《高性能等静压石墨制造工艺配方精选》

    结构精细致密、均匀性好、力学性能优异,大规格石墨制品

国际新技术资料网 创新科技之路
New Technology Of High Purity Graphite
国际新技术资料网LOGO
国际新技术资料网最新推出
2024新版《等静压、各向同型石墨制造工艺配方精选》


        国际新技术网编辑:为了更好的为读者呈现国际、国内外新型石墨制造技术详细内容,满足企业读者不同需求,共同探讨石墨制造的技术动态,恒志信科技公司独家推出《石墨新技术》资料版块,深度披露现今石墨制造与研制的发展方向,以及新工艺和产品用途,呈现我国石墨未来研制的技术环境及产品走向,欢迎关注!


        等静压石墨由高纯石墨压制而成。等静压石墨是国际上近50年来发展起来的新产品,与当今高科技紧密相联。作为全球制造业大国和最大的光伏产品生产国,中国一直保持巨量的等静压石墨需求。当前,随着国内光伏产业的迅猛发展,中国等静压石墨需求量逐年扩大。同期,由于中国等静压石墨生产企业技术基础薄弱,加上国外企业的技术封锁,中国等静压石墨产量和质量均未得到有效提升。2023年,中国等静压石墨需求量达1.8万吨,而同期等静压石墨产量仅为9500吨,供应缺口达8500吨。当前,中国新涉足等静压石墨业务企业普遍存在的技术储备不足及产品结构不合理等问题很难短期内得到解决。


         等静压石墨是新型石墨材料,是石墨材料中的精品,由于具有一系列优良特性,它必然会与高新技术、国防尖端技术紧密相联,成为21世纪最有价值的新材料之一。随着经济发展,静压石墨的国内国际市场容量与日俱增,发展潜力巨大。正因如此,目前国内正兴起一股等静压石墨生产热,一些以生产模压石墨为主的炭素生产企业看中这块“大蛋糕”,陆续上马等静压设备,挤身等静压石墨生产行列中来,竞争将不可避免进入白热化状态,竞争的对手包括国外同行。在激烈的市场竞争中,国内等静压石墨生产企业的立足之本和出路是:将产品升级换代,朝大规格、细结构(超细结构)、高强度、高纯度、多功能方向发展,顺应光伏产业、机械制造、核能利用各行业发展趋势,为中国国民经济的发展更好地服务。

 

         中国是一个发展中国家,正在步入重工业化时期,中国已经成为世界级的“制造大工厂”。而且科学技术的发展带来了新的工业革命,等静压石墨材料及制品的广阔应用领域给等静压石墨产业带来了勃勃生机。当前,由于经济危机的爆发,国外炭素产业受到了较严重的影响,于是他们加大了对中国的销售力度。当前中国约能消耗世界等静压石墨产品的1/4,是世界上最大等静压石墨产品市场之一,等静压石墨产业将迎来发展的新阶段。

         本篇是为了配合国家产业政策向广大企业、科研院校提供环氧涂料技术制造工艺配方汇编技术资料。资料中每个项目包含了最详细的技术制造资料,现有技术问题及解决方案、产品生产工艺、配方、产品性能测试,对比分析。资料信息量大,实用性强,是从事新产品开发、参与市场竞争的必备工具。


         本篇系列汇编资料分为为精装合订本和光盘版,内容相同,用户可根据自己需求购买。

2025版《日本光刻胶剥离液制造工艺配方精选汇编》

2025版《日本光刻胶剥离液制造工艺配方精选汇编》

日本在全球光刻胶及剥离液市场中占据主导地位,尤其是在高端光刻胶领域。然而,中国通过政策支持、技术研发和产业链协同,正在加速实现光刻胶及相关材料的国产化替代。尽管短期内仍面临供应风险和技术挑战,但长期来看,国产光刻胶的自主可控将成为中国半导体产业发展的关键。

  本资料是收录涉及日本光刻胶剥离剂最新专利技术资料,资料中包括制造原料、配方、生产工艺、产品性能测试及标准、实际应用效果,技术指标,解决的具体问题等等,是企业提高产品质量和发展新产品的重要、实用、超值和难得的技术资料。


【资料内容】制造工艺及配方
【资料语种】英文 中文
【项目数量】54项
电子版】1980元(PDF文档  邮件发送)


0.00
1980.00
数量:
立即购买
加入购物车
  

日本在全球光刻胶及剥离液市场中占据主导地位,尤其是在高端光刻胶领域。然而,中国通过政策支持、技术研发和产业链协同,正在加速实现光刻胶及相关材料的国产化替代。尽管短期内仍面临供应风险和技术挑战,但长期来看,国产光刻胶的自主可控将成为中国半导体产业发展的关键。

  本资料是收录涉及日本光刻胶剥离剂最新专利技术资料,资料中包括制造原料、配方、生产工艺、产品性能测试及标准、实际应用效果,技术指标,解决的具体问题等等,是企业提高产品质量和发展新产品的重要、实用、超值和难得的技术资料。


【资料内容】制造工艺及配方
【资料语种】英文 中文
【项目数量】54项
电子版】1980元(PDF文档  邮件发送)


目录

1硬化物層を基板から剥離する剥離方法、パターン化された硬化物層を備える基板の製造方法、及び剥離液東京応化工業株式会社
2樹脂マスク剥離用洗浄剤組成物花王株式会社
3レジスト剥離液太陽インキ製造株式会社
4フォトレジスト剥離液ナガセケムテックス株式会社
5フォトレジスト剥離組成物関東化学株式会社
6レジスト剥離液組成物及びそれを用いたパターン形成方法東友ファインケム株式会社
7回路基板用樹脂膜剥離剤日油株式会社
8レジストの剥離液株式会社JCU
9レジスト用剥離組成物三洋化成工業株式会社
10レジスト剥離液組成物野村マイクロ・サイエンス株式会社
11レジスト剥離液及びレジストの剥離方法ナガセケムテックス株式会社
12ネガ型樹脂マスク剥離用洗浄剤組成物花王株式会社
13レジスト剥離液及びレジスト剥離方法野村マイクロ・サイエンス株式会社
14剥離液、これを用いた剥離方法および半導体基板製品の製造方法富士フイルム株式会社
15レジスト剥離液とその製造方法パナソニックIPマネジメント株式会社
16フォトレジスト用剥離液パナソニックIPマネジメント株式会社
17レジスト剥離剤及びそれを用いたレジスト剥離方法東ソー株式会社
18フォトリソグラフィ用剥離液及びパターン形成方法東京応化工業株式会社
19レジスト剥離液の組成比維持装置およびレジスト剥離液の組成比維持方法パナソニックIPマネジメント株式会社
20変性レジストの剥離液、これを用いた変性レジストの剥離方法および半導体基板製品の製造方法富士フイルム株式会社
21パターン剥離方法、電子デバイスの製造方法富士フイルム株式会社
22レジスト剥離液及びレジスト剥離方法旭化成イーマテリアルズ株式会社
23レジスト剥離液パナソニック株式会社
24レジスト剥離剤組成物ライオン株式会社
25レジスト除去液およびレジスト剥離方法富士フイルム株式会社
26フォトレジスト剥離液組成物パナソニックIPマネジメント株式会社
27フォトリソグラフィ用剥離液、及びパターン形成方法東京応化工業株式会社
28レジスト剥離剤及びそれを用いた剥離方法東ソー株式会社
29レジスト剥離剤野村マイクロ・サイエンス株式会社
30レジスト剥離液の劣化抑制方法、レジスト剥離方法及びシステム三菱瓦斯化学株式会社
31レジスト剥離液およびレジスト剥離方法富士フイルム株式会社
32剥離剤組成物パナソニックIPマネジメント株式会社
33剥離液リサイクルシステムと運転方法および剥離液のリサイクル方法パナソニック株式会社
34フォトレジスト用剥離液パナソニック株式会社
35フォトレジスト剥離剤組成物三菱瓦斯化学株式会社
36レジスト剥離剤組成物及び当該組成物を用いたレジストの剥離方法和光純薬工業株式会社
37レジスト剥離液組成物及びこれを用いたレジストの剥離方法東友ファインケム株式会社
38フォトレジスト剥離剤組成物及びフォトレジスト剥離方法ナガセケムテックス株式会社
39レジスト剥離剤組成物及びそれを用いたレジスト剥離方法出光興産株式会社
40防食性フォトレジスト剥離剤組成物出光興産株式会社
41フェニルジケトン誘導体を含有する防食剤又は剥離剤。宇部興産株式会社
42インドール化合物を含有する防食剤又は剥離剤。宇部興産株式会社
43レジスト剥離液東ソー株式会社
44レジスト剥離液パナソニックIPマネジメント株式会社
45ビアリール化合物を含有する防食剤又は剥離剤。宇部興産株式会社
46レジスト剥離剤用化合物及びそれを用いたレジスト剥離剤出光興産株式会社
47剥離用組成物および剥離方法旭硝子株式会社
48半導体デバイスの剥離液、及び、剥離方法富士フイルム株式会社
49レジスト用剥離剤組成物及び半導体装置の製造方法ソニー株式会社
50レジスト剥離剤組成物東亞合成株式会社
51フォトレジスト剥離剤組成物ナガセケムテックス株式会社
52レジスト剥離剤及びその製造方法出光興産株式会社
53粒子を含有するレジスト剥離液及びそれを用いた剥離方法富士フイルム株式会社
54フォトレジスト剥離液組成物三菱瓦斯化学株式会社