| 1 | 一种铝钛复合材料用抛光液及其制备方法 | 将金刚石微粉、硅溶胶、润滑剂、表面活性剂、分散剂、改性硅院偶联剂等原料进行复配得到铝铁复合材料用抛光液，其中改性硅;院偶联剂可以提高金刚石微粉等抛光液磨料与有机添加剂的相容性 |
| 2 | 一种Max相TiAlC材料的抛光方法及所制备的Max相TiAlC抛光材料 | 提供的Max相TiAIC材料的抛光方法，利用抛光垫代替固结磨粒的研磨盘加工，大大简化了工艺。 |
| 3 | 一种金刚石用抛光液及金刚石化学机械抛光方法 | 这种催化作用加剧了金刚石向石墨的转变，使金刚石表面变得十分柔软，从而使金刚石表面碳原子更容易脱离。铁粉催化的作用加快了金刚石材料的抛光去除过程，使得金刚石抛光能在短时间内达到理想的表面5 质量和精度。 |
| 4 | 一种用于高硬度材料的水溶性金刚石研磨膏及其制备方法 | 对高硬度碳化吗材质进行打磨，其研磨结果表面，碳化吗材质的表面粗糙度Ra为0.055川，相对未打磨前的粗糙度明显降低，材料表面干净、划痕少，且易清洗。 |
| 5 | 一种油性金刚石研磨膏及其制备方法 | 可以应用于该用于高硬度材料的油性金刚石研磨膏。同样地，用于高硬度材料的油性金刚石研磨膏的有益效果可以应用于用于高硬度材料的油性金刚石研磨膏的制备方法。 |
| 6 | 用于不锈钢小游隙关节轴承的研磨膏 | 解决了轴承安装收口后轴承外国受收口力作用而产生变形，挤压内圈从而导致轴承安装收口后出现卡滞抱死的问题。 |
| 7 | 一种化学机械抛光剂及化学机械抛光工艺 | 无机纳米颗粒的纳米尺寸也抑制了化学机械抛光工艺中常见的划伤缺陷，为半导体器件良率的稳定性提供了足够的保障。 |
| 8 | 一种多晶金刚石用抛光液及抛光方法， | 能够实现多晶金刚石表面的高效抛光，且获得金刚石膜表面超光滑，结构无损伤，表面粗糙度可低至１ｎｍ以下，能够满足制造超硬切削工具、半导体、红外光学窗、高性能散热器等领域的基本要求。 |
| 9 | 一种二氧化锰包覆金刚石复合磨粒及制备方法、抛光液及制备方法 | 新型抛光磨粒，相比于传统金刚石磨粒，可以得到更高的材料去除卒，实现了最佳的抛光性能。 |
| 10 | 一种用于碳化硅衬底DMP的团聚钻石研磨液的制备方法 | 通过采用团聚金刚石以及其他软磨材料制成复合磨料，采用超声水煮法对原料进行改性，通过添加ＰＶＰ作为分散剂等，进一步地提高研磨的效率和研磨后的产品质量。 |
| 11 | 一种悬浮抛光液及其制备方法和碳化硅的抛光方法 | 提供的悬浮抛光液悬浮能力好、单位时间内碳化硅移除率高和表面粗糙度低、不易堵塞抛光设备管路、不污染抛光垫、不影响碳化硅器件性能并且不易划伤碳化硅。 |
| 12 | 一种用于增材制造的金属粉末研磨液、研磨方法 | 提供的技术方案采用络合剂和表面活性剂对金刚石颗粒进行表面包覆，进而配合悬浮剂使得磨料的悬浮性能更好，不容易沉底，提高了研磨的效率。 |
| 13 | 一种用于碳化硅衬底研磨用团聚钻石液的制备方法 | 该体系采用亚硝酸盐、磷酸盐、硅酸盐做为分散剂及防锈剂，确保金刚石颗粒的分散性能，避免软团聚的形成；并采用了超尺寸颗粒分离技术，对超大颗粒金刚石进行分离，避免划伤不良；采用高速乳化分散头对水基体系进行搅拌分散，确保液体的均一性。 |
| 14 | 一种金刚石用抛光液及金刚石衬底的抛光方法 | 抛光液通过使用微溶于水的铁盐来实现铁源的供给，能够在双氧水的存在下实现羟基自由基的稳定供应，从而有效去除金刚石表面的杂质，实现对金刚石表面的原子级粗糙度的控制。 |
| 15 | 一种金刚石用研磨液及金刚石衬底的研磨方法 | 研磨方法中采用含有双氧水的研磨液与表面固定有金刚石微粉的研磨盘相互协同，能够实现对金刚石衬底的均匀且高效研磨，显著降低研磨后的金刚石衬底的粗糙度并提高成品率，提高了金刚石衬底的应用前景。 |
| 16 | 再造金刚石研磨液和废弃金刚石研磨液的回收再利用方法及应用该方法的装置 | 通过提高废弃研磨液的质量，实现研磨液的循环利用，从而降低了机械研磨工艺的成本，且循环利用的工艺简单，易于实现操作。 |
| 17 | 一种抛光效率高的钛合金抛光液及其制备方法 | 提高昆抛光液的抛光效率，同时改性氧化锆粉和改性金刚石粉均为可回收物质，进而便于降低其生产成空本。 |
| 18 | 一种抗腐蚀金刚石研磨液及其制备方法 | 研磨液具有抗腐蚀以及高分散性的性能，可以广泛应用于精密研磨抛光领域，具有较好的商业应用价值。 |
| 19 | 一种金刚石研磨液及其制备方法 | 解决了市面上产品存在的金属腐蚀及团聚、分层等问题，对环境无污染。 |
| 20 | 一种金刚石研磨液制备方法 | 金刚石研磨液组成配比科学，能够提高熔石英研磨加工的效率，减少深划伤，改善表面加工质量，缩短加工周期。 |
| 21 | 一种氮化镓晶圆的绿色抛光液 | 使抛光液在偏中性环境中仍有较好的氧化性，且抛光液稳定性较好，绿色无污染，抛光效果好。 |
| 22 | 一种油基热敏活性研磨液及微波辅助固结磨料研磨方法 | 低硬度的改性层破碎、层状剥落，快速暴露的新生面被进一步改性和去除，获得高的加工效率。 |
| 23 | 一种铜触指和光通讯基座铜钨零件的表面抛光处理方法 | 操作简单，完全靠工艺保证，分为粗磨和精抛两个工序，再添加研磨液和抛光液，达到触指和光通讯基座铜钨零件表面需要去毛刺和表面抛光效果。 |
| 24 | 一种碱性‑耐热‑多尺寸磨粒磁流变抛光液及其制备方法 | 提升了材料去除率，提高石英玻璃元件的抛光效率；并进一步降低抛光粗糙度，有利于加工出高质量表面。 |
| 25 | 一种反应烧结碳化硅表面抛光的方法和装置 | 能够取得非常好的抛光效果，不司仅具有高光洁度、低表面粗糙度，还能够提高碳化硅陶瓷制品表面的机械强度和耐磨性。 |
| 26 | 一种适用于塑胶型眼镜材料的研磨膏 | 配方得到的研磨膏，不仅分散性更强，不易产生沉淀，而且去除率得到增强，抛光效果也更好。 |
| 27 | 一种掺杂金属纳米颗粒的单晶金刚石抛光液 | 分散二氧化硅微球以水杨酸钠和十六烷基三甲基溴化铵为结构导向剂，以三乙醇胺为催化剂，将正硅酸乙酯水解后胶束自组装，再经煅烧得到。 |
| 28 | 一种具有光催化辅助功效的抛光液及其制备方法 | 从而显著的弥补了机械作用产生的较大尖凸出现，造成粗糙度增加的现象的发生，有效降低了机械作用产生的多种缺陷，大幅度的提高了表面抛光质量。 |
| 29 | 一种微纳气泡辅助光催化抛光单晶金刚石双组分抛光剂及其制备方法 | 抛光剂成分简单、组分无毒、对环境友好。采用双组分的形式，有效的避免了抛光剂可能失效的问题，保留了抛光剂强氧化性能，使其在单晶金刚石抛光过程中更好的发挥作用。 |
| 30 | 一种抛光液及CH3NH3PbI3晶体抛光方法 | 晶体化学机械抛光处理过程高效、稳定，并大幅提高了晶体化学机械抛光的质量，获得优质的抛光表面，提高晶体的物理、电学性能，实用性好。 |
| 31 | 一种抛光硅片的金刚石抛光液 | 各质量比的混合后搅拌均匀，后超声设备中震荡１０‑１５ｍｉｎ，长时间存放基本不产生沉淀，抛光质量稳定，没有对人体有害成分，有利环保。 |
| 32 | 一种研磨液、制备方法及用途 | 金刚石能够稳定、均匀分散。该方法制备的金刚石研磨液可以广泛地应用于精密研磨抛光领域。 |
| 33 | 一种用于钯和铜化学机械抛光的抛光液及其制备方法和使用方法 | 针对厚度相同的钯和铜共面材料，采用上述抛光液能够实现工件表面多余材质的去除与全局纳米级平坦化，避免金属交联因多层叠加效应而丧失工件平坦度，便于后续光刻工艺的进行。 |
| 34 | 一种可提升耐磨度的研磨体及其制备方法 | 有效提高了研磨休的内部结合力，有利于延长使用寿命，耐磨度得到了大幅的提升，满足使用的需要。 |
| 35 | 一种用于镍基单晶高温合金各向异性等速去除的抛光液 | 通过调整氧化剂浓度和国值对镇基单晶高温合金不同晶面的各向异性进行等速去除，并且使得镇基单晶高温合金获得亚纳米级表面粗糙度和趋近于零的亚表面损伤。 |
| 36 | 一种金刚石研磨液的制备方法 | 金刚石能够稳定、均匀分散。该方法制备的金刚石研磨液可以广泛地应用于精密研磨抛光领域。 |
| 37 | 一种光化学机械研磨方法及光敏活性研磨液 | 利用光敏研磨液对机械力作用的工司件进行紫外光可控化学改性，减小甚至消除机械应力去除造成的加工损伤，从而实现难加工材料提高质量高效率超精密加工。 |
| 38 | 用于抛光例如具有大于约6的莫氏硬度的硬质材料的硬质材料的经改进浆液(美国) | 碱性浆液组合物能够利用大于４０微米的金刚石颗粒大小同时实现良好移除速率。在此类情况下，当与适合垫一起利用时，以均匀表面损害对碳化硅、氮化硅、蓝宝石、氮化镓及金刚石进行快速且平坦研磨是可行的。 |
| 39 | 一种有机膜研磨组合物以及利用其的研磨方法（韩国） | 其特f正在于:包含将亲水性基团和疏水性基团均包含在内的研磨促进剂，不仅是聚合物(Polymer) 、SOCSOH ，还对于通过共价键强键合的有机膜，如，无定形碳膜(ACL) 或类金刚石碳(Diamond-Like Carbon , DLC) ，也可以保持高研磨速度。 |
| 40 | 一种金刚石研磨膏及其制造方法 | 通过加入特定的双亲性有机物来改善金刚石研磨膏的清洗性能；通过添加增稠剂来调节研磨膏的稠度，进而改善其使用性能及研磨性能。 |
| 41 | 一种稳定全悬浮研磨用金刚石研磨液 | 应用于研磨抛光液的批量化生产时，无沉降聚集造成灌装不均的隐忧，可实现批量化稳定生产。 |
| 42 | 一种高效低损伤金刚石研磨液 | 避免局部温度过高造成几何参数失控；同时其增稠减粘特性，在形成软性缓冲层保障效率抑制划伤的同时，也可实现研磨液的及时更新，稳定研磨加工性能。 |
| 43 | 一种浓缩型水性研磨助剂 | 润滑剂在使用过程中可以有效降低研磨过程中的摩擦阻力，增加润滑性，有效改善研磨表面质量，并大大缩短后道晶圆抛光时间。 |
| 44 | 一种超硬半导体衬底材料研磨抛光用钻石粉体的制备方法 | 可以保证抛光液的质量，进而可以提高研磨抛光质量，从而可以使研磨抛光后的超硬半导体衬底材料表面更加平整。 |
| 45 | 一种复合型抛光液及其制备方法 | 技术方案能够有效提升碳化硅器件表面的机械去除速率，降低碳化硅器件表面粗糙度，并能够降低划伤风险以提升碳化硅器件表面抛光质量。 |
| 46 | 一种油性金刚石抛光液、其制备方法及用途 | 油性金刚石抛光液安全、环保、高效，对蓝宝石衬底无腐蚀。在相同磨料下，油性金刚石抛光液与水性抛光液相比较，具有较高的移除率以及较低的粗糙度。 |
| 47 | 一种制备金属用的抛光膏及其制备方法 | 形成富恪表面层而增强耐蚀性;通过石灰、长石粉或金刚石微粉的一种或混合作为主司要研磨料，可以更好的对金属表面进行研磨，去除毛刺和划痕等，并通过光亮剂对羟基苯甲酸作为搭配，提高抛光的效率。 |
| 48 | 一种金刚石抛光液及其制备方法 | 解决了现有的抛光材料对镍质模仁表面进行抛光的抛光效果较差的技术问题。 |
| 49 | 一种混合磨料、包含其的光学石英玻璃抛光液、制备方法及用途。 | 对石英玻璃无腐蚀，同时具有较高的去除率以及低于１ｎｍ的粗糙度。 |
| 50 | 一种添加纳米金属的单晶金刚石高精度抛光剂 | 抛光剂可以催化单晶金刚石石墨化、促进化学效应、削弱机械作用带来的金刚石表面解理剥落、减少大颗粒金刚石磨屑的形成，防止对抛光面造成二次损伤。 |
| 51 | 一种基于碳化硅陶瓷片抛光的双cmp抛光液配方及抛光方法 | 在23 碱性cmp抛光液中的金刚石微粉和磨料的作用，可以大大提高碳化硅陶瓷板的打磨效率。 |
| 52 | 一种氧化锆陶瓷手机背板减薄用金刚石研磨液的制备方法 | 金刚石研磨液在研磨抛光过程中，采用表面多刃化金刚石微粉，具有高效减薄，并能得到低的表面粗糙度。 |
| 53 | 一种用于超硬材料的固体金刚石研磨剂及制备方法 | 不仅增强了研磨效果，使用直接方便，同时解决了传统研磨剂在使用时需要加稀释剂再使用、不能水洗、难以清洁、存放时间短、性能不稳定、使用时容易四处飞溅问题。 |
| 54 | 一种用于单晶金刚石化学机械抛光加工的抛光液及其制备方法 | 提供的抛光液具有较大的氧化能力和去除率，实现了金刚石的高质高效加工。 |
| 55 | 一种宝石阀座密封槽用研磨抛光膏及其制备方法 | 解决研磨抛光膏在宝石阀座密封槽加工过程中容易在密封槽表面形成丝划，表面精度差，表面光洁度低，与工件的粘茹性差，从而导致宝石阀座密封性差，生产效率低，生产成本高的问题。 |
| 56 | 一种可悬浮金刚石研磨液及其制备方法 | 解决了现有技术中金刚砂在溶剂中的分散效果差的问题。广泛应用于微波陶瓷的研磨工艺中。 |
| 57 | 一种多晶硅环的化学机械抛光方法 | 保证抛光硅晶片高去除速率的同时，避免抛光雾等缺陷的形成，提高抛革光后表面质量，抛光方法后硅环平面度<20μL破损层DOD=Oum ，经检测抛光合格。 |
| 58 |  一种碳化硅晶片加工用研磨液及其制备方法 | 研磨液中，金刚石微粉粒度更加集中，粗大颗粒数目远小于传统方法制得的金刚石研磨液，从而有效避免大颗粒金刚石划伤碳化硅晶片。 |
| 59 | 一种改性金刚石粉、制备方法、用途及包含其的抛光液 | 该抛光液具有安全、环保、高效、高悬浮性、高分散性的优点，该抛光液可长时间保持高分散状态，几乎无二次团聚，极大的提升了抛光后蓝宝石表面质量。 |
| 60 | 一种球形磨料、制备方法、用途及包含其的蓝宝石研磨液 | 采用蓝宝石研磨液研磨得到的蓝宝石衬底表面粗糙度低、平整度好、无明显划痕。蓝宝石研磨液具有非常良好的应用前景和大规模工业化推广潜力。 |
| 61 | 一种绿色可见光催化辅助金刚石化学机械抛光液 | 去离子水的重量百分比为６７％～８１％。抛光后，表面粗糙度为０．１１１ｎｍ，材料去除率为４１６ｎｍ／ｈ。实现了绿色、高效、高质量化学机械抛光金刚石。 |
| 62 | 一种碳化硅晶片电化学机械抛光方法 | 明能够显著提高碳58 化硅晶片的抛光速率，在精抛阶段也能保证好的言表面质量。 |
| 63 | 一种用于光纤接头端面的抛光液组合物 | 采用提供的光纤接头抛光液组合物对光纤接头端面进行抛光，可有效降低光纤接头端面的表面粗糙度，并具有低的纤芯下陷，提高了光纤接头加工的成品良率。 |
| 64 | 一种自修整热固化型固结研磨料及其制备方法， | 改性石墨配合聚氨酯改性环氧树脂，使聚氨酯改性环氧树脂的表面和内部形成一定密度的磨粒层，提高抛光的均匀性和抛光效率，且实现抛光垫的自修整功能，从而获得稳定的抛光能力。 |
| 65 | 一种抛光磨料的生产制备工艺 | 使被抛光物体的表面更细腻，光度更均匀，避免被抛光的物体表面留下打磨的螺旋纹，同时避免了传统抛光磨料在制备时需要对羊毛进行繁琐的处理过程，提高了生产效率。 |
