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《水性聚氨酯涂料制造工艺配方精选》

       


         国际新技术网编辑:为了更好的为读者呈现国际、国内外新型涂料技术详细内容,满足企业读者不同需求,共同探讨涂料制造的技术动态,恒志信科技公司独家推出《涂料新技术》资料版块,深度披露现今涂料制造与研制的发展方向,以及新工艺和产品用途,呈现我国涂料未来研制的技术环境及产品走向,欢迎关注!


         聚氨酯涂料是较常见的一类涂料,可以分为双组分聚氨酯涂料和单组分聚氨酯涂料

双组分聚氨酯涂料一般是由异氰酸酯预聚物(也叫低分子氨基甲酸酯聚合物)和含羟基树脂两部分组成,通常称为固化剂组分和主剂组分。这一类涂料的品种很多,应用范围也很广,根据含羟基组分的不同可分为丙烯酸聚氨酯、醇酸聚氨酯、聚酯聚氨酯、聚醚聚氨酯、环氧聚氨酯等品种。一般都具有良好的机械性能、较高的固体含量、各方面的性能都比较好。是很有发展前途的一类涂料品种。主要应用方向有木器涂料、汽车修补涂料、防腐涂料地坪漆、电子涂料、特种涂料、聚氨酯防水涂料等。缺点是施工工序复杂,对施工环境要求很高,漆膜容易产生弊病。


         单组分聚氨酯涂料主要有氨酯油涂料、潮气固化聚氨酯涂料、封闭型聚氨酯涂料等品种。应用面不如双组分涂料广,主要用于地板涂料、防腐涂料、预卷材涂料等,其总体性能不如双组分涂料全面。


       

双组分聚氨酯涂料
  双组分聚氨酯涂料具有成膜温度低、附着力强、耐磨性好、硬度大以及耐化学品、耐候性好等优越性能,广泛作为工业防护、木器家具和汽车涂料。水性双组分聚氨酯涂料将双组分溶剂型聚氨酯涂料的高性能和水性涂料的低VOC含量相结合,成为涂料工业的研究热点。水性双组分聚氨酯涂料是由含-OH基的水性多元醇和含-NCO基的低黏度多异氰酸酯固化剂组成,其涂膜性能主要由羟基树脂的组成和结构决定。

单组分水性聚氨酯涂料
单组分水性聚氨酯涂料是以水性聚氨酯树脂为基料,并以水为分散介质的一类涂料。通过交联改性的水性聚氨酯涂料具有良好的储存稳定性、涂膜力学性能、耐水性、耐溶剂性及耐老化性能,而且与传统的溶剂型聚氨酯涂料的性能相近,是水性聚氨酯涂料的一个重要发展方向。

光固化水性聚氨酯涂料
光固化水性聚氨酯涂料采用电子束辐射、紫外光辐射的高强度辐射引发低活性的预聚物体系产生交联固化,以紫外光固化形式为主。先用不饱和聚酯多元醇制备预聚物,然后用常规的方法引进粒子基因,经亲水处理后制得在主链上带双键的聚氨酯水分散体,再与易溶的高活性三丙烯酸烷氧基酯单体、光敏剂等助剂混合得到光固化水性聚氨酯涂料。

室温固化水性聚氨酯涂料
对于某些热敏基材和大型制件,不能采用加热的方式交联,必须采用室温交联的水性聚氨酯涂料。通过与水分散性多异氰酸酯结合,可以改进水性端羟基聚氨酯预聚物/丙烯酸酯混合物,尤其是羟基丙烯酸酯混合物的性能。此类水性聚氨酯涂料,采用特制的多异氰酸酯交联剂,即含-NCO端基的异氰酸酯预聚物,经亲水处理后分散于各种含羟基聚合物中而形成分散体,与多种含羟基聚合物水分散体组成能在室温固化的聚氨酯水性涂料。

第三代水性聚氨酯涂料(PUA)
聚氨酯(PU)乳液和聚丙烯酸(PAA)乳液同其溶剂型产品相比,具有低廉,安全,不燃烧,无毒,不污染环境等优点。纯PAA乳液存在耐磨性、耐水性和耐化学品性差的缺陷,固含量高,应用范围不广等。PU和PAA在性质上具有互补作用。PUA复合乳液兼备了二者的优点,具有耐磨、耐腐蚀和光亮,柔软有弹性,耐水性和力学性能好,耐候性佳等特性,因此被誉为“第三代水性聚氨酯”,成为当今涂料一个发展趋势。

环保型低芳烃聚氨酯涂料
该涂料既可弥补水性涂料性能不足,保持溶剂型涂料的优异性能。又可减少涂料对环境的影响。兼顾性能与环保性,较好地解决了这一问题。该涂料体系采用气味小、毒性低的石油类低极性溶剂为稀释剂。可显著减少对环境产生污染的物质,如二甲苯及有害废气污染物(HAPs)的排放量,作为溶剂体系涂料,它还具有良好的涂膜及施工性能,在冬季低温条件下也可施工。此外,由于该涂料体系中溶剂的溶解力低,不会产生侵蚀,因而易于重涂。并可用于喷涂易被溶剂侵蚀的材料。

         本篇是为了配合国家产业政策向广大企业、科研院校提供重防腐涂料技术制造工艺配方汇编技术资料。资料中每个项目包含了最详细的技术制造资料,现有技术问题及解决方案、产品生产工艺、配方、产品性能测试,对比分析。资料信息量大,实用性强,是从事新产品开发、参与市场竞争的必备工具。


         本篇系列汇编资料分为为精装合订本和光盘版,内容相同,用户可根据自己需求购买。


2025版《日本光刻胶制造工艺配方精选汇编》

2025版《日本光刻胶制造工艺配方精选汇编》

日本企业占据了全球光刻胶市场约70%到90%的份额,尤其在高端的ArF和EUV光刻胶领域,市场份额甚至超过90%。这些高端光刻胶是半导体制造中不可或缺的关键材料,直接影响芯片的性能和制造精度。

本篇资料收录了日本著名公司光刻胶制造专利技术,涉及:工艺、配方、制备方法等,是我国从事光刻胶行业研究生产单位的重要参考资料。

【资料内容】生产工艺、配方
【出品单位】国际新技术资料网
【资料语种】日文
【电  子 版】1680元(PDF文档 邮箱发送)
【联系电话】13141225688 梅兰(女士)

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日本企业占据了全球光刻胶市场约70%到90%的份额,尤其在高端的ArF和EUV光刻胶领域,市场份额甚至超过90%。这些高端光刻胶是半导体制造中不可或缺的关键材料,直接影响芯片的性能和制造精度。

本篇资料收录了日本著名公司光刻胶制造专利技术,涉及:工艺、配方、制备方法等,是我国从事光刻胶行业研究生产单位的重要参考资料。

【资料内容】生产工艺、配方
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【资料语种】日文
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目录

1半導体フォトレジスト用組成物およびこれを利用したパターン形成方法三星エスディアイ株式会社
2フォトレジスト用樹脂、フォトレジスト組成物および硬化物日油株式会社
3金属含有フォトレジスト現像液組成物、およびこれを利用した現像段階を含むパターン形成方法三星エスディアイ株式会社
4金属含有フォトレジストのエッジビーズ除去用組成物または金属含有フォトレジストの現像液組成物、およびこれを利用したパターン形成方法三星エスディアイ株式会社
5フォトレジスト上層膜用組成物およびこれを利用したパターン形成方法三星エスディアイ株式会社
6半導体フォトレジスト用組成物およびこれを用いたパターン形成方法三星エスディアイ株式会社
7金属含有フォトレジスト用現像液組成物、およびこれを用いた現像段階を含むパターン形成方法三星エスディアイ株式会社
8有機塩、それを含むフォトレジスト組成物、及びフォトレジスト組成物を用いるパターン形成方法三星電子株式会社
9金属含有フォトレジスト用現像液組成物、およびこれを用いた現像工程を含むパターン形成方法三星エスディアイ株式会社
10重合性化合物、酸発生剤、樹脂、及びフォトレジストサンアプロ株式会社
11有機金属化合物、フォトレジスト用感光材、及びフォトレジストサンアプロ株式会社
12スルホニウム塩、前記スルホニウム塩を含む酸発生剤、及び前記スルホニウム塩を含むフォトレジストサンアプロ株式会社
13金属含有膜形成用化合物、金属含有膜形成用組成物、パターン形成方法、及び半導体フォトレジスト材料信越化学工業株式会社
14電着フォトレジスト用塗料組成物株式会社シミズ
15カルボン酸塩、それを含むフォトレジスト組成物、及びそのフォトレジスト組成物を用いるパターン形成方法三星電子株式会社
16フォトレジスト剥離液ナガセケムテックス株式会社
17金属含有フォトレジスト現像液組成物、およびこれを用いた現像工程を含むパターン形成方法三星エスディアイ株式会社
18フォトレジスト用剥離液及びこれを用いた基板の処理方法東京応化工業株式会社
19フォトレジスト剥離組成物関東化学株式会社
20電着フォトレジスト塗膜の剥離方法ハニー化成株式会社
21改良されたフォトレジスト製剤船井電機株式会社
22光酸発生剤、それを含むフォトレジスト組成物、及びそれを利用したパターン形成方法三星電子株式会社
23パターン化された有機金属フォトレジスト及びパターニングの方法インプリア・コーポレイション
24化合物、前記化合物を含む酸発生剤、フォトレジスト、及び前記フォトレジストを使用した電子デバイスの製造方法サンアプロ株式会社
25ノボラック型フェノール樹脂、ノボラック型フェノール樹脂の製造方法、及びフォトレジスト組成物明和化成株式会社
26複合フォトレジスト材料とその製造方法、および流体吐出ヘッド船井電機株式会社
27ネガ型レジスト樹脂組成物およびネガ型フォトレジスト樹脂組成物サンアプロ株式会社
28ノズルプレートの接着性を強化するためのフォトレジストイメージングおよび現像船井電機株式会社
29フォトレジスト組成物及びパターン形成方法ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシー
30半導体フォトレジスト用組成物およびそれを用いたパターン形成方法三星エスディアイ株式会社
31半導体フォトレジスト用組成物およびその製造方法、ならびにこれを用いたパターン形成方法三星エスディアイ株式会社
32フォトレジスト樹脂の製造方法株式会社ダイセル
33フォトレジスト組成物、液体吐出ヘッド及び液体吐出ヘッドの製造方法キヤノン株式会社
34フォトレジストパターン形成方法東京応化工業株式会社
35フォトレジスト用のノボラック型フェノール樹脂およびその製造方法、ならびにフォトレジスト用の感光性樹脂組成物住友ベークライト株式会社
36フォトレジストの特性解析方法および特性解析装置フェムトディプロイメンツ株式会社
37フォトレジスト組成物およびその硬化物太陽インキ製造株式会社
38ネガ型カチオン性電着フォトレジスト用樹脂組成物及びそれを電着塗装してなる塗膜ハニー化成株式会社
39フォトレジスト用フェノール樹脂組成物及びフォトレジスト組成物明和化成株式会社
40厚膜用フォトレジスト組成物及び厚膜フォトレジストパターン形成方法東京応化工業株式会社
41単量体、フォトレジスト用樹脂、フォトレジスト用樹脂組成物、及びパターン形成方法株式会社ダイセル
42フォトレジスト除去用組成物三菱ガス化学トレーディング株式会社
43フォトレジスト用組成物株式会社ダイセル
44フォトレジスト用樹脂、フォトレジスト用樹脂の製造方法及びフォトレジスト組成物明和化成株式会社
45感光性樹脂組成物、これを用いたフォトレジストフィルム、及びレジストパターンの形成方法ニッコー・マテリアルズ株式会社
46フォトレジスト用樹脂、フォトレジスト用樹脂の製造方法、フォトレジスト用樹脂組成物、及びパターン形成方法株式会社ダイセル
47重合性化合物、重合性組成物、重合体及びフォトレジスト用組成物JNC株式会社
48フォトレジスト用保護フィルム三菱ケミカル株式会社
49フォトレジスト及びフォトリソグラフィ日本化成株式会社
50フォトレジスト塗布装置トヨタ自動車株式会社
51化学増幅型フォトレジスト組成物サンアプロ株式会社
52化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物サンアプロ株式会社
53ネガ型フォトレジスト用樹脂組成物及び硬化膜サンアプロ株式会社
54光発生装置、光発生装置を備える露光装置、露光システム、光発生方法、及び露光フォトレジスト製造方法公立大学法人兵庫県立大学
55誘導自己組織化用の化学テンプレートを形成するための硬化フォトレジストのUV支援剥離東京エレクトロン株式会社
56ネガティブトーン現像剤相溶性フォトレジスト組成物及び使用方法トーキョー エレクトロン ユーエス ホールディングス,インコーポレーテッド
57機能構造体製造方法及びフォトレジスト処理装置ウシオ電機株式会社
58ポジ型フォトレジスト住友精化株式会社
59コーティング用組成物およびフォトレジスト積層体の製造方法旭硝子株式会社
60フォトレジスト組成物及びこれを利用する微細パターン形成方法三星電子株式会社
61フォトレジスト用樹脂、フォトレジスト樹脂の製造方法、フォトレジスト用樹脂組成物、及びパターン形成方法株式会社ダイセル
62フォトレジストフィルム、レジストパターンの形成方法、および導体パターンの形成方法ニッコー・マテリアルズ株式会社
63ドライフィルムフォトレジスト支持体二軸配向ポリエステルフィルム東レ株式会社
64アルコール誘導体、アクリル酸エステル誘導体、混合物、高分子化合物およびフォトレジスト組成物株式会社クラレ
65コーティング用組成物の製造方法およびフォトレジスト積層体の製造方法AGC株式会社
66フォトレジスト成分濃度測定装置および濃度測定方法パナソニックIPマネジメント株式会社
67ポジ型フォトレジスト組成物東京応化工業株式会社
68フォトレジスト組成物並びにそれを用いたドライエッチング用マスク及び積層体旭化成イーマテリアルズ株式会社
69半導体基板処理装置、フォトレジストを剥離する方法、および半導体装置の製造方法セイコーインスツル株式会社
70フォトレジスト用活性エネルギー線硬化性組成物ダイセル・オルネクス株式会社