扩１ｆｔ光液进行抛光，抛光液中磨料为金刚石，金刚石的质量为抛光液质量的ｏ　．ｌｗ　ｔ％～５ｗ础，抛光液中金刚石的粒径为３０ｎｍ～２５０ｎｍｊ　抛光垫的硬度为邵氏硬度Ａ３０～９０度；抛光垫的密度为０．３～０．７ｇ／ｃｍ２　。本发明提供的Ｍａｘ相ＴｉＡＩＣ材料的抛光方法，利用抛光垫代替固结磨粒的研磨盘加工，大大简化了工艺。

３    一种金刚石用抛光液及金刚石化学机械抛光方法

       金刚石用抛光液由去离子水、金刚石微粉、铁粉、催化剂及分散剂混合后搅拌均匀而成；通过在抛光液中参入铁粉，铁粉能够降低金刚石石墨化的活化能，对金刚石表面进行催化作用，这种催化作用加剧了金刚石向石墨的转变，使金刚石表面变得十分柔软，从而使金刚石表面碳原子更容易脱离。铁粉催化的作用加快了金刚石材料的抛光去除过程，使得金刚石抛光能在短时间内达到理想的表面５　质量和精度。

４    一种用于高硬度材料的水溶性金刚石研磨膏及其制备方法

       用于高硬度材料的水溶性金刚石研磨膏，该水溶性金刚石研磨膏包括硬脂酸１０－８０份、人造金刚石微粉２－２００份，如此得到的水溶性金刚石研磨膏可以应用于高硬度材料的研磨抛光，且易清洗、润滑、冷却效果极佳，且可以有效提高研磨效率；对高硬度碳化吗材质进行打磨，其研磨结果表面，碳化吗材质的表面粗糙度Ｒａ为０．０５５川，相对未打磨前的粗糙度明显降低，材料表面干净、划痕少，且易清洗。

５    一种油性金刚石研磨膏及其制备方法

       可以应用于该用于高硬度材料的油性金刚石研磨膏。同样地，用于高硬度材料的油性金刚石研磨膏的有益效果可以应用于用于高硬度材料的油性金刚石研磨膏的制备方法。

６    用于不锈钢小游隙关节轴承的研磨膏

       解决了轴承安装收口后轴承外国受收口力作用而产生变形，挤压内圈从而导致轴承安装收口后出现卡滞抱死的问题。该方法推广实施性较强，适用于各种关节轴承研磨过程，提高轴承研磨后的实物质量，可广泛应用于航空、航天、汽车、轮船等行业的关节轴承安装固定。

７    一种化学机械抛光剂及化学机械抛光工艺

       包括无机纳米颗粒，且无机纳米颗粒至少包括二氧化铈纳米颗粒、二氧化硅纳米颗粒和金刚石纳米颗粒，适用于抛光硬度更大的衬底如ＳｉＣ　衬底、Ａ１　２０３衬底、金刚石衬底等，同时该化学机械抛光剂大幅度地提高了抛光的效率，提升了抛光厚度司的均匀性，另外，无机纳米颗粒的纳米尺寸也抑制了化学机械抛光工艺中常见的划伤缺陷，为半导体器件良率的稳定性提供了足够的保障。

８    一种多晶金刚石用抛光液及抛光方法

       提供多晶金刚石用抛光液包括金刚石微粉、高锰酸钾和水，金刚石微粉、高锰酸钾和水的质量比为（０．５～２）：（３～１０）：１００，多晶金刚石用抛光液采用稀硫酸调节ｐＨ至２～５。利用大粒径的金刚石微粉和水混合配制研磨液对待加工多晶金刚石样品进行研磨，然后采用抛光液对研磨后的多晶金刚石样品进行抛光。能够实现多晶金刚石表面的高效抛光，且获得金刚石膜表面超光滑，结构无损伤，表面粗糙度可低至１ｎｍ以下，能够满足制造超硬切削工具、半导体、红外光学窗、高性能散热器等领域的基本要求。

９    一种二氧化锰包覆金刚石复合磨粒及制备方法、抛光液及制备方法

       通过高锰酸钾与稀盐酸反应得到二氧化瞌化学沉积在金刚石表面，得到二氧化锰包覆金刚石的复合磨粒。本发明的新型抛光磨粒，相比于传统金刚石磨粒，可以得到更高的材料去除卒，实现了最佳的抛光性能。

１０ 一种用于碳化硅衬底ＤＭＰ的团聚钻石研磨液的制备方法

       其中制备方法包括以下步骤：Ｓ１、原料处理，包括：原料分选、原料酸洗、原料漂洗、原料烘干；Ｓ２、雾化干燥；Ｓ３、烧结成型；Ｓ４、精密分选；Ｓ５、干燥；Ｓ６、研磨液制备，包括：粉体改性、将改性后的原料配比称重、将称重后的原料搅拌混合、罐装，得到团聚钻石研磨液。通过采用团聚金刚石以及其他软磨材料制成复合磨料，采用超声水煮法对原料进行改性，通过添加ＰＶＰ作为分散剂等，进一步地提高研磨的效率和研磨后的产品质量。

１１ 一种悬浮抛光液及其制备方法和碳化硅的抛光方法

       提供的悬浮抛光液悬浮能力好、单位时间内碳化硅移除率高和表面粗糙度低、不易堵塞抛光设备管路、不污染抛光垫、不影响碳化硅器件性能并且不易划伤碳化硅。

１２ 一种用于增材制造的金属粉末研磨液配方和工艺

       研磨方法研磨液包括以下组分：油性有机溶剂７０‑８０份；悬浮剂１０‑１５份；磨料１５‑２０份；其中，悬浮剂包括大环多元醚或大环聚醚；磨料为络合剂和表面活性剂包覆的金刚石颗粒；悬浮剂与络合剂交联。提供的技术方案采用络合剂和表面活性剂对金刚石颗粒进行表面包覆，进而配合悬浮剂使得磨料的悬浮性能更好，不容易沉底，提高了研磨的效率。

１３ 一种用于碳化硅衬底研磨用团聚钻石液的制备方法

       有别于传统单晶钻石液，该研磨液搭配铸铁盘使用，并且采用水基体系，加入了聚丙烯酸改性的三维立体悬浮剂，确保单晶金刚石颗粒能均匀分布，并且能形成稳定液膜，提高研磨速率，从传统的０．５ｕｍ／ｍｉｎ提高到１．０ｕｍ／ｍｉｎ以上；该体系采用亚硝酸盐、磷酸盐、硅酸盐做为分散剂及防锈剂，确保金刚石颗粒的分散性能，避免软团聚的形成；并采用了超尺寸颗粒分离技术，对超大颗粒金刚石进行分离，避免划伤不良；采用高速乳化分散头对水基体系进行搅拌分散，确保液体的均一性。

１４ 一种金刚石用抛光液及金刚石衬底的抛光方法

       属于金刚石抛光技术领域。该抛光液包括金刚石微粉、三价铁盐、双氧水和水，所述抛光液中金刚石微粉、三价铁盐、双氧水和水的重量比为（０．０２～０．１）：（０．０２～０．１）：（０．０５～０．１）：１，双氧水中过氧化氢的浓度为３０％。抛光液通过使用微溶于水的铁盐来实现铁源的供给，能够在双氧水的存在下实现羟基自由基的稳定供应，从而有效去除金刚石表面的杂质，实现对金刚石表面的原子级粗糙度的控制。

１５ 一种金刚石用研磨液及金刚石衬底的研磨方法

       属于金刚石研磨技术领域。该研磨液包括金刚石微粉、碳化硼微粉、双氧水和水，所述研磨液中金刚石微粉、碳化硼微粉、双氧水和水的重量比为（０．０８～０．１５）：（０．０８～０．１５）：（０．０５～０．１０）：１，所述双氧水中过氧化氢的浓度为３０％。研磨方法中采用含有双氧水的研磨液与表面固定有金刚石微粉的研磨盘相互协同，能够实现对金刚石衬底的均匀且高效研磨，显著降低研磨后的金刚石衬底的粗糙度并提高成品率，提高了金刚石衬底的应用前景。

１６ 再造金刚石研磨液和废弃金刚石研磨液的回收再利用方法及应用

       该方法的装置提供的再造金刚石研磨液，其包括添加剂和废弃金刚石研磨液；提供的回收再利用方法能够将废弃金刚石研磨液回收得到再造金刚石研磨液，回收得到的金刚石研磨液的性能能够恢复至和使用前的性能相当，符合再利用要求；通过提高废弃研磨液的质量，实现研磨液的循环利用，从而降低了机械研磨工艺的成本，且循环利用的工艺简单，易于实现操作。

１７ 一种抛光效率高的钛合金抛光液及其制备方法

       该抛光效率高的铁合金抛光液及其制备方法，拧攘酸性溶剂为环保型液体，即其在抛光的过程中不会产生有毒有害气体以及废液，从而使得抛光液与传统的抛光液相较更为环保，且不会对工作人员的身体健康造成不良影响，此外由改性氧化锆粉和改性金刚石粉构成抛光料和聚乙二醇可有效提高抛光液的耐磨性能，并以此提高昆抛光液的抛光效率，同时改性氧化锆粉和改性金刚石粉均为可回收物质，进而便于降低其生产成空本。

１８ 一种抗腐蚀金刚石研磨液及其制备方法

       按重量份数计，所述研磨液包括以下原料：改性金刚石０．５‑５份，氧化剂０．２‑５份，ｐＨ调节剂０．１‑３份，缓蚀剂２‑５份，润滑剂０．１‑２份，稳定剂０．３‑５份，去离子水７５‑９０份。提供的研磨液具有抗腐蚀以及高分散性的性能，可以广泛应用于精密研磨抛光领域，具有较好的商业应用价值。

１９ 一种金刚石研磨液及其制备方法

       该研磨液是由改性磨料、有机溶剂和表面活性剂组成。该金刚石研磨液具有研磨效率高、磨料分散均匀，悬浮稳定性好，长时间放置不会产生沉降分层现象，解决了市面上产品存在的金属腐蚀及团聚、分层等问题，对环境无污染。

２０ 一种金刚石研磨液配方和工艺

       制备方法由以下重量份的原料制备而成：金刚石微粉０．５～６份、高分子微球０．０２５～２份、分散剂０．１～５份、悬浮剂０．２～５份、ＰＨ调节剂０～１份、去离子水６０～９０份。金刚石研磨液组成配比科学，能够提高熔石英研磨加工的效率，减少深划伤，改善表面加工质量，缩短加工周期。

２１ 一种氮化镓晶圆的绿色抛光液配方和工艺

       一种以芬顿反应为氧化剂、金刚石为磨粒的氮化镓晶圆的绿色抛光液，采用的抛光液打破了芬顿反应ｐＨ不大于３的限制，使抛光液在偏中性环境中仍有较好的氧化性，且抛光液稳定性较好，绿色无污染，抛光效果好。

２２ 一种油基热敏活性研磨液及微波辅助固结磨料研磨方法

       微波诱导热敏性研磨液中热分解型引发剂分解产生强化学洁性的自由基，快速对机械力作用下的硬脆材料进行化学改性，促进基体表面产生一层相对更软的改性层；微波加热作用下，热敏洁性研磨液作为传导介质将热量传递到待加工工件表面，提高工件表层改性层材料的塑性司变形能力；金刚石固结磨料磨盘机械去除被微波３５　加热软化的工件表层材料，低硬度的改性层破碎、层状剥落，快速暴露的新生面被进一步改性和去除，获得高的加工效率。

２３ 一种铜触指和光通讯基座铜钨零件的表面抛光处理方法

       包括Ｓｌ、粗磨前准备：将研磨的铜触指产品或者光通讯基座古同生鸟产品和塑磨石、金刚石研磨液、硬脂酸臂、自来水加入研磨机中ｊＳ２　、粗磨：粗磨１－１．２ｈ后排出废水再次粗磨ｊＳ３　、精抛前准备：将粗磨后的铜触指产品或者光通讯基座古同生鸟产品与氧化错抛光球、磨光亮剂、自来水加入研磨机中；但、精抛：精抛时长为１５ｍｉｎ，排出废水后再震动出料；操作简单，完全靠工艺保证，再添加研磨液和抛光液，达到触指和光通讯基座铜钨零件表面需要去毛刺和表面抛光效果。

２４ 一种碱性‑耐热‑多尺寸磨粒磁流变抛光液及其制备方法

       涉及超精密加工技术领域，为解决现有磁流变抛光液大都稳定性较差，较高温度下固体颗粒易发生沉降，且磁流变抛光液的磨粒大都为单一种类和尺寸，限制材料去除率的进一步提升。提升了材料去除率，提高石英玻璃元件的抛光效率；并进一步降低抛光粗糙度，有利于加工出高质量表面。

２５ 一种反应烧结碳化硅表面抛光的方法和装置

       通过芬顿辅助抛光液，结合本申请特殊的装置，来抛光反应烧结碳化硅陶瓷制品，能够取得非常好的抛光效果，不司仅具有高光洁度、低表面粗糙度，还能够提高碳化硅陶瓷制品表面的机械强度和耐磨性。

２６ 一种适用于塑胶型眼镜材料的研磨膏配方和工艺

       减少了常规的金刚石微粉的添加量，加入了一定量的纳米金刚石＠硅化钕钽多孔微球，目的在于改善现有金刚石微粉性能的不足。经过后续检测发现，配方得到的研磨膏，不仅分散性更强，不易产生沉淀，而且去除率得到增强，抛光效果也更好。

２７ 一种掺杂金属纳米颗粒的单晶金刚石抛光液配方和工艺

       包括单晶金刚石微粉５０‑１５０份，金属纳米颗粒１０‑３０份，分散二氧化硅微球５‑１０份，氧化石墨烯１５‑３０份，润湿剂１‑２份，表面活性剂１‑２份，防锈剂１‑２份，消泡剂１‑２份，黏度调节剂１‑２份，质量分数为２６‑３０％的双氧水溶液１０００‑４０００份，浓度为０．１‑１ｍｏｌ／Ｌ的硫酸铁溶液０．１‑１０份。其中分散二氧化硅微球以水杨酸钠和十六烷基三甲基溴化铵为结构导向剂，以三乙醇胺为催化剂，将正硅酸乙酯水解后胶束自组装，再经煅烧得到。

２８ 一种具有光催化辅助功效的抛光液及其制备方法

       具有较高的悬浮稳定性，抛光效率高，散热快，可适用于硬质合金、陶瓷、光学玻璃、宝石、集成电路等多种材料的抛光加工；本发明利用超紫外线进行光催化来进行辅助来提高抛光液中粒子的动能，通过机械作用与化学作用进行紧密的结合，从而显著的弥补了机械作用产生的较大尖凸出现，造成粗糙度增加的现象的发生，有效降低了机械作用产生的多种缺陷，大幅度的提高了表面抛光质量。

２９ 一种微纳气泡辅助光催化抛光单晶金刚石双组分抛光剂及其制备方法

       它包括Ａ组分和Ｂ组分，所述Ａ组分包括催化剂、氧化剂１、ｐＨ调节剂、微纳气泡水，所述Ｂ组分为磨料、微纳气泡水、氧化剂２。使用时将Ａ组分与Ｂ组分以一定速率同步滴加于工件表面，在紫外光照的条件下实现材料的高效去除。抛光剂成分简单、组分无毒、对环境友好。采用双组分的形式，有效的避免了抛光剂可能失效的问题，保留了抛光剂强氧化性能，使其在单晶金刚石抛光过程中更好的发挥作用。

３０ 一种抛光液及ＣＨ３ＮＨ３ＰｂＩ３晶体抛光方法

       该抛光液可有效均衡ＣＨ＜ｓｕｂ＞３＜／ｓｕｂ＞ＮＨ＜ｓｕｂ＞３＜／ｓｕｂ＞ＰｂＩ＜ｓｕｂ＞３＜／ｓｕｂ＞晶体化学机械抛光过程中的机械作业和化学反应作用，使得ＣＨ＜ｓｕｂ＞３＜／ｓｕｂ＞ＮＨ＜ｓｕｂ＞３＜／ｓｕｂ＞ＰｂＩ＜ｓｕｂ＞３＜／ｓｕｂ＞晶体化学机械抛光处理过程高效、稳定，并大幅提高了晶体化学机械抛光的质量，获得优质的抛光表面，提高晶体的物理、电学性能，实用性好。

３１ 一种抛光硅片的金刚石抛光液配方和工艺

       各质量比的混合后搅拌均匀，后超声设备中震荡１０‑１５ｍｉｎ，长时间存放基本不产生沉淀，抛光质量稳定，没有对人体有害成分，有利环保。

３２ 一种研磨液、制备方法及用途

       采用碱或酸处理将金刚石团聚体预分散，通过加入润湿剂、分散稳定剂和抗防腐剂使金刚石稳定分散，制备了一种金刚石研磨液。在该分散体系中，金刚石能够稳定、均匀分散。该方法制备的金刚石研磨液可以广泛地应用于精密研磨抛光领域。

３３ 一种用于钯和铜化学机械抛光的抛光液及其制备方法和使用方法

       针对厚度相同的钯和铜共面材料，采用上述抛光液能够实现工件表面多余材质的去除与全局纳米级平坦化，避免金属交联因多层叠加效应而丧失工件平坦度，便于后续光刻工艺的进行。

３４ 一种可提升耐磨度的研磨体及其制备方法配方和工艺

       通过先将锡粉、铁粉／镇粉／钻粉／恪粉／铁粉、稀土粉和铜粉经混合、熔炼和雾化形成铜稀土合金粉，再使铜稀土合金粉与金刚石粉结合，＇铜稀土合金粉对金刚石粉的润湿性非常好，有效提高了研磨休的内部结合力，有利于延长使用寿命，耐磨度得到了大幅的提升，满足使用的需要。

３５ 一种用于镍基单晶高温合金各向异性等速去除的抛光液配方和工艺

       通过调整氧化剂浓度和国值对镇基单晶高温合金不同晶面的各向异性进行等速去除，并且使得镇基单晶高温合金获得亚纳米级表面粗糙度和趋近于零的亚表面损伤。

３６ 一种金刚石研磨液的制备方法

       采用碱或酸处理将金刚石团聚体预分散，通过加入润湿剂、分散稳定剂和抗防腐剂使金刚石稳定分散，制备了一种金刚石研磨液。在该分散体系中，金刚石能够稳定、均匀分散。该方法制备的金刚石研磨液可以广泛地应用于精密研磨抛光领域。

３７ 一种光化学机械研磨方法及光敏活性研磨液配方和工艺

       研磨的步骤为：搭建光化学机械研磨平台；启动光化学机械研磨平台对金刚石固结磨料研磨盘进行对磨；调整紫外光ＬＥＤ灯得到合适波长和强度的紫外光，利用紫外光辐照能量诱导光敏研磨液中光寻｜发剂复配物裂解产生苯甲酷和炕基自由基，引发工件表面材料形成硬度低、弹性模量小和断裂韧性高的改性层，对磨改性层得到研磨后的工件。配置光敏活性研磨液，利用光敏研磨液对机械力作用的工司件进行紫外光可控化学改性，减小甚至消除机械应力去除造成的加工损伤，从而实现难加工材料提高质量高效率超精密加工。

３８ 用于抛光例如具有大于约６的莫氏硬度的硬质材料

       硬质材料的经改进浆液（美国）示范性硬质表面包含蓝宝石、碳化硅、氮化硅及氮化镓及金刚石。在组合物及方法中，令人惊讶地发现包括添加剂的唯一组合的新颖组合物在浆液中均匀地分散具有广泛范围的颗粒大小的金刚石颗粒。一般碱性浆液组合物能够利用大于４０微米的金刚石颗粒大小同时实现良好移除速率。在此类情况下，当与适合垫一起利用时，以均匀表面损害对碳化硅、氮化硅、蓝宝石、氮化镓及金刚石进行快速且平坦研磨是可行的。

３９ 一种有机膜研磨组合物以及利用其的研磨方法（韩国）

       其特ｆ正在于：包含将亲水性基团和疏水性基团均包含在内的研磨促进剂，不仅是聚合物（Ｐｏｌｙｍｅｒ）　、ＳＯＣＳＯＨ　，还对于通过共价键强键合的有机膜，如，无定形碳膜（ＡＣＬ）　或类金刚石碳（Ｄｉａｍｏｎｄ－Ｌｉｋｅ　Ｃａｒｂｏｎ　，　ＤＬＣ）　，也可以保持高研磨速度。

４０ 一种金刚石研磨膏及其制造方法

       金刚石研磨膏主要由以下组分组成：研磨微粉、液体油和研磨助剂；通过加入球形氧化铝粉来改善金刚石微粉的分散性能及研磨性能，同时，在研磨过程中球形氧化铝粉也起到了降低研磨盘盘温的作用；通过加入金属铜粉、润滑剂、抗磨剂并采用特定的液体油等方式来降低研磨过程中的研磨盘盘温以及降低被加工工件的表面粗糙度；通过加入特定的双亲性有机物来改善金刚石研磨膏的清洗性能；通过添加增稠剂来调节研磨膏的稠度，进而改善其使用性能及研磨性能。

４１ 一种稳定全悬浮研磨用金刚石研磨液配方和工艺

       相较于现有的半悬浮或无悬浮状态的研磨液，产品具有更好的产品品质观感；将其应用于研磨加工时性能稳定，有更好的加工效率和加工表面质量；应用于研磨抛光液的批量化生产时，无沉降聚集造成灌装不均的隐忧，可实现批量化稳定生产。

４２ 一种高效低损伤金刚石研磨液配方和工艺

       该金刚石研磨液用于双面研磨时，可均匀分布于硬质研磨盘面，无返稀或分布缺失问题发生，可减少划伤产生，避免局部温度过高造成几何参数失控；同时其增稠减粘特性，在形成软性缓冲层保障效率抑制划伤的同时，也可实现研磨液的及时更新，稳定研磨加工性能。

４３ 一种浓缩型水性研磨助剂配方和工艺

       将浓缩型水性研磨助剂应用于碳化硅、氮化镓晶圆研磨加工，可大大降低直接使用金刚石研磨液成品的加工成本；同时可对金刚石磨料颗粒进行快速分散悬浮，并形成具有触变特性的稳定悬浮液。润滑剂在使用过程中可以有效降低研磨过程中的摩擦阻力，增加润滑性，有效改善研磨表面质量，并大大缩短后道晶圆抛光时间。

４４ 一种超硬半导体衬底材料研磨抛光用钻石粉体的制备方法制备方法

       包括对初选金刚石进行预处理得到纯化金刚石颗粒，将金刚石颗粒与球混合物混合，经过球磨处理得到 混合物，将混合物纯化处理得到金刚石粉，对金刚石粉进行有机处理制得改性金刚石粉。对金刚石粉进行有机处理得到改性的金刚石粉，在制备的过程中，引入了较多的有机基团，增加了金刚石粉的亲油性，从而可以使其稳定在悬浮在抛光液中，也不会溶液团聚，从而可以保证抛光液的质量，进而可以提高研磨抛光质量，从而可以使研磨抛光后的超硬半导体衬底材料表面更加平整。

４５ 一种复合型抛光液及其制备方法

       包覆型氧化铈为表面包覆有聚合物的磨料氧化铈，聚合物为六亚甲基四胺、甲氧基聚乙二醇甲基丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、４‑羟基苯并三唑丁酯中的任意两种。技术方案能够有效提升碳化硅器件表面的机械去除速率，降低碳化硅器件表面粗糙度，并能够降低划伤风险以提升碳化硅器件表面抛光质量。

４６ 一种油性金刚石抛光液、其制备方法及用途

       金刚石磨料为类多晶、多晶、单晶和聚晶中的两种或多种混合磨料。所述油性剂为烷烃与矿物油的混合物。本发明还公开了油性金刚石抛光液的制备方法，及其在蓝宝石抛光领域的用途。油性金刚石抛光液安全、环保、高效，对蓝宝石衬底无腐蚀。在相同磨料下，油性金刚石抛光液与水性抛光液相比较，具有较高的移除率以及较低的粗糙度。

４７ 一种制备金属用的抛光膏及其制备方法

       有益效果是：通过以十二烷基苯磺酸纳、磷酸盐，葡萄糖酸纳等材料作为主要添加剂，增加了研磨膏的粘稠度、ｆ曾ｉ容性、缓蚀度，并通过硅酸纳、钼酸胺等材料作为络合剂，能使不锈钢表面发生选择性洛解，形成富恪表面层而增强耐蚀性；通过石灰、长石粉或金刚石微粉的一种或混合作为主司要研磨料，可以更好的对金属表面进行研磨，去除毛刺和划痕等，并通过光亮剂对羟基苯甲酸作为搭配，提高抛光的效率。

４８ 一种金刚石抛光液及其制备方法金刚石抛光液的制备方法

       包括以下步骤：以金刚石粉末、脂类、醇类、脂肪酸和矿物油为原料，制备抛光膏；将所述抛光膏分散于十二烷基磺酸钠溶液中，得到抛光中间液；将所述抛光中间液与水混合，得到金刚石抛光液。解决了现有的抛光材料对镍质模仁表面进行抛光的抛光效果较差的技术问题。

４９ 一种混合磨料、包含其的光学石英玻璃抛光液、制备方法及用途

       包括重量配比如下的各组分：混合磨料０．５‑２份；分散剂１‑４份；ｐＨ调节剂０．１‑１份；络合剂２‑１０份；润湿剂０．５‑２份；超纯水３０‑８０份。混合磨料为金刚石和金属氧化物的复合磨料，包含该混合磨料的抛光液适用于石英玻璃的抛光，对石英玻璃无腐蚀，同时具有较高的去除率以及低于１ｎｍ的粗糙度。

５０ 一种添加纳米金属的单晶金刚石高精度抛光剂

       单晶金刚石抛光剂的制备技术领域。解决现有方法针对单晶金刚石各向异性，并满足不同原子面抛光需求。抛光剂由包覆石墨烯的纳米金属颗粒、溶剂、分散剂、ｐＨ调节剂和表面活性剂合成。在抛光过程中，制备的抛光剂可以催化单晶金刚石石墨化、促进化学效应、削弱机械作用带来的金刚石表面解理剥落、减少大颗粒金刚石磨屑的形成，防止对抛光面造成二次损伤。

５１ 一种基于碳化硅陶瓷片抛光的双ｃｍｐ抛光液配方及抛光方法

       在对碳化硅陶瓷板打磨之前，把碳化硅陶瓷板放置在酸性ｃｍｐ抛光液内浸泡，酸性ｃｍｐ抛光液内的高锚酸押可以对碳化硅陶瓷板的表面进行氧化作用，软化表面，然后在碳化硅陶瓷板打司磨过程中添加碱性ｃｍｐ抛光液进行机械打磨，在２３　碱性ｃｍｐ抛光液中的金刚石微粉和磨料的作用，可以大大提高碳化硅陶瓷板的打磨效率。

５２ 一种氧化锆陶瓷手机背板减薄用金刚石研磨液的制备方法

       将原料表面多刃化金刚石微粉置于容器中，然后加入去离子水和分散剂超声搅拌均匀，然后湿法研磨分散，得到金刚石微粉悬浮液；在所得金刚石微粉悬浮液中依次加入保湿剂、悬浮剂、消泡剂分别进行搅拌均匀；消泡剂加入后的金刚石微粉悬浮液中加入ｐＨ调节剂搅拌均匀，调节其ｐＨ值为７～１０，最后加入去离子水配制得到表面多刃化金刚石微粉研磨液。本发明的金刚石研磨液在研磨抛光过程中，采用表面多刃化金刚石微粉，具有高效减薄，并能得到低的表面粗糙度。

５３ 一种用于超硬材料的固体金刚石研磨剂及制备方法

       软磨剂为氧化铝、分散剂为乙醇、水和甘油、赋形剂为硬脂酸、芳香剂为柠檬香精、抗氧化剂为改性纳米氧化锌、光亮剂为硼硅酸钠钙、增稠剂为羟甲基纤维素钠、膨胀剂为月桂醇硫酸酯钠，不仅增强了研磨效果，使用直接方便，同时解决了传统研磨剂在使用时需要加稀释剂再使用、不能水洗、难以清洁、存放时间短、性能不稳定、使用时容易四处飞溅问题。

５４ 一种用于单晶金刚石化学机械抛光加工的抛光液及其制备方法

       制备方法包括向单晶金刚石微粉加入Ｈ＜ｓｕｂ＞２＜／ｓｕｂ＞Ｏ＜ｓｕｂ＞２＜／ｓｕｂ＞溶液、震荡、将配置好的Ｆｅ＜ｓｕｂ＞２＜／ｓｕｂ＞（ＳＯ４）＜ｓｕｂ＞３＜／ｓｕｂ＞溶液添入，调整其ＰＨ值至２～４，得到抛光液。提供的抛光液具有较大的氧化能力和去除率，实现了金刚石的高质高效加工。

５５ 一种宝石阀座密封槽用研磨抛光膏及其制备方法

       解决研磨抛光膏在宝石阀座密封槽加工过程中容易在密封槽表面形成丝划，表面精度差，表面光洁度低，与工件的粘茹性差，从而导致宝石阀座密封性差，生产效率低，生产成本高的问题。

５６ 一种可悬浮金刚石研磨液及其制备方法研磨液配方和工艺

       包括：金刚砂、去离子水、氧化铝球、分散剂、水溶性胶体。制备方法包括金刚砂的表面润湿改性、金刚砂的球磨混合、复合分散剂的使用、水溶性胶体的添加等工艺模块。解决了现有技术中金刚砂在溶剂中的分散效果差的问题。广泛应用于微波陶瓷的研磨工艺中。

５７ 一种多晶硅环的化学机械抛光方法

       在粗抛过程中将含有纳米金刚石的抛抛液分散在无纺布抛光垫上，粗抛液中氧化铝微粉能够降低硅环表面粗糙度，减小亚表面损伤层深度，提高抛光效率，在精抛过程中，精抛液能够实现化学作用司与机械作用的良好匹配，保证抛光硅晶片高去除速率的同时，避免抛光雾等缺陷的形成，提高抛革光后表面质量，抛光方法后硅环平面度＜２０μＬ破损层ＤＯＤ＝Ｏｕｍ　，经检测抛光合格。

５８ 一种碳化硅晶片加工用研磨液及其制备方法

       制备时，取金刚石微粉于分散剂和悬浮剂中，加入水，形成两相混合物，以离心分离，利用两相介质密度差分离去除粗颗粒的金刚石微粉，将粒度更加集中的金刚石微粉分散于分散剂和悬浮剂中即可得到碳化硅晶片加工用研磨液。研磨液中，金刚石微粉粒度更加集中，粗大颗粒数目远小于传统方法制得的金刚石研磨液，从而有效避免大颗粒金刚石划伤碳化硅晶片。

５９ 一种改性金刚石粉、制备方法、用途及包含其的抛光液配方和工艺

       改性金刚石粉表面功能团实现均一化，同时利用空间位阻作用使金刚石粉在抛光液中均匀完全分散，提高悬浮性，减少团聚。该抛光液具有安全、环保、高效、高悬浮性、高分散性的优点，该抛光液可长时间保持高分散状态，几乎无二次团聚，极大的提升了抛光后蓝宝石表面质量。

６０ 一种球形磨料、制备方法、用途及包含其的蓝宝石研磨液配方和工艺

       球形磨料由金刚石微粉、氧化铝粉和氧化硅粉混合烧结而成，将金刚石微粉固结在球形磨料中，增加金刚石切削锐角与蓝宝石晶片接触面积。包括上述球形磨料、金刚石磨料、悬浮剂、润滑剂、ｐＨ调节剂、润湿剂、分散剂、防锈剂和水。能在保证晶片表面质量的前提下，提高研磨效率，降低加工成本。采用蓝宝石研磨液研磨得到的蓝宝石衬底表面粗糙度低、平整度好、无明显划痕。蓝宝石研磨液具有非常良好的应用前景和大规模工业化推广潜力。

６１ 一种绿色可见光催化辅助金刚石化学机械抛光液配方和工艺                                                                                         

      使用由氧化剂、磨料、可见光光催化剂、螯合剂和去离子水组成的抛光液在可见光照射下对金刚石化学机械抛光，所述抛光液氧化剂的浓度为１５ｗｔ％～２５ｗｔ％，磨料浓度为４０～８０ｇ／ｌ，可见光光催化剂的浓度为０．０２６６７～０．２６６７ｇ／ｌ，螯合剂浓度为０．５～２ｍＭ，去离子水的重量百分比为６７％～８１％。抛光后，表面粗糙度为０．１１１ｎｍ，材料去除率为４１６ｎｍ／ｈ。实现了绿色、高效、高质量化学机械抛光金刚石。

６２ 一种碳化硅晶片电化学机械抛光方法

       利用碳化硅晶体在ＮａＮ０３　电解液中发生的阳极氧化反应末实现碳化硅晶片的高效抛光，在抛光液中使用小粒径金刚石磨料，可起到为氧化过程提供应力源的作用，加快阳极氧化的发生，从而提高抛光效率。另外，本发明能够显著提高碳化硅晶片的抛光速率，在精抛阶段也能保证好的言表面质量。

６３ 一种用于光纤接头端面的抛光液组合物

       具体含有纳米金刚石＠沸石咪唑金属框架材料（ＺＩＦ‑８）复合磨粒、纤芯下陷抑制剂、分散剂、表面活性剂和去离子水；采用提供的光纤接头抛光液组合物对光纤接头端面进行抛光，可有效降低光纤接头端面的表面粗糙度，并具有低的纤芯下陷，提高了光纤接头加工的成品良率。

６４ 一种自修整热固化型固结研磨料及其制备方法

       涉及精密研磨与抛光加工技术领域，由聚氨酯改性环氧树脂、改性石墨、分散剂、磨料、陶瓷结合剂均匀混合固化而成；其中，磨料为碳化硅和金刚石按照质量比１．　２－２：１　混合得到的混合物。申请的改性石墨配合聚氨酯改性环氧树脂，使聚氨酯改性环氧树脂的表面和内部形成一定密度的磨粒层，提高抛光的均匀性和抛光效率，且实现抛光垫的自修整功能，从而获得稳定的抛光能力。

６５ 一种抛光磨料的生产制备工艺该抛光磨料的生产制备工艺

       提高打磨上光，遇水乳化，易分散溶解，覆盖在抛光磨料的表面与金刚石微粉颗粒形成一种类似抛光膏的作用，聚氨酯绒毛粉替代传统羊毛，使被抛光物体的表面更细腻，光度更均匀，避免被抛光的物体表面留下打磨的螺旋纹，同时避免了传统抛光磨料在制备时需要对羊毛进行繁琐的处理过程，提高了生产效率。