| 1 | 一种稳定悬浮的水性钻石研磨液及其制备方法 | 该水性钻石研磨液的研磨速率高、TTV小，磨料分散稳定性高，相比传统的水性钻石研磨液，还具有不易沉降的优点，相比油性研磨液，更加安全环保，易于清洗，可以避免因长时间作业升温引发的质量和安全隐患。 |
| 2 | 一种铜基复合焊膏、其制备方法与应用 | 铜基复合焊膏，通过加入微米级掺杂改性金刚石粉（即对微米金刚石进行掺杂改性），能够使硼、硫、氮、磷、镁等掺杂原子渗入微米金刚石晶格中，有助于提升导电性能，而导电性能的提升有助于降低焊层的发热功率，进而改善半导体器件的导热性能以及高温稳定性。 |
| 3 | 一种应用于金刚石衬底的粗抛液及其制备方法 | 显著提高了磨料的分散性和抛光液的均匀性，优化了磨料的粒径分布，以获得高品质的抛光液。 |
| 4 | 用于单晶金刚石化学机械抛光的稀土抛光液及制备方法 | 制备工艺方法简单，发明的产品具有优异的抛光性能。 |
| 5 | 用于不锈钢小游隙关节轴承的研磨膏、制备及其使用方法 | 解决了轴承安装收口后轴承外圈受收口力作用而产生变形，挤压内圈从而导致轴承安装收口后出现卡滞抱死的问题。 |
| 6 | 用于高硬度材料的水溶性金刚石研磨膏及其制备方法、应用 | 用于高硬度材料的水溶性金刚石研磨膏按照质量份数包括：硬脂酸：10‑80份；乙烯醚：1‑20份；凡士林：1‑10份；蜡：0.1‑10份；人造金刚石微粉：2‑200份。 |
| 7 | 油性金刚石研磨膏及其制备方法、应用 | 高压釜的压力为1‑200MPa，得到加热好的研磨膏；将加热好的研磨膏冷却至室温，得到所述油性金刚石研磨膏。 |
| 8 | 一种稀土元素掺杂的单晶金刚石抛光液及其制备方法 | 抛光液特别适用于单晶金刚石的超精密抛光，可广泛应用于光学、电子和机械加工等领域。与现有技术相比，本发明的抛光液具有更高的抛光效率和更好的表面质量，同时减少了抛光过程中的表面损伤，具有显著的经济效益和社会效益。 |
| 9 | 一种金刚石研磨膏及其制备方法 | 金刚石研磨膏具有分散性好，流动性好，研磨速率高，研磨盘盘温可控，工件表面光洁度高、不粘工件，易清洁的突出特点，可提高研磨加工效率，降低加工成本。 |
| 10 | 用于单晶金刚石化学机械抛光加工的抛光液及其制备方法 | 提供的抛光液具有较大的氧化能力和去除率，实现了金刚石的高质高效加工。 |
| 11 | 一种抗腐蚀金刚石研磨液及其制备方法 | 提供的研磨液具有抗腐蚀以及高分散性的性能，可以广泛应用于精密研磨抛光领域，具有较好的商业应用价值。 |
| 12 | 一种多晶金刚石用抛光液及抛光方法 | 能够满足制造超硬切削工具、半导体、红外光学窗、高性能散热器等领域的基本要求，具有广阔的应用前景。 |
| 13 | 一种适用于塑胶型眼镜材料的研磨膏 | 配方得到的研磨膏，不仅分散性更强，不易产生沉淀，而且去除率得到增强，抛光效果也更好。 |
| 14 | 一种用于碳化硅衬底研磨用团聚钻石液的制备方法 | 在降低工艺成本的同时，能保持研磨效率不变，且研磨后表面质量得到进一步地提高。 |
| 15 | 用于加工高纯大尺寸氧化铝陶瓷基板表面的粗磨液及其制备方法 | 通过等离子体改性使粉体除发挥纯机械去除作用外，还能发挥摩擦化学作用；通过表面活性剂和悬浮稳定剂使粉体在研磨液体系中分散均匀，提高加工效率、表面质量和平整度；通过润滑剂和缓蚀剂降低摩擦和腐蚀；显著提高了去除速率和产品良率，降低了表面粗糙度和成本。 |
| 16 | 一种金刚石研磨液及其制备方法 | 该金刚石研磨液具有研磨效率高、磨料分散均匀，悬浮稳定性好，长时间放置不会产生沉降分层现象，解决了市面上产品存在的金属腐蚀及团聚、分层等问题，对环境无污染。 |
| 17 | 多晶碳化硅衬底抛光剂、抛光方法及多晶碳化硅衬底 | 多晶碳化硅衬底表面粗糙度＜0.5nm，完成多晶碳化硅衬底抛光。抛光而得的多晶碳化硅衬底表面粗糙度能够满足键合工艺的要求。 |
| 18 | 一种掺杂金属纳米颗粒的单晶金刚石抛光液及其制备方法 | 将正硅酸乙酯水解后胶束自组装，再经煅烧得到。本发明公开了上述掺杂金属纳米颗粒的单晶金刚石抛光液制备方法。 |
| 19 | 一种基于碳化硅陶瓷片抛光的双cmp抛光液的抛光方法 | 然后在碳化硅陶瓷板打磨过程中添加碱性cmp抛光液进行机械打磨，在碱性cmp抛光液中的金刚石微粉和磨料的作用下，可以大大提高碳化硅陶瓷板的打磨效率。 |
| 20 | 一种氮化镓晶圆的绿色抛光液 | 采用的抛光液打破了芬顿反应pH不大于3的限制，使抛光液在偏中性环境中仍有较好的氧化性，且抛光液稳定性较好，绿色无污染，抛光效果好。 |
| 21 | 一种碳化硅加工用多晶金刚石磨抛剂及其制备方法 | 混合均匀后得到所述磨抛剂；改性多晶金刚石微粉能够在介质中长期、稳定分散，制备得到的磨抛剂具有良好的冷却性和清洗性、优越的润滑性、高悬浮性、高团聚抑制能力。 |
| 22 | 一种高效低损伤金刚石研磨液及其制备方法 | 在形成软性缓冲层保障效率抑制划伤的同时，也可实现研磨液的及时更新，稳定研磨加工性能。 |
| 23 | 一种碱性-耐热-多尺寸磨粒磁流变抛光液及其制备方法 | 磁流变抛光液提升了材料去除率，提高石英玻璃元件的抛光效率；并进一步降低抛光粗糙度，有利于加工出高质量表面。 |
| 24 | 一种碳化硅晶片抛光液及其制备方法和应用 | 该抛光液的抛光去除速率稳定，表面加工品质好，还能适用于不同材质抛光垫。 |
| 25 | 一种具有光催化辅助功效的抛光液及其制备方法 | 具有较高的悬浮稳定性，抛光效率高，散热快，可适用于硬质合金、陶瓷、光学玻璃、宝石、集成电路等多种材料的抛光加工。 |
| 26 | 一种微纳气泡辅助光催化抛光单晶金刚石双组分抛光剂及其制备方法 | 抛光剂成分简单、组分无毒、对环境友好。采用双组分的形式，有效的避免了抛光剂可能失效的问题，保留了抛光剂强氧化性能，使其在单晶金刚石抛光过程中更好的发挥作用。 |
| 27 | 一种抛光硅片的金刚石抛光液 | 混合后搅拌均匀，后超声设备中震荡10‑15min，长时间存放基本不产生沉淀，抛光质量稳定，没有对人体有害成分，有利环保。 |
| 28 | 一种油性多晶金刚石研磨抛光液及其生产制备工艺 | 将原料根据比例依次倒入至配料量筒内部，方便迅速完成配料，推动相对应原料位置的滑板，将原料送入，方便根据次序选取所需放入的原料，操作更加简单便利。 |
| 29 | 一种用于光纤接头端面的抛光液组合物 | 光纤接头抛光液组合物对光纤接头端面进行抛光，可有效降低光纤接头端面的表面粗糙度,并具有低的纤芯下陷，提高了光纤接头加工的成品良率。 |
| 30 | 一种用于非金属材料精密抛光的研磨膏及其制备方法 | 研磨膏能针对氧化铝、氧化锆、碳化硅陶瓷和石英等材料进行精密抛光研磨，仅需抛光30分钟即可达到较好的效果，表面粗糙度可从原来的Ra0.4达到Ra0.1，提高抛光精度和效率，提高产品成品率，该研磨膏成本低廉，制备便捷，易于推广。 |
| 31 | 添加纳米金属的单晶金刚石高精度抛光剂及其制备方法 | 满足单晶金刚石不同原子面抛光工艺差异化要求。本发明抛光剂用于单晶金刚石的抛光。 |
| 32 | 宝石阀座密封槽用研磨抛光膏及其制备方法 | 解决研磨抛光膏在宝石阀座密封槽加工过程中容易在密封槽表面形成丝划，表面精度差，表面光洁度低，与工件的粘黏性差，从而导致宝石阀座密封性差，生产效率低，生产成本高的问题。 |
| 33 | 一种绿色可见光催化辅助金刚石化学机械抛光液 | 抛光后，表面粗糙度为0.111nm，材料去除率为416nm/h。本发明实现了绿色、高效、高质量化学机械抛光金刚石。 |
| 34 | 一种可见光辅助金刚石化学机械抛光液及抛光方法 | 实现了金刚石的高效率超光滑化学机械抛光。相较于传统抛光方法，晶体表面粗糙度降低，抛光效率提升。相较于紫外光辅助化学机械方法，使用设备结构简单，实用性强。 |
| 35 | 一种金刚石研磨膏及其制备方法 | 金刚石研磨膏使用方便，硬度高，易清洗，可以对物体表面起到很好地研磨作用，方便研磨物的后期处理。 |
| 36 | 一种煤岩专用抛光剂及其制备方法 | 配方设计科学合理，通过加磁改性金刚石微粉替代传统的金刚石微粉，金刚石微粉具备磁性，使所得抛光剂中金刚石微粉能长期稳定悬浮，保障抛光质量和抛光效率，满足煤岩分析的需求。 |
| 37 | 大尺寸硅片边缘的抛光液、抛光液制备方法及抛光方法 | 采用离子交换树脂通过离子交换法对磨粒进行表面改性，结合抛光液配方的调控，快速获得超光滑表面。 |
| 38 | 一种硫化锌用抛光液及其制备方法 | 柠檬酸在抛光过程中既能起到溶解作用又能在表面形成过渡层，防止过度腐蚀。上述各组分在特定的配比条件下协同作用，可以使得到的硫化锌用抛光液抛光处理后的硫化锌晶体的表面粗糙度较低。 |
| 39 | 一种二氧化碲用抛光液及其制备方法 | 实验结果表明，本发明制备的二氧化碲用抛光液抛光处理后的二氧化碲晶体的表面粗糙度明显更低，不超过0.6nm，无划伤、凹坑和麻点等缺陷。 |
| 40 | 一种SiC衬底加工用纳米金刚石抛光液及其制备方法 | 所述抛光液通过控制金刚石微粉的形貌构成，在耐磨磨粒提高抛光效率的同时，借助圆形磨粒修复表面损伤层和粗糙度，从而实现对抛光划伤的控制。 |
| 41 | 一种金刚石研磨液及其制备工艺 | 该金刚石研磨液研磨效率高，磨料分散均匀，悬浮稳定性好，长时间放置不会发生沉降分层现象。 |
| 42 | 一种金刚石抛光液的制备方法 | 金刚石微粉经过改性处理，其表面增加了含氧基团，有利于金刚石微粉的分散。 |
| 43 | 一种金刚石悬浮研磨抛光液及其制备方法 | 抛光液可以直接使用，省去了再次稀释的步骤，提高了加工效率，增加抛光产品品质的稳定性。 |
| 44 | 一种锆基复合抛光液及其制备方法 | 抛光液能够有效去除硒化锌、硫化锌、硫系玻璃等材料表面的麻点、表面损伤等缺陷，避免抛光过程中产生划痕，而且本发明的抛光液同时兼顾抛光效果和抛光效率，效果良好。 |
| 45 | 一种环保不锈钢抛光液 | 与现有技术相对比，本发明的抛光颗粒硬度适中、磁控剪切力大，载流体为乙醇/水体系环保，抛光颗粒可回收，处理后不锈钢表面形成钝化膜大大延缓腐蚀等优点。 |
| 46 | 一种石英玻璃研磨液及其制备方法 | 硬度略低的氧化铝颗粒可对金刚石加工造成的裂纹进行修复，可同时满足石英玻璃研磨去除率高、粗糙度小的理想研磨效果。 |
| 47 | 一种碳化硅单晶抛光液及其使用方法 | 该抛光液利用不同粒度的抛光磨料，实现了对碳化硅单晶表面的有效抛光，实现了碳化硅单晶表面粗糙度Ra均达到亚纳米级。 |
| 48 | 一种抛光液及其制备方法和碳化硅晶体的加工方法 | 所述抛光液可用于对碳化硅晶体的加工中。本发明的抛光液配合抛光垫对碳化硅进行抛光，能够有效减少精抛时间和减少整体研磨抛光时间，并显著提高晶体表面质量。 |
| 49 | 金刚石研磨膏及其制备方法 | 金刚石研磨膏具有较好的流动性，且金刚石微粉在金刚石研磨膏中的分散性好，在用于高硬度材料的研磨加工时产生的划痕少。 |
| 50 | 一种新型环保的微乳液型金刚石抛光液 | 短碳链及羟基结构提高了表面活性剂的亲水性，更容易形成稳定的油水体系，长时间保持均匀透明且不分层。该抛光液制备方法简单，所需设备简易且操作条件温和，可实现高效的工业化生产。 |
| 51 | 含纳米混合抛光粉的磁流变抛光液及其制备方法 | 制备方法包括将羰基铁粉、纳米混合抛光粉、基载液混合，然后加入表面活性剂和pH调节剂即得。本发明的磁流变抛光液可实现磁流变抛光高去除效率和高表面质量的兼容，流变性能好，稳定性强，能够实现光学元件的磁流变高效超光滑加工。 |
| 52 | 一种用于陶瓷轴承球的抛光液及其制备方法 | 具有高效率、易清洗的特点，抛光后陶瓷轴承球的表面质量优异。 |
| 53 | 碳化硅晶片粗抛用金刚石抛光液及制备方法 | 采用改性脲溶液作为有机悬浮剂，抛光液长期放置无明显分层现象，与无机悬浮剂，如疏水改性气相法白炭黑，有机膨润土相比，抛光废屑不易粘附在抛光盘上，易清洗。 |
| 54 | 一种蓝宝石晶片研磨液及其制备方法 | 在纯硅溶胶中加入铈锆掺杂硅溶胶和铈钙掺杂硅溶胶，加快对蓝宝石晶片表面的软化速度，加入碳化硼微粉、金刚石微粉和氧化铝空心球作为增磨剂，加速去除软化部分的速度，大大提高加工速率。 |
| 55 | 一种金刚石抛光液及其制备方法 | 提供的抛光液的为水性抛光液、绿色环保、悬浮性好，抛光效率高、抛光面的光洁度好、成本低廉等特点。 |
| 56 | 一种金刚石研磨液及其制备方法 | 研磨液能够在保证研磨速率不降低的同时，改善表面加工质量，获得表面粗糙度更低、深划伤更少的加工工件。 |
| 57 | 一种超快速低损碳化硅衬底抛光液及其制备方法 | 所述添加剂对抛光基液具有平衡抛光时摩擦力作用，使碳化硅衬底在高速抛光的过程中，不会因为抛光速度加快而出现划痕或粗糙度加剧的问题，实现高速抛光的同时，降低表面粗糙度，减少划痕的目的，且整个精加工过程，加工精度高、自动化程度高。 |
| 58 | 一种抛光粉及其制备方法 | 在研磨过程中加入金刚石微粉以及滑石粉，制得三级粗成品；S6.对三级粗成品进行粒径筛分处理，得到成品粉体。本发明具有提升抛光粉粉体品质的效果。 |
| 59 | 一种自润滑抛光硅胶材料及其制备方法和产品 | 自润滑抛光硅胶材料及其制备方法和产品，按重量份计，包括硅胶100份、氧化铈粉10‑40份、金刚石粉5‑20份、氧化铝粉5‑20份、亮光剂0.3‑1.5份、硫化剂1‑2份、色素0.5份，自润滑抛光硅胶材料在作为抛光耗材时，不需要添加研磨剂或抛光剂，污染小，磨形速度快，通用性好，耐磨性好。 |
| 60 | 一种金刚石研磨膏及其制备方法 | 其研磨抛光结果为高碳钢材料的表面粗糙度均明显的降低且材料表面刮痕少，所制备的金刚石研磨膏材料去除率高、抛光效果良好。 |
| 61 | 一种金刚石研磨膏及其制备方法 | 金刚石研磨膏具有良好的研磨抛光性能，膏体细腻，对蓝宝石镜片材料有良好的抛光效果。 |
| 62 | 一种利用超声波制备金刚石研磨膏的方法 | 由此方法制作的金刚石研磨膏金刚石微粉分散均匀，不易沉淀，使用寿命长，并且研磨抛光效率高，研磨出的产品能达到质量要求。 |
| 63 | 一种微波加热制备金刚石研磨膏的方法 | 金刚石研磨膏具有良好的分散性和均匀性，膏体细腻，能够达到材料所需要的研磨抛光效果。 |
| 64 | 一种金刚石研磨膏及其制备方法与应用 | 金刚石研磨膏能够用于金属材料、陶瓷材料、玻璃材料和塑料等材料的精密乃至超精密加工。 |
| 65 | 一种水油双溶性金刚石复合研磨膏及其制备方法 | 膏体悬浮稳定性好，微粉分散均匀，使用后易于清洗，成本低廉，且研磨工作效率高。 |
| 66 | 一种钢管加工用锈斑抛光膏 | 锈斑抛光膏能显著提高抛光效果，节省抛光时间，降低磨具的消耗，并且能及时对抛光产生的新表面进行防锈处理，防止锈斑再次形成。 |
| 67 | 一种易清洗的金刚石研磨膏及其制备方法 | 金刚石研磨膏具有良好的清洗性，膏体细腻，能够达到好的研磨效果的同时也方便研磨器壁的清洗。 |
| 68 | 一种金刚石研磨膏 | 所述的金刚石研磨膏能提高金刚石微粉的分散性，保证特种陶瓷的研磨效果，并能适用于油性和水性介质。 |
| 69 | 一种用于高纯氧化铝陶瓷的研磨抛光膏 | 原料混合制成：纳米金刚石颗粒2-5份，凡士林150-340份，动物脂肪油200-320份，表面改性剂30-100份。本发明抛光效率高，抛光后的产品表面无划痕，光洁度高，粗糙度小于0.1微米。 |
| 70 | 一种阀门密封面研磨用金刚石-纳米陶瓷复合膏 | 能够在阀门密封面形成氧化膜，从而加速研磨过程，提高研磨效果，并且能够对研具产生一定的保护作用。 |
| 71 | 一种油水两溶性金刚石研磨膏及其制备方法 | 所述的油水两溶性金刚石研磨膏既能保证研磨抛光速率，又能达到表面质量要求，并且容易清洗。 |
| 72 | 一种4H－SiC单晶片研磨工序用研磨膏及其制备方法 | 所制得的研磨膏具备良好的稳定性。 |
| 73 | 一种人造金钢石研磨膏 | 研磨膏使用时配合气动打磨机，用于加工精密模具表面的抛光处理，其表面质量和表面光洁度高，且对操作人员的经验和技术水平要求不高，可以大大提高生产效率降低成本，适用批量加工。 |
| 74 | 用于蓝宝石圆棒胶木轮的抛光膏及其制备方法 | 所述抛光膏抛光的工件表面表面光洁度好，操作方法简单，技术要求低，适用于大批量生产。采用本发明方法制备的抛光膏均匀分散、稳定、不会产生沉淀。 |
| 75 | 一种高纯度纳米金刚石抛光膏及其制备方法 | 该抛光膏具有两溶性、具有较高的抛光速率、良好的分散稳定性、粘度适中，能有效的防止被抛光陶瓷插针微内孔表面产生，经检测，插入损耗和回波损耗均达到国标要求。 |
