《高质量、大规模石墨烯材料制造新技术工艺汇编》


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  • 涉及国内外近年最新研制的各种各种高质量,高性能,大规模石墨烯材料制造新技术!设备,装置,产品配方 生产工艺。产品新颖,环保,涉及面广。内容涵盖技术背景/原理、材料配方比例、制作方法、工艺步骤、结构设计图(部分设备类有),以及发明人名称、地址、邮编、申请日期、专利号、权利要求等详细信息。

                                                                                                     新版说


各位读者:大家好!

       自从我公司2000年推出每年一期的石墨及石墨烯制造系列列新技术汇编以来,深受广大企业的欢迎,在此,我们衷心地感谢致力于创新的新老客户多年来对我们产品质量和服务的认同,由衷地祝愿大家工作顺利!  石墨烯的研究已经进入快速发展阶段,石墨烯已经成为当今新材料中的“明星”材料。大规模制备高质量的石墨烯晶体材料是所有应用的基础, 发展简单可控的化学制备方法是最为方便、可行的途径, 这需要长期不懈的探索和努力;企业需要不断的研发出石墨烯及其相关材料,来实现更多的功能和应用。


1.    中国石墨烯行业发展现状
截至2023年我国从事石墨烯产业的企业已突破数千家,产业化应用已在不断推进。我国石墨烯产业已经有超过2000家的制备及相关应用开发企业,目前市场竞争也主要集中在石墨烯规模化制备技术以及与下游商业化应用对接两方面。石墨烯产业最大的瓶颈在于还没有形成完整的产业链,目前仍没有一种可以应用石墨烯的产品能够规模化生产。对石墨烯最大的需求仍然是各大院校及科研机构的研究使用。石墨烯在国内市场上从研发到应用的时间需要5-10年,需达到成熟的产业规模时间则会更长。而国内目前并没有上市公司的主营业务生产石墨烯,只有几家生产碳纤维产品的公司正在进行石墨烯产品的研制,目前都没有大规模量产的能力。中国发表的石墨烯论文主要分布在材料科学、物理化学、纳米技术、应用物理学以及高分子物理学等领域;研究热点主要在纳米材料、材料应用研究等方向。目前国内还没有能够实现石墨批量化生产的企业或研究机构,多数企业只能小量生产石墨烯,所使用的生产技术多为氧化还原法,生产出的石墨烯溶液也存在很多技术上需要突破的问题。目前国内对石墨烯的应用前景颇为看好,石墨烯未来有望应用至多个领域。

     

2.    石墨烯产业化现状及趋势分析中国石墨烯产业化现状分析

从目前公司和各科研单位的进展来看,目前国内的石墨烯企业多为处于创业成长期的中小企业,虽然企业数量初具规模,但龙头企业数量不多,规模也相对较小,较难带动整体产业链的发展和完善。而石墨烯粉体由于下游应用较为广泛分散,多数公司从自己主业出发,研究石墨烯粉体,用作主业产品的添加剂和助剂。多家上市公司有涉及。我国的石墨烯研究正处于从实验室向产业化过渡的阶段。目前国内对石墨烯的应用前景颇为看好,石墨烯未来有望应用至多个领域。但从实际情况看来,产业化尚待时日,制造工艺不稳定,成本居高不下,仍是石墨烯走向产业化的主要制约因素,从制造工艺来看,目前业内通行的方法均有各自的优势和缺陷,产业技术路径仍在探讨之中。


3、  未来的石墨烯产品投资与高端市场
随着石墨烯制备水平的发展和石墨烯应用技术水平的发展,石墨烯材料能够应用在更多的下游产品和领域中,这些待开发的领域都是未来极具投资机会的处女地。根据中国科学院预计,到2024年前后,石墨烯器件有望替代互补金属氧化物半导体(CMOS)器件,在纳米电子器件,光电化学电池、超轻型飞机材料等研究领域得到应用。关注石墨烯在锂电池、超级电容器、LED以及生物医药行业的应用◆建议:直接与研究机构合作,参与产品开发与其被动的等待研究成果进行投资,积极参与到研究中更具投资价值。国内现在很多企业及资本都把过多的经历放在了氧化石墨烯及石墨烯类的物质上。这些材料性能很一般,成本不低,也很难做出比较高技术含量的产品。把精力放在这些材料上面,与国家想要的石墨烯产业发展是背道而驰的。石墨烯做真正高端的应用,可能会有一些前景。无论是资本还是国家,都应该找到最合适的、最值得的地方去进行投资。目前开展石墨烯研究的主要是高校科研院所等研究单位和少数企业,研究力量比较分散,要尽快实现石墨烯产业化,必须通过技术创新和产学研协作,建立一条完整的石墨烯研发、生产、应用的全产业链,打造公共科技服务平台和测试平台,优化研究和产业化生产环境。


       国家提出的十大重点产业调整和振兴规划,以及新近发布的关于加快七大战略性新兴产业发展的决定,对现代高端制造业及其未来技术发展提出了更高的要求。为推动国内现代制造业的技术升级和产品换代,实现节能环保、减排增效和绿色制造的目标,促进国民经济的高效和持续发展。提高石墨材料及制品的产品质量,我公司特推出本期新技术工艺配方汇编。本期所介绍的资料,系统全面地收集了到2023年石墨及石墨烯制备制造最新技术,包括:优秀的专利新产品,新配方、新产品生产工艺的全文资料。其中有许多 优秀的新技术在实际应用巨大的经济效益和社会效益,这些优秀的新产品的生产工艺、技术配方非常值得我们去学习和借鉴。

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2025版《日本琳得科株式会社粘合剂制造工艺配方精选》

2025版《日本琳得科株式会社粘合剂制造工艺配方精选》

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目录

1使延伸后的粘合片上的物体的面剥离力低于延伸前的粘合片上的物体的面剥离力。
2粘合层在其表面具有凹凸,且在23℃下具有0.001MPa以上且1.0MPa以下的复剪切弹性模量。
3在80℃下放置168小时后的粘着剂层对浮法玻璃的粘着力为18N/25mm以下。明提供一种窗膜,其具有能够兼顾贴附时的强粘着性与经过规定期间后的再剥离性的粘着剂层。
4提供生产性优异、抑制了磨削屑的附着量的工件加工用粘合片及其制造方法、以及使用上述工件加工用粘合片的电子器件装置的制造方法。
5在活性能量射线照射前对工件的活性面显示良好的密合性,同时在活性能量射线照射后能够进行良好的工件的分离的工件加工用片
6即使对于工件的活性面也能够抑制密合性过度上升且能够实现良好的工件加工的工件加工用片。其具备基材及层叠在所述基材的单面侧的粘着剂层。
7粘着剂优选为丙烯酸类粘着剂、特别优选含有(甲基)丙烯酸酯聚合物通过交联剂交联而成的交联物。由此,可实现兼具粘着剂及再操作性。
8使该能量射线交联性粘合剂组合物进行能量射线交联而成的交联粘合剂及其制造方法、以及使用了该交联粘合剂的粘合片及其制造方法。
9含有:(A)具有能量射线交联性的丙烯酸类聚合物、以及(B)实质上不包含自由基反应性的不饱和双键、且重均分子量(Mw)为280000以下的除上述成分(A)以外的丙烯酸类聚合物。
10层叠体通过对上述树脂膜与上述能量射线交联性粘合剂组合物层的层叠体进行上述能量射线照射而形成。
11具有基材与配置于基材的一个主面上的粘着剂层的窗膜,其中,在23℃下持续施加3000Pa的剪切应力1200秒后的粘着剂层的蠕变柔量为200(1/MPa)以下。
12具备良好地追随凹凸、同时耐起泡性优异且不会产生光学不均的粘着剂层的粘着片。
13使用了该粘着片1的柔性装置在自弯曲状态释放后难以留下弯曲痕迹。蠕变变化率(%)=(1‑C2/C1)×100…(I)。
14表面粗糙度变化率(%)=(1‑加压后Sa/加压前Sa)×100…(1)。
15导热性粘着剂组合物,其含有粘着性树脂、具有二维结构的石墨烯及填料。
16能够发挥对被粘物的良好的固定性,同时能够实现粘着剂层的再循环。
17有机硅类粘着剂,能够良好地将剥离片剥离。
18活性能量射线固化后的上述粘着剂的凝胶分率优选为60%以上且99%以下。根据上述粘着片1,可谋求兼顾内聚力与密合性。
19该粘着片1适合贴附于具有多个发光体的构件。
20粘着片的耐候性及耐起泡性优异。
21该工件加工用片,即使在长时间暴露于荧光灯下时,也能充分地维持粘着力。
22高频介电加热用粘接剂,测定的上述高频介电加热用粘接剂(1A)的全光线透过率为50%以上。
23具备基材与层叠于所述基材的单面侧的粘着剂层的工件加工用片,所述粘着剂层由含有受阻胺类稳定剂的活性能量射线固化性粘着剂构成。
24该固化性粘接片满足下述要素(I)。要素(I):以剥离角度180°、剥离速度300mm/分钟从上述固化性粘接剂层剥离第1剥离膜时的剥离力(R1)为250mN/50mm以下。
25该工件加工用片即使在进行了加热处理的情况下,仍能够容易地进行带保护膜的工件的分离。
26该固化性粘接片满足下述要素(Ia)。·要素(Ia):第2剥离膜的厚度(T2)与第1剥离膜的厚度(T1)的厚度比(T2)/(T1)为1.05以上。
27含有具有羟基的苯氧基树脂(A)和在常温下为液体的含环状醚基化合物(B)的粘接剂组合物形成,凝胶分率为15%以上。
28该方法是以上述粘合剂层作为粘贴面将上述粘合片粘贴于作为被粘附物(W)的一面的面(Wα)后使其部分膨胀的方法,该方法包括工序1及2。
29半导体加工用粘合片依次具有表面涂层、缓冲层、基材及粘合剂层,所述表面涂层含有苯乙烯类树脂,所述苯乙烯类树脂中的源自苯乙烯类化合物的结构单元的含量为50质量%以上。
30半导体加工用粘合片依次具有表面涂层、缓冲层、基材及粘合剂层,上述表面涂层是含有树脂成分和经过了疏水化处理的二氧化硅的层。
31提供固化性粘接剂组合物,其包含:具有反应性官能团的粘结剂树脂(A);具有乙烯基、数均分子量为1500以上且小于5000的聚苯醚树脂(B);以及具有2个以上在末端具有双键的不饱和烃基的多官能性化合物(C)。
32本发明提供一种固化性粘接剂组合物、其固化物和固化物的制造方法
33使用了该能量射线交联性粘合剂组合物的粘合片、使该能量射线交联性粘合剂组合物发生能量射线交联而成的交联粘合剂及其制造方法、以及使用了该交联粘合剂的粘合片及其制造方法,
34相对于所述原料组合物的有效成分总量含有0.1质量%以上的(B)成分,所述固化性粘接剂层的凝胶分数为10质量%以上。
35通过固化性粘接剂组合物固化,提供在23℃、频率1GHz下的介电损耗角正切低于0.0050的固化物。
36所述导电性基材在该导电性基材的面扩展方向上实质上不具有延伸露出的伸出部,所述中间层的至少一部分为包含导电性粘合剂层的结构。
37通过特定的压痕深度的变化率的测定方法测定的压痕深度的变化率为60%以上。
38在剥离2秒后,对距离上述ITO‑PET膜的露出面50px的位置的静电电位进行测定而得到的剥离静电压为0.15kV以下。
39导电性基材在该导电性基材的所述导电层侧与具有电剥离性的第1粘合剂层层叠。
40粘着剂层(12)与硅镜面晶圆之间的粘着力(X0)为5000mN/25mm以下,以130℃对粘着剂层(12)进行加热、使其进行能量射线固化时,粘着剂层(12)的能量射线固化物与硅镜面晶圆之间的粘着力(X1)为400mN/25mm以下。
41用于光学用途的粘着剂,所述粘着剂包含具有大于2.5且为3.0以下的修饰度的修饰环糊精,所述粘着剂的凝胶分率为1.0%以上。该粘着剂即使在高温下其耐久性也优异。
42该热膨胀性粘接剂组合物的热膨胀性粘接片,所述热膨胀性粘接剂组合物含有热固性树脂(A)、热膨胀性粒子(B)及无机填料(C),上述无机填料(C)的平均粒径(D&lt;subgt;50&lt;/subgt;)为200nm以下。
43以10m/分钟的剥离速度从粘着剂层上剥离时的第一剥离片的剥离力比以10m/分钟的剥离速度从粘着剂层上剥离时的第二剥离片的剥离力大且剥离力差大于24mN/25mm,以2.4m/分钟的剥离速度从粘着剂层上剥离时的第一剥离片的剥离力为150mN/25mm以下。
44样品的距法线15°处的亮度相对于所述样品的正面0°处的亮度的亮度比为0.003以上,去偏振度为2.20%以下。
45优选该(甲基)丙烯酸酯聚合物含有含芳香环单体作为构成该聚合物的单体单元。
46提供具有抗静电性且拾取性优异且粘着剂层与基材的密合性优异的工件加工用片。
47半导体加工用粘合片依次具有表面涂层、缓冲层、基材及粘合剂层,上述表面涂层是由含有有机硅化合物的表面涂层形成用组合物形成的层。
48半导体加工用粘合片依次具有表面涂层、缓冲层、基材及粘合剂层,上述表面涂层相对于SUS304的静摩擦系数为0.70以下。
49在硅晶圆的#2000抛光面上贴附保护膜形成膜1小时后,该保护膜形成膜对硅晶圆的粘着力在23℃下为20N/25mm以下。
50所述保护膜形成膜的400~700nm整个波长范围的光的反射率为20%以上。
51按照JIS L 1094:2014测定的所述保护膜形成膜的最大静电压为1000V以下、且静电压的半衰期为30秒以下。
52所述基材由选自含有聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚丁二酸丁二醇酯和聚乳酸中的至少一种材料构成。高酸值聚酯树脂的玻璃化转变温度优选为20℃以上85℃以下。
53从23℃升温至130℃时的每1℃的平均位移量(A23→130)比从130℃缓慢冷却至50℃时的每1℃的平均位移量的绝对值(|B130→50|)小。
54将基材(11)沿MD方向拉伸而使其伸长50%时的拉伸应力与将基材(11)沿其CD方向拉伸而使其伸长50%时的拉伸应力之比(R50%)为1.3以下。
55所述粘接糊在低温下加热而得到的固化物的粘接性优异,并且即使涂布在被涂布物上后经过长时间后,也可良好地安装半导体元件。
56本发明提供一种能够兼顾片的拉出不良与隔着基材观察时的激光打标的辨认性的支撑片、具备该支撑片与保护膜形成膜的保护膜形成用复合片、以及半导体装置等装置的制造方法。


     《高质量、大规模石墨烯材料制造新技术工艺汇编》​部分内容介绍
















亲疏水性可控的还原氧化石墨烯技术配方
















新技术:低能耗高效还原氧化石墨烯制备石墨烯配方















石墨烯技术要闻:石墨烯在众多领域有着巨大的应用前景。如在生物医药领域,水性石墨烯分散液具有很好的生物相容性,可用于药物的载体、基因检测以及生物成像等。同时,石墨烯分散液在基底上通过旋涂或喷涂的方式可制备透明导电薄膜。此外,石墨烯分散液在纳米复合材料领域也有着重要的应用前景,如提高材料的耐磨性、抗压强度、拉伸强度等性能。石墨烯粉体可通过还原氧化石墨烯浆料经过过滤、干燥制备得到,目前己在新能源、导热散热膜、催化领域表现出很好的应用前景。







国内企业优秀技术:涉及化学还原法还原氧化石墨烯制备石墨烯技术领域,具体涉及一种低能耗高效还原氧化石墨烯制备石墨烯的方法。解决常用的还原剂有水合月井、金属氢化物、硼棚氢化纳、对苯二酚等。水合肼因其毒性较大,现逐渐被其它还原方法取代:金属氢化物作为强还原剂使用过程中存在一定安全隐患:对苯二还原氧化石墨烯的条件是回流20h,耗能高,效率低,且还原得到的石墨烯不能稳定存在于水溶液中:这些还原剂较难以用来大量生产石墨烯,从而限制了石墨烯的应用研究的问题。新研制石墨烯产品具有安全无毒、低耗能、高效率的特点,同时邻苯二对氧化石墨烯的还原效率高,还原后得到的溶液稳定性好,可以长时间保存,洗涤干燥得到的最终产物具有一定的导电性。

南京工业大学技术:一种还原氧化石墨烯亲疏水性可调控的制备方法。该方法制得的还原氧化石墨烯具有单层或少层、亲疏水性可控的特点。如何实现高纯度、高质量、低成本、工艺过程环保的还原氧化石墨烯的制备,并使其亲疏水性可调控制,能够在不同的溶剂中均匀稳定分散,是当前学术界和产业界关注和研究的重点。

                            















怎么降低成本


(a) 称取氧化石墨烯置于样品瓶中,向氧化石墨烯中加入去离子水,将样品瓶放入超声波清洗机中经超声30min,得到黄棕色的氧化石墨烯分散液,超声分散后氧化石墨烯的浓度为1mg/mL 。然后称取质量为氧化石墨烯质量1%~10%的还原剂邻苯二酚,并将邻苯二酚加入到氧化石墨烯的分散液中,连续搅拌使邻苯二酚充分溶解,得到混合溶液。
(b) 将装有混合溶液的样品瓶放入烘箱中加热,烘箱温度设置为80℃,放入烘箱中加热的时间为0-3h 。得到黑色分散液,将得到的黑色分散液经过滤,洗涤,真空干燥得到产物,得到的黑色分散液过滤后用1: 1 的乙醇/水混合液洗涤,真空干燥的条件为60 ℃,并对产物进行表征。

1. 氧化石墨烯分散液的制备:称取10mg氧化石墨烯置于20mL样品瓶中,向氧化石墨烯中加入适量的去离子水,配制成1mg/ml的分散液,将样品瓶放入超声波清洗机中经超声30min,得到黄褐色分散均匀的氧化石墨烯分散液。

2. 石墨烯的制备:向氧化石墨烯的分散液中加入1%的邻苯二充分溶解后,放入80℃的烘箱中,加热3h,对氧化石墨烯进行还原,得到的黑色液体可稳定放置1个月。对还原后得到的黑色液体进行过滤,得到的滤饼用乙醇和水的混合溶剂洗涤,最后使用真空干燥箱在60℃下干燥,对最终产物进行表征。

环保及降低成本:现有技术的改进

(1) 氧化石墨烯分散液的制备
将氧化石墨烯分散至去离子水中,配置成浓度为0.05mg/ml 的氧化石墨烯分散液,其中氧化石墨烯的尺寸为0.05阳。
(2) 氧化石墨烯分散液pH值的调节
采用碱度调节剂氢氧化钠对步骤(1)中制备的0.05mg/ml 的氧化石墨烯分散液的pH值进行调节,获得pH =
11的氧化石墨烯分散液。
(3) 氧化石墨烯分散液的溶剂热还原
对步骤(2) 中制备的pH=11 的氧化石墨烯分散液进行溶剂热还原,还原条件为反应温度120 ℃,时间6h,制备得到还原氧化石墨烯分散液。
(4) 还原氧化石墨烯粉体的制备














图片展示
















获得的还原氧化石墨烯在水中的分散性数码照片,如图l(a) 所示,表现出良好的亲水性,能够长期稳定分散。图(b) 所示为还原氧化石墨烯粉体的扫描电子显微镜照片,可以看出其表面有明显的褶皱感,层数非常薄,没有发生团聚现象。

与现有技术相比,技术优势在于:

 (1)采用一步溶剂热法,在密闭容器中对具有一定pH值的氧化石墨烯分散液及浆料进行还原,通过调控体系的温度和压力,促使氧化石墨烯逐渐脱去含氧官能团而被还原。通过调节体系的pH值,同时结合溶剂热反应温度、时间以及溶剂类型实现还原氧化石墨烯亲疏水性可调控制,特别是在高pH值体系中使产物具有亲水特性,在低pH值体系中使产物具有疏水特性。

(2) 还原氧化石墨烯制备温度较低,无需添加任何还原剂,可获得高纯度、高质量的还原氧化石墨烯产品,还能有效避免使用常规有毒、强腐蚀性还原剂所带来的危害和污染,有利于还原氧化石墨烯的规模化制备。
 (3)所制备的还原氧化石墨烯以单层或少层结构形式存在,还原程度较高,可实现在不同极性大小溶剂中的均匀稳定分散。
 (4) 此外,制备工艺简单环保、成本较低、生产效率高,可有效推进石墨烯在生物医药领域、电力电子、先进制造领域的广泛应用。
图1 为氧化石墨烯(GO)和还原氧化石墨烯(rGO) 的红外光谱图:
图2 为氧化石墨烯(GO)和还原氧化石墨烯(rGO)的X射线光电子能谱(XPS) 图3 氧化石墨烯的电镜图:
图4 还原氧化石墨烯的电镜图:
















技术特点及优势: 采用邻苯二酚作为还原剂,而且邻苯二质量为氧化石墨烯质量1%~10% ,一定量的邻苯二酚对氧化石墨烯的还原效率高,还原后得到的溶液稳定性好,可以长时间保存,而且过滤、洗涤、真空干燥所得到的最终产物具有一定的导电性,具有安全无毒、低耗能、高效率的特点

3、什么是虚假专利,虚假“专利的危害

有的企业为了让产品名声响亮,利用人们的专利的认识不足,通过虚报专利谎称自己的产品有某专利,还在宣传材料、展板和包装上印专利号,这些伪劣专利、虚假专利在专利文件书写时采用虚假技术工艺、虚假配方进行专利申请,其目的仅是为了获取专利申请号,而不是为了知识产权法律保护而真正意义上的技术公开和法律保护!


这些伪劣虚假的“专利”,完全没有通过国家专利审查。不仅危害了市场消费者,同时也误导了科研技术人员、误导了新产品投资者!这些虚假技术文献甚至会导致企业研发走入误区,不仅影响新产品开发效率,而且还会造成科研经济损失!利用真正有价值的专利资料,也是我们技术文献情报工作者所追求的目的!


4、《精选》经过专利实质审查制的专利能保证技术工艺、配方“充分公开

根据我国《专利法》第二十六条第三款所述的“充分公开”应当是针对所有本领域的技术人员,要求每一个本领域技术人员在阅读了专利说明书之后都能实现其发明创造。


“充分公开”是专利审查的重要环节,没有“充分公开”的专利申请,不会通过审查,也不会获得专利权。因此经过专利实质审查制的专利能保证“充分公开”。按照专利法审查规定:本领域技术人员在阅读了专利说明书之后都能实现其发明创造。


5、《精选》中内容具体到每个技术都包含哪些内容?

资料包括具体到每个技术一般包括:现有技术和市场需求背景、主要技术难题、解决难题的新技术方案、新技术的技术原理、新技术达到的目的和效果,新技术产品的生产配方、生产工艺、具体生产实施例(多组技术方案),实施例数据测试和分析,与现有产品的技术指标对比,相关工艺图或图片附图等等。

《精选》还包括每项技术的研制单位、发明人、通信地址、以及该专利重点要求保护的技术要求的核心内容。


6、《精选》中的优秀专利技术如何合法利用

对于生产型、科研型单位

A.可以掌握技术难题解决方案、掌握新技术配方、生产工艺

B.借鉴新产品工艺,利用技术保护要求范围,生产自己的产品

C.掌握竞争对手的配方,制定自己的研发策略


对于新产品转型、新产品投资、产学研对接

A.及时发现优秀技术、优秀投资产品的发源地、研制单位

B.落实可行性技术方案、项目建议书、技术产品论证

C.技术引进、技术转让、与科研单位技术对接、新产品投资

随着国际化程度高、创新机制成熟的领先企业越来越重视专利。高质量的专利是厂商研发实力的体现,是企业赢得市场竞争的法宝,在法律允许范围内,有效合理利用专利情报,会使企业新产品开发和质量提升日新月异、出类拔萃!
















2014新版《石墨烯氧化-还原新技术及配方制备精选》收录国内外优秀新技术、信息量大,配方全,是石墨材料技术改进、生产,提高产品质量,符合国家标准的新产品开发必备资料


目前,氧化石墨还原法也被认为是目前制备石墨烯的最佳方法之一。该方法操作简单、制备成本低,可以大规模地制备出石墨烯,已成为石墨烯制备的有效途径。另外该方法还有一个优点,就是可以先生产出同样具有广泛应用前景的功能化石墨烯--氧化石墨烯。氧化-还原法制备成本低廉且容易实现,而且可以制备稳定的石墨烯悬浮液,解决了石墨烯不易分散的问题。


2017新版《石墨烯氧化-还原新技术及配方制备精选汇编》重点收录了磺酸化还原氧化石墨烯的制备配方、低能耗高效还原氧化石墨烯制备石墨烯配方、易分散的石墨烯的制备配方、改性石墨烯的制备配方、氧化石墨烯的固相还原方法、利用绿色还原剂制备石墨烯配方等生产工艺优秀专利技术专利成果技术资料。


通过本《精选》您可以充分掌握国内外石墨烯氧化-还原最优秀的核心技术配方和工艺,您可以:

1、提高产品质量,改进配方,降低生产成本

2、解决石墨烯氧化-还原生产中的技术问题、应用技术问题

2、掌握科研院校最新技术成果。开阔产品开发思路,产学研对接,投资新产品

3、掌握同行业竞争对手的新产品策略,产品技术水平,市场核心产品配方


什么是精选资料,精选资料价值所在,为什么要购买《精选》技术资料


1、《精选是掌握优秀技术、好配方、好项目的必备资料

一种优秀的新技术、新配方都会给企业造成新的市场机会,可以带来更大的企业利润。在当今大数据时代,及时准确完整的技术资料收集,迅速掌握国际核心技术所在,对企业有着重要意义。


           本期《精选》资料所涉及的专利技术包括:

A.已经进入专利实质性审查的发明专利

B.已经通过国家专利实质性审查的发明专利

C.获得授权的发明专利技术

经过实质性审查的专利特点:充分具备创造性、新颖性、实用性。而且能够保证专利的质量。所以《精选》是通过严格意义上的技术检索和技术筛选汇编而成。国际新技术资料网利用所掌握的国际或内技术情报检索系统、技术分类系统、文献加工系统、知识产权法律系统为企业提供技术服务,不仅可以节省您收集重要技术资料的时间和精力,而且提高了您阅读效率,技术资料时间。据世界知识产权组织有关统计表明:若能在科研开发的各个环节中充分利用专利文献,则能节约40%的科研开发经费,同时少花60%的研究开发时间。


2、什么是专利实质审查制
即不仅进行形式审查,还要审查发明的新颖性、先进性和实用性。实质审查能够保证专利的质量,专利审查需要高水平具有专业技术的审查人员来进行。


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