《高性能等静压石墨制造工艺配方精选》

    结构精细致密、均匀性好、力学性能优异,大规格石墨制品

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New Technology Of High Purity Graphite
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国际新技术资料网最新推出
2024新版《等静压、各向同型石墨制造工艺配方精选》


        国际新技术网编辑:为了更好的为读者呈现国际、国内外新型石墨制造技术详细内容,满足企业读者不同需求,共同探讨石墨制造的技术动态,恒志信科技公司独家推出《石墨新技术》资料版块,深度披露现今石墨制造与研制的发展方向,以及新工艺和产品用途,呈现我国石墨未来研制的技术环境及产品走向,欢迎关注!


        等静压石墨由高纯石墨压制而成。等静压石墨是国际上近50年来发展起来的新产品,与当今高科技紧密相联。作为全球制造业大国和最大的光伏产品生产国,中国一直保持巨量的等静压石墨需求。当前,随着国内光伏产业的迅猛发展,中国等静压石墨需求量逐年扩大。同期,由于中国等静压石墨生产企业技术基础薄弱,加上国外企业的技术封锁,中国等静压石墨产量和质量均未得到有效提升。2023年,中国等静压石墨需求量达1.8万吨,而同期等静压石墨产量仅为9500吨,供应缺口达8500吨。当前,中国新涉足等静压石墨业务企业普遍存在的技术储备不足及产品结构不合理等问题很难短期内得到解决。


         等静压石墨是新型石墨材料,是石墨材料中的精品,由于具有一系列优良特性,它必然会与高新技术、国防尖端技术紧密相联,成为21世纪最有价值的新材料之一。随着经济发展,静压石墨的国内国际市场容量与日俱增,发展潜力巨大。正因如此,目前国内正兴起一股等静压石墨生产热,一些以生产模压石墨为主的炭素生产企业看中这块“大蛋糕”,陆续上马等静压设备,挤身等静压石墨生产行列中来,竞争将不可避免进入白热化状态,竞争的对手包括国外同行。在激烈的市场竞争中,国内等静压石墨生产企业的立足之本和出路是:将产品升级换代,朝大规格、细结构(超细结构)、高强度、高纯度、多功能方向发展,顺应光伏产业、机械制造、核能利用各行业发展趋势,为中国国民经济的发展更好地服务。

 

         中国是一个发展中国家,正在步入重工业化时期,中国已经成为世界级的“制造大工厂”。而且科学技术的发展带来了新的工业革命,等静压石墨材料及制品的广阔应用领域给等静压石墨产业带来了勃勃生机。当前,由于经济危机的爆发,国外炭素产业受到了较严重的影响,于是他们加大了对中国的销售力度。当前中国约能消耗世界等静压石墨产品的1/4,是世界上最大等静压石墨产品市场之一,等静压石墨产业将迎来发展的新阶段。

         本篇是为了配合国家产业政策向广大企业、科研院校提供环氧涂料技术制造工艺配方汇编技术资料。资料中每个项目包含了最详细的技术制造资料,现有技术问题及解决方案、产品生产工艺、配方、产品性能测试,对比分析。资料信息量大,实用性强,是从事新产品开发、参与市场竞争的必备工具。


         本篇系列汇编资料分为为精装合订本和光盘版,内容相同,用户可根据自己需求购买。

2025版《光刻胶剥离液制造工艺配方精选汇编》

2025版《光刻胶剥离液制造工艺配方精选汇编》

日本在全球光刻胶及剥离液市场中占据主导地位,尤其是在高端光刻胶领域。然而,中国通过政策支持、技术研发和产业链协同,正在加速实现光刻胶及相关材料的国产化替代。尽管短期内仍面临供应风险和技术挑战,但长期来看,国产光刻胶的自主可控将成为中国半导体产业发展的关键。

  本资料是收录涉及国内光刻胶剥离剂最新专利技术资料,资料中包括制造原料、配方、生产工艺、产品性能测试及标准、实际应用效果,技术指标,解决的具体问题等等,是企业提高产品质量和发展新产品的重要、实用、超值和难得的技术资料。


【资料内容】制造工艺及配方
【资料语种】中文
【项目数量】56项
电子版】1480元(PDF文档  邮件发送)


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日本在全球光刻胶及剥离液市场中占据主导地位,尤其是在高端光刻胶领域。然而,中国通过政策支持、技术研发和产业链协同,正在加速实现光刻胶及相关材料的国产化替代。尽管短期内仍面临供应风险和技术挑战,但长期来看,国产光刻胶的自主可控将成为中国半导体产业发展的关键。

  本资料是收录涉及国内光刻胶剥离剂最新专利技术资料,资料中包括制造原料、配方、生产工艺、产品性能测试及标准、实际应用效果,技术指标,解决的具体问题等等,是企业提高产品质量和发展新产品的重要、实用、超值和难得的技术资料。


【资料内容】制造工艺及配方
【资料语种】中文
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目录

1一种长效光刻胶剥离液及其应用上海戎洲芯科技有限公司
2一种光刻胶剥离液及其制备方法和应用福建泓光半导体材料有限公司
3一种低腐蚀、易清洗的芯片光刻胶剥离液、其制备方法及用途浙江奥首材料科技有限公司
4一种能够保护GaAs和PI衬底的光刻胶剥离液及其应用芯越微电子材料(嘉兴)有限公司
5一种聚乙烯醇肉桂酸酯型KPR光刻胶蚀刻残留剥离剂组合物深圳迪道微电子科技有限公司
6AMOLED领域用水性光刻胶剥离液及其制备方法苏州博洋化学股份有限公司
7一种显示面板用水系光刻胶剥离液及其制备方法和应用浙江奥首材料科技有限公司
8一种光刻胶剥离液、其制备方法及应用北京盛剑微电子技术有限公司
9一种显示面板用正性光刻胶剥离液及其制备方法和应用浙江奥首材料科技有限公司
10一种光刻胶剥离液、其制备方法与应用浙江奥首材料科技有限公司
11光刻胶清洗液及其制备方法、应用上海盛剑微电子有限公司
12一种用于显示面板的水基型光刻胶剥离液、制备方法及应用浙江奥首材料科技有限公司
13一种高回收率的光刻胶剥离液合肥中聚和成电子材料有限公司
14一种低腐蚀芯片光刻胶剥离液、其制备方法及应用浙江奥首材料科技有限公司
15一种显示面板光刻胶剥离液及其制备方法与应用浙江奥首材料科技有限公司
16一种芯片光刻胶剥离液、其制备方法及用途浙江奥首材料科技有限公司
17光刻胶剥离液及其应用上海盛剑微电子有限公司
18一种可再生光刻胶剥离液及其制备方法惠州达诚微电子材料有限公司
19一种铜钼基板用光刻胶剥离液合肥中聚和成电子材料有限公司
20用于制造液晶显示的光刻胶剥离剂组合物安庆市鑫祥瑞环保科技有限公司
21一种用于半导体化合物光刻胶的剥离液、其制备方法及用途浙江奥首材料科技有限公司
22一种水性光刻胶剥离液及其制备方法安庆市鑫祥瑞环保科技有限公司
23光刻胶剥离组合物关东化学株式会社
24光刻胶剥离液及其制备方法和应用深圳市信维通信股份有限公司
25光刻胶剥离组合物关东化学株式会社
26一种半导体芯片光刻胶剥离液及其制备方法与应用浙江奥首材料科技有限公司
27一种正性光刻胶剥离液组合物易安爱富(武汉)科技有限公司
28高耐热性光刻胶的剥离组合物及其应用上海飞凯材料科技股份有限公司
29一种耐高温低腐蚀光刻胶剥离液及其制备方法与应用浙江奥首材料科技有限公司
30一种光刻胶用剥离液及其制备方法惠州达诚微电子材料有限公司
31一种高分散芯片光刻胶清洗剂及其制备方法与用途浙江奥首材料科技有限公司
32光刻胶剥离用组合物株式会社东进世美肯
33一种负性光刻胶剥离液无锡中珂芯维科技有限公司
34一种还原性芯片光刻胶剥离液、其制备方法与应用浙江奥首材料科技有限公司
35一种光刻胶有机剥离液及其制备方法和应用绵阳艾萨斯电子材料有限公司
36一种高效缓蚀芯片光刻胶剥离液、其制备方法与用途浙江奥首材料科技有限公司
37一种光刻胶剥离液组合物、制备方法及其应用成都三贡化工有限公司
38一种光刻胶剥离液及其制备方法和应用上海盛剑微电子有限公司
39一种芯片光刻胶剥离剂、其制备方法与应用浙江奥首材料科技有限公司
40一种芯片光刻胶剥离剂组合物、其制备方法与应用浙江奥首材料科技有限公司
41一种用于制备金属凸点的双层正性光刻胶剥离方法南昌大学;南昌硅基半导体科技有限公司
42一种水系光刻胶剥离液合肥中聚和成电子材料有限公司
43光刻胶剥离液及其制备方法和光刻胶的剥离方法上海盛剑微电子有限公司
44一种用于去除铜层负性光刻胶的剥离液及其制备方法和应用江苏艾森半导体材料股份有限公司;艾森半导体材料(南通)有限公司
45一种光刻胶剥离液及其制备方法华璞微电子科技(宁波)有限公司
46一种光刻胶剥离去胶液及其应用工艺江苏长进微电子材料有限公司
47光刻胶剥离液TCL华星光电技术有限公司
48一种金属低蚀刻率光刻胶剥离液组合物及其应用昆山欣谷微电子材料有限公司
49用于半导体化合物光刻胶的剥离剂、其制备方法及用途江苏奥首材料科技有限公司
50一种用于三五族半导体化合物光刻胶的剥离剂、其制备方法及用途江苏奥首材料科技有限公司
51一种改进的环保水系光刻胶剥离液江阴江化微电子材料股份有限公司
52光刻胶剥离液组合物及其制备方法易安爱富科技有限公司
53一种正性光刻胶剥离液组合物及应用易安爱富(武汉)科技有限公司
54一种光刻胶剥离液组合物合肥中聚和成电子材料有限公司
55PFA光刻胶再生剥离液及其制备方法与应用绵阳艾萨斯电子材料有限公司
56一种光刻胶剥离液及其制备方法芯越微电子材料(嘉兴)有限公司