１    一种用于碳化硅衬底研磨用单晶钻石液的制备方法

        有别于传统单晶钻石液，该研磨液搭配铸铁盘使用，并且采用水基体系，加入了聚丙烯酸改性的三维立体悬浮剂，确保单晶金刚石颗粒能均匀分布，并且能形成稳定液膜，提高研磨速率，从传统的０．５ｕｍ／ｍｉｎ提高到１．０ｕｍ／ｍｉｎ以上；该体系采用亚硝酸盐、磷酸盐、硅酸盐做为分散剂及防锈剂，确保金刚石颗粒的分散性能，避免软团聚的形成；并采用了超尺寸颗粒分离技术，对超大颗粒金刚石进行分离，避免划伤不良；采用高速乳化分散头对水基体系进行搅拌分散，确保液体的均一性。

２    一种多晶金刚石用抛光液及抛光方法

       提供多晶金刚石用抛光液包括金刚石微粉、高锰酸钾和水，金刚石微粉、高锰酸钾和水的质量比为（０．５～２）：（３～１０）：１００，多晶金刚石用抛光液采用稀硫酸调节ｐＨ至２～５。利用大粒径的金刚石微粉和水混合配制研磨液对待加工多晶金刚石样品进行研磨，然后采用抛光液对研磨后的多晶金刚石样品进行抛光。能够实现多晶金刚石表面的高效抛光，且获得金刚石膜表面超光滑，结构无损伤，表面粗糙度可低至１ｎｍ以下，能够满足制造超硬切削工具、半导体、红外光学窗、高性能散热器等领域的基本要求。

３    一种用于碳化硅衬底ＤＭＰ的团聚钻石研磨液的制备方法

        其中制备方法包括以下步骤：Ｓ１、原料处理，包括：原料分选、原料酸洗、原料漂洗、原料烘干；Ｓ２、雾化干燥；Ｓ３、烧结成型；Ｓ４、精密分选；Ｓ５、干燥；Ｓ６、研磨液制备，包括：粉体改性、将改性后的原料配比称重、将称重后的原料搅拌混合、罐装，得到团聚钻石研磨液。通过采用团聚金刚石以及其他软磨材料制成复合磨料，采用超声水煮法对原料进行改性，通过添加ＰＶＰ作为分散剂等，进一步地提高研磨的效率和研磨后的产品质量。

４    一种悬浮抛光液及其制备方法和碳化硅的抛光方法

       提供的悬浮抛光液悬浮能力好、单位时间内碳化硅移除率高和表面粗糙度低、不易堵塞抛光设备管路、不污染抛光垫、不影响碳化硅器件性能并且不易划伤碳化硅。

５    一种用于增材制造的金属粉末研磨液、研磨方法

       研磨液包括以下组分：油性有机溶剂７０‑８０份；悬浮剂１０‑１５份；磨料１５‑２０份；其中，悬浮剂包括大环多元醚或大环聚醚；磨料为络合剂和表面活性剂包覆的金刚石颗粒；悬浮剂与络合剂交联。提供的技术方案采用络合剂和表面活性剂对金刚石颗粒进行表面包覆，进而配合悬浮剂使得磨料的悬浮性能更好，不容易沉底，提高了研磨的效率。

６    一种用于碳化硅衬底研磨用团聚钻石液的制备方法

       磨料一为团聚金刚石研磨粉；磨料二为氧化铝粉；研磨介质为醇类化合物；极压剂为硫化物或磷化合物的任意一种；研磨助剂由润滑剂１‑８％、冷却剂５‑７％之间、清洁剂０．１‑１％、防锈剂０．０５‑０．１％组成；消泡剂为聚醚类消泡剂；表面活性剂为二烷基硫酸盐、十二烷基苯磺酸盐或十二烷基胺氧化物任意一种；ＰＨ调节剂为有机酸或无机酸。在降低工艺成本的同时，能保持研磨效率不变，且研磨后表面质量得到进一步地提高。

７    一种金刚石用抛光液及金刚石衬底的抛光方法

       属于金刚石抛光技术领域。该抛光液包括金刚石微粉、三价铁盐、双氧水和水，所述抛光液中金刚石微粉、三价铁盐、双氧水和水的重量比为（０．０２～０．１）：（０．０２～０．１）：（０．０５～０．１）：１，双氧水中过氧化氢的浓度为３０％。抛光液通过使用微溶于水的铁盐来实现铁源的供给，能够在双氧水的存在下实现羟基自由基的稳定供应，从而有效去除金刚石表面的杂质，实现对金刚石表面的原子级粗糙度的控制。

８    一种金刚石用研磨液及金刚石衬底的研磨方法

       属于金刚石研磨技术领域。该研磨液包括金刚石微粉、碳化硼微粉、双氧水和水，所述研磨液中金刚石微粉、碳化硼微粉、双氧水和水的重量比为（０．０８～０．１５）：（０．０８～０．１５）：（０．０５～０．１０）：１，所述双氧水中过氧化氢的浓度为３０％。研磨方法中采用含有双氧水的研磨液与表面固定有金刚石微粉的研磨盘相互协同，能够实现对金刚石衬底的均匀且高效研磨，显著降低研磨后的金刚石衬底的粗糙度并提高成品率，提高了金刚石衬底的应用前景。

９    再造金刚石研磨液和废弃金刚石研磨液的回收再利用方法及应用该方法的装置

        提供的再造金刚石研磨液，其包括添加剂和废弃金刚石研磨液；提供的回收再利用方法能够将废弃金刚石研磨液回收得到再造金刚石研磨液，回收得到的金刚石研磨液的性能能够恢复至和使用前的性能相当，符合再利用要求；通过提高废弃研磨液的质量，实现研磨液的循环利用，从而降低了机械研磨工艺的成本，且循环利用的工艺简单，易于实现操作。

１０ 一种抗腐蚀金刚石研磨液及其制备方法

        按重量份数计，所述研磨液包括以下原料：改性金刚石０．５‑５份，氧化剂０．２‑５份，ｐＨ调节剂０．１‑３份，缓蚀剂２‑５份，润滑剂０．１‑２份，稳定剂０．３‑５份，去离子水７５‑９０份。提供的研磨液具有抗腐蚀以及高分散性的性能，可以广泛应用于精密研磨抛光领域，具有较好的商业应用价值。

１１ 一种金刚石研磨液及其制备方法

        该研磨液是由改性磨料、有机溶剂和表面活性剂组成。该金刚石研磨液具有研磨效率高、磨料分散均匀，悬浮稳定性好，长时间放置不会产生沉降分层现象，解决了市面上产品存在的金属腐蚀及团聚、分层等问题，对环境无污染。

１２ 一种金刚石研磨液及其制备方法

        由以下重量份的原料制备而成：金刚石微粉０．５～６份、高分子微球０．０２５～２份、分散剂０．１～５份、悬浮剂０．２～５份、ＰＨ调节剂０～１份、去离子水６０～９０份。金刚石研磨液组成配比科学，能够提高熔石英研磨加工的效率，减少深划伤，改善表面加工质量，缩短加工周期。

１３ 一种氮化镓晶圆的绿色抛光液制备方法

        一种以芬顿反应为氧化剂、金刚石为磨粒的氮化镓晶圆的绿色抛光液，采用的抛光液打破了芬顿反应ｐＨ不大于３的限制，使抛光液在偏中性环境中仍有较好的氧化性，且抛光液稳定性较好，绿色无污染，抛光效果好。

１４ 一种碱性‑耐热‑多尺寸磨粒磁流变抛光液及其制备方法

        涉及超精密加工技术领域，为解决现有磁流变抛光液大都稳定性较差，较高温度下固体颗粒易发生沉降，且磁流变抛光液的磨粒大都为单一种类和尺寸，限制材料去除率的进一步提升。提升了材料去除率，提高石英玻璃元件的抛光效率；并进一步降低抛光粗糙度，有利于加工出高质量表面。

１５ 一种适用于塑胶型眼镜材料的研磨膏制备方法

        减少了常规的金刚石微粉的添加量，加入了一定量的纳米金刚石＠硅化钕钽多孔微球，目的在于改善现有金刚石微粉性能的不足。经过后续检测发现，配方得到的研磨膏，不仅分散性更强，不易产生沉淀，而且去除率得到增强，抛光效果也更好。

１６ 一种掺杂金属纳米颗粒的单晶金刚石抛光液制备方法

        包括单晶金刚石微粉５０‑１５０份，金属纳米颗粒１０‑３０份，分散二氧化硅微球５‑１０份，氧化石墨烯１５‑３０份，润湿剂１‑２份，表面活性剂１‑２份，防锈剂１‑２份，消泡剂１‑２份，黏度调节剂１‑２份，质量分数为２６‑３０％的双氧水溶液１０００‑４０００份，浓度为０．１‑１ｍｏｌ／Ｌ的硫酸铁溶液０．１‑１０份。其中分散二氧化硅微球以水杨酸钠和十六烷基三甲基溴化铵为结构导向剂，以三乙醇胺为催化剂，将正硅酸乙酯水解后胶束自组装，再经煅烧得到。

１７ 一种具有光催化辅助功效的抛光液及其制备方法

       具有较高的悬浮稳定性，抛光效率高，散热快，可适用于硬质合金、陶瓷、光学玻璃、宝石、集成电路等多种材料的抛光加工；本发明利用超紫外线进行光催化来进行辅助来提高抛光液中粒子的动能，通过机械作用与化学作用进行紧密的结合，从而显著的弥补了机械作用产生的较大尖凸出现，造成粗糙度增加的现象的发生，有效降低了机械作用产生的多种缺陷，大幅度的提高了表面抛光质量。

１８ 一种微纳气泡辅助光催化抛光单晶金刚石双组分抛光剂及其制备方法

        它包括Ａ组分和Ｂ组分，所述Ａ组分包括催化剂、氧化剂１、ｐＨ调节剂、微纳气泡水，所述Ｂ组分为磨料、微纳气泡水、氧化剂２。使用时将Ａ组分与Ｂ组分以一定速率同步滴加于工件表面，在紫外光照的条件下实现材料的高效去除。抛光剂成分简单、组分无毒、对环境友好。采用双组分的形式，有效的避免了抛光剂可能失效的问题，保留了抛光剂强氧化性能，使其在单晶金刚石抛光过程中更好的发挥作用。

１９ 一种抛光液及ＣＨ＜ｓｕｂ＞３＜／ｓｕｂ＞ＮＨ＜ｓｕｂ＞３＜／ｓｕｂ＞ＰｂＩ＜ｓｕｂ＞３＜／ｓｕｂ＞晶体抛光方法

       该抛光液可有效均衡ＣＨ＜ｓｕｂ＞３＜／ｓｕｂ＞ＮＨ＜ｓｕｂ＞３＜／ｓｕｂ＞ＰｂＩ＜ｓｕｂ＞３＜／ｓｕｂ＞晶体化学机械抛光过程中的机械作业和化学反应作用，使得ＣＨ＜ｓｕｂ＞３＜／ｓｕｂ＞ＮＨ＜ｓｕｂ＞３＜／ｓｕｂ＞ＰｂＩ＜ｓｕｂ＞３＜／ｓｕｂ＞晶体化学机械抛光处理过程高效、稳定，并大幅提高了晶体化学机械抛光的质量，获得优质的抛光表面，提高晶体的物理、电学性能，实用性好。

２０ 一种抛光硅片的金刚石抛光液制备方法

       各质量比的混合后搅拌均匀，后超声设备中震荡１０‑１５ｍｉｎ，长时间存放基本不产生沉淀，抛光质量稳定，没有对人体有害成分，有利环保。

２１ 一种研磨液、制备方法及用途

       适用于蓝宝石、氮化铝、氮化镓或单晶金刚石衬底的精密研磨。研磨液在长时间剪切作用下，磨料仍保持良好的悬浮，具有循环寿命长，磨削效率高的优点；研磨液具有优异的分散作用，能有效地将研磨过程产生的纳米颗粒分散开，避免吸附到磨料表面，避免产生团聚大颗粒，降低研磨产生的划伤。因此，本发明研磨液具有良好的应用前景和大规模工业化推广潜力。

２２ 一种金刚石研磨液的制备方法

        采用碱或酸处理将金刚石团聚体预分散，通过加入润湿剂、分散稳定剂和抗防腐剂使金刚石稳定分散，制备了一种金刚石研磨液。在该分散体系中，金刚石能够稳定、均匀分散。该方法制备的金刚石研磨液可以广泛地应用于精密研磨抛光领域。

２３ 用于抛光例如具有大于约６的莫氏硬度的硬质材料的硬质材料的经改进浆液

        示范性硬质表面包含蓝宝石、碳化硅、氮化硅及氮化镓及金刚石。在组合物及方法中，令人惊讶地发现包括添加剂的唯一组合的新颖组合物在浆液中均匀地分散具有广泛范围的颗粒大小的金刚石颗粒。一般碱性浆液组合物能够利用大于４０微米的金刚石颗粒大小同时实现良好移除速率。在此类情况下，当与适合垫一起利用时，以均匀表面损害对碳化硅、氮化硅、蓝宝石、氮化镓及金刚石进行快速且平坦研磨是可行的。

２４ 一种金刚石研磨膏及其制造方法

       金刚石研磨膏主要由以下组分组成：研磨微粉、液体油和研磨助剂；通过加入球形氧化铝粉来改善金刚石微粉的分散性能及研磨性能，同时，在研磨过程中球形氧化铝粉也起到了降低研磨盘盘温的作用；通过加入金属铜粉、润滑剂、抗磨剂并采用特定的液体油等方式来降低研磨过程中的研磨盘盘温以及降低被加工工件的表面粗糙度；通过加入特定的双亲性有机物来改善金刚石研磨膏的清洗性能；通过添加增稠剂来调节研磨膏的稠度，进而改善其使用性能及研磨性能。

２５ 一种稳定全悬浮研磨用金刚石研磨液制备方法

       相较于现有的半悬浮或无悬浮状态的研磨液，产品具有更好的产品品质观感；将其应用于研磨加工时性能稳定，有更好的加工效率和加工表面质量；应用于研磨抛光液的批量化生产时，无沉降聚集造成灌装不均的隐忧，可实现批量化稳定生产。

２６ 一种高效低损伤金刚石研磨液制备方法

       该金刚石研磨液用于双面研磨时，可均匀分布于硬质研磨盘面，无返稀或分布缺失问题发生，可减少划伤产生，避免局部温度过高造成几何参数失控；同时其增稠减粘特性，在形成软性缓冲层保障效率抑制划伤的同时，也可实现研磨液的及时更新，稳定研磨加工性能。

２７ 一种浓缩型水性研磨助剂制备方法

        将浓缩型水性研磨助剂应用于碳化硅、氮化镓晶圆研磨加工，可大大降低直接使用金刚石研磨液成品的加工成本；同时可对金刚石磨料颗粒进行快速分散悬浮，并形成具有触变特性的稳定悬浮液。润滑剂在使用过程中可以有效降低研磨过程中的摩擦阻力，增加润滑性，有效改善研磨表面质量，并大大缩短后道晶圆抛光时间。

２８ 一种复合型抛光液及其制备方法

        包覆型氧化铈为表面包覆有聚合物的磨料氧化铈，聚合物为六亚甲基四胺、甲氧基聚乙二醇甲基丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、４‑羟基苯并三唑丁酯中的任意两种。技术方案能够有效提升碳化硅器件表面的机械去除速率，降低碳化硅器件表面粗糙度，并能够降低划伤风险以提升碳化硅器件表面抛光质量。

２９ 一种油性金刚石抛光液、其制备方法及用途

        金刚石磨料为类多晶、多晶、单晶和聚晶中的两种或多种混合磨料。所述油性剂为烷烃与矿物油的混合物。本发明还公开了油性金刚石抛光液的制备方法，及其在蓝宝石抛光领域的用途。油性金刚石抛光液安全、环保、高效，对蓝宝石衬底无腐蚀。在相同磨料下，油性金刚石抛光液与水性抛光液相比较，具有较高的移除率以及较低的粗糙度。

３０ 一种金刚石抛光液及其制备方法

        金刚石抛光液的制备方法包括以下步骤：以金刚石粉末、脂类、醇类、脂肪酸和矿物油为原料，制备抛光膏；将所述抛光膏分散于十二烷基磺酸钠溶液中，得到抛光中间液；将所述抛光中间液与水混合，得到金刚石抛光液。解决了现有的抛光材料对镍质模仁表面进行抛光的抛光效果较差的技术问题。

３１ 一种混合磨料、包含其的光学石英玻璃抛光液、制备方法及用途

       包括重量配比如下的各组分：混合磨料０．５‑２份；分散剂１‑４份；ｐＨ调节剂０．１‑１份；络合剂２‑１０份；润湿剂０．５‑２份；超纯水３０‑８０份。混合磨料为金刚石和金属氧化物的复合磨料，包含该混合磨料的抛光液适用于石英玻璃的抛光，对石英玻璃无腐蚀，同时具有较高的去除率以及低于１ｎｍ的粗糙度。

３２ 一种添加纳米金属的单晶金刚石高精度抛光剂制备方法

       单晶金刚石抛光剂的制备技术领域。解决现有方法针对单晶金刚石各向异性，并满足不同原子面抛光需求。抛光剂由包覆石墨烯的纳米金属颗粒、溶剂、分散剂、ｐＨ调节剂和表面活性剂合成。在抛光过程中，本发明制备的抛光剂可以催化单晶金刚石石墨化、促进化学效应、削弱机械作用带来的金刚石表面解理剥落、减少大颗粒金刚石磨屑的形成，防止对抛光面造成二次损伤。

３３ 一种氧化锆陶瓷手机背板减薄用金刚石研磨液的制备方法

       将原料表面多刃化金刚石微粉置于容器中，然后加入去离子水和分散剂超声搅拌均匀，然后湿法研磨分散，得到金刚石微粉悬浮液；在所得金刚石微粉悬浮液中依次加入保湿剂、悬浮剂、消泡剂分别进行搅拌均匀；消泡剂加入后的金刚石微粉悬浮液中加入ｐＨ调节剂搅拌均匀，调节其ｐＨ值为７～１０，最后加入去离子水配制得到表面多刃化金刚石微粉研磨液。本发明的金刚石研磨液在研磨抛光过程中，采用表面多刃化金刚石微粉，具有高效减薄，并能得到低的表面粗糙度。

３４ 一种用于超硬材料的固体金刚石研磨剂及制备方法

       软磨剂为氧化铝、分散剂为乙醇、水和甘油、赋形剂为硬脂酸、芳香剂为柠檬香精、抗氧化剂为改性纳米氧化锌、光亮剂为硼硅酸钠钙、增稠剂为羟甲基纤维素钠、膨胀剂为月桂醇硫酸酯钠，不仅增强了研磨效果，使用直接方便，同时解决了传统研磨剂在使用时需要加稀释剂再使用、不能水洗、难以清洁、存放时间短、性能不稳定、使用时容易四处飞溅问题。

３５ 一种用于单晶金刚石化学机械抛光加工的抛光液及其制备方法

        制备方法包括向单晶金刚石微粉加入Ｈ＜ｓｕｂ＞２＜／ｓｕｂ＞Ｏ＜ｓｕｂ＞２＜／ｓｕｂ＞溶液、震荡、将配置好的Ｆｅ＜ｓｕｂ＞２＜／ｓｕｂ＞（ＳＯ４）＜ｓｕｂ＞３＜／ｓｕｂ＞溶液添入，调整其ＰＨ值至２～４，得到抛光液。提供的抛光液具有较大的氧化能力和去除率，实现了金刚石的高质高效加工。

３６ 一种可悬浮金刚石研磨液及其制备方法

        研磨液包括：金刚砂、去离子水、氧化铝球、分散剂、水溶性胶体。制备方法包括金刚砂的表面润湿改性、金刚砂的球磨混合、复合分散剂的使用、水溶性胶体的添加等工艺模块。解决了现有技术中金刚砂在溶剂中的分散效果差的问题。广泛应用于微波陶瓷的研磨工艺中。

３７ 一种碳化硅晶片加工用研磨液及其制备方法

       制备时，取金刚石微粉于分散剂和悬浮剂中，加入水，形成两相混合物，以离心分离，利用两相介质密度差分离去除粗颗粒的金刚石微粉，将粒度更加集中的金刚石微粉分散于分散剂和悬浮剂中即可得到碳化硅晶片加工用研磨液。研磨液中，金刚石微粉粒度更加集中，粗大颗粒数目远小于传统方法制得的金刚石研磨液，从而有效避免大颗粒金刚石划伤碳化硅晶片。

３８ 一种改性金刚石粉、制备方法、用途及包含其的抛光液制备方法

       改性金刚石粉表面功能团实现均一化，同时利用空间位阻作用使金刚石粉在抛光液中均匀完全分散，提高悬浮性，减少团聚。该抛光液具有安全、环保、高效、高悬浮性、高分散性的优点，该抛光液可长时间保持高分散状态，几乎无二次团聚，极大的提升了抛光后蓝宝石表面质量。

３９ 一种球形磨料、制备方法、用途及包含其的蓝宝石研磨液制备方法

       球形磨料由金刚石微粉、氧化铝粉和氧化硅粉混合烧结而成，将金刚石微粉固结在球形磨料中，增加金刚石切削锐角与蓝宝石晶片接触面积。包括上述球形磨料、金刚石磨料、悬浮剂、润滑剂、ｐＨ调节剂、润湿剂、分散剂、防锈剂和水。能在保证晶片表面质量的前提下，提高研磨效率，降低加工成本。采用蓝宝石研磨液研磨得到的蓝宝石衬底表面粗糙度低、平整度好、无明显划痕。蓝宝石研磨液具有非常良好的应用前景和大规模工业化推广潜力。

４０ 一种绿色可见光催化辅助金刚石化学机械抛光液制备方法

       使用由氧化剂、磨料、可见光光催化剂、螯合剂和去离子水组成的抛光液在可见光照射下对金刚石化学机械抛光，所述抛光液氧化剂的浓度为１５ｗｔ％～２５ｗｔ％，磨料浓度为４０～８０ｇ／ｌ，可见光光催化剂的浓度为０．０２６６７～０．２６６７ｇ／ｌ，螯合剂浓度为０．５～２ｍＭ，去离子水的重量百分比为６７％～８１％。抛光后，表面粗糙度为０．１１１ｎｍ，材料去除率为４１６ｎｍ／ｈ。实现了绿色、高效、高质量化学机械抛光金刚石。

４１ 一种用于光纤接头端面的抛光液组合物配方制备方法

       具体含有纳米金刚石＠沸石咪唑金属框架材料（ＺＩＦ‑８）复合磨粒、纤芯下陷抑制剂、分散剂、表面活性剂和去离子水；采用提供的光纤接头抛光液组合物对光纤接头端面进行抛光，可有效降低光纤接头端面的表面粗糙度，并具有低的纤芯下陷，提高了光纤接头加工的成品良率。

４２ 一种抛光磨料的生产制备工艺

        该抛光磨料的生产制备工艺，奶精富含植物油，提高打磨上光，遇水乳化，易分散溶解，覆盖在抛光磨料的表面与金刚石微粉颗粒形成一种类似抛光膏的作用，聚氨酯绒毛粉替代传统羊毛，使被抛光物体的表面更细腻，光度更均匀，避免被抛光的物体表面留下打磨的螺旋纹，同时避免了传统抛光磨料在制备时需要对羊毛进行繁琐的处理过程，提高了生产效率。

４３ 一种易解理氧化镓晶片化学机械抛光工艺

        抛光液及其制备方法，成分包括磨料、分散剂、氧化剂、表面活性剂、消泡剂、ｐＨ调节剂。磨料为二氧化硅、氧化铝、氧化铈、金刚石中的一种或几种。分散剂为疏水改性丙烯酸聚合物。氧化剂为过氧化氢。表面活性剂为十六烷基三甲基溴化铵、十二烷基苯磺酸钠、氨基酸型表面活性剂、脂肪醇聚氧乙烯醚５中的一种或几种。消泡剂为磷酸三丁酯。ｐＨ调节剂为无机碱和有机碱或是无机酸和有机酸的复配物。

４４ 一种碳化硅晶片粗磨用金刚石研磨液及其制备方法

       由水和以下重量份数的原料制成：金刚石微粉０．５～２份，表面活性剂０．１～０．５份，增稠剂０．２～０．８份，润滑剂０．５～７份，分散剂０．０５～１份，用于防锈和调整ｐＨ的活性剂１．５～５份，杀菌剂０．０１～０．２份，水、金刚石微粉、表面活性剂、增稠剂、润滑剂、分散剂、用于防锈和调整ｐＨ的活性剂、杀菌剂的总重量份数为１００份。碳化硅晶片粗磨用金刚石研磨液充分考虑了研磨液的清洗性能、防锈性能。

４５ 一种微粉悬浮抛光油及其制备方法

        一种微粉悬浮抛光油由基础油、悬浮剂、润湿剂、抛光微粉、表面活性剂、光亮剂和络合剂组成，以基础油、悬浮剂、润湿剂、抛光微粉等作为该微粉悬浮抛光油为基础，并在制备的过程中，向其中添加了络合剂，络合剂到该微粉悬浮抛光油之后，可以大大提高该抛光油的稳定性，以此来避免颗粒间极易发生团聚的情况出现，可长时间悬浮金刚石、二氧化硅、氧化铝等微粉，大大提高该微粉悬浮抛光油的使用效果，进一步确保了抛光过程中的抛光质量。

４６ 一种硫化锌用抛光液及其制备方法

        采用金刚石液可以使抛光材料及抛光过程中生成的过渡层容易被机械磨削，保证一定的表面去除率，同时去除均匀。丙三醇可以保证抛光液的分散及稳定性，减少加工表面缺陷。柠檬酸在抛光过程中既能起到溶解作用又能在表面形成过渡层，防止过度腐各组分在特定的配比条件下协同作用，可以使得到的硫化锌用抛光液抛光处理后的硫化锌晶体的表面粗糙度较低。

４７ 一种二氧化碲用抛光液及其制备方法

       提供的二氧化碲用抛光液采用金刚石微粉作为磨料，矿物油为溶剂，柠檬酸为ｐＨ值调节剂，各组分在特定的配比下协同作用，最终得到的二氧化碲用抛光液抛光处理后的二氧化碲晶体的表面粗糙度较低，无划伤、凹坑和麻点等缺陷。实验结果表明，制备的二氧化碲用抛光液抛光处理后的二氧化碲晶体的表面粗糙度明显更低，不超过０．６ｎｍ，无划伤、凹坑和麻点等缺陷。

４８ 一种用于非金属材料精密抛光的研磨膏及其制备方法

       包括一定比例的金刚石微粉、硅石粉、甘油和猪油或者一定比例的金刚石微粉、硅石粉、甘油和钻石油，研磨膏能针对氧化铝、氧化锆、碳化硅陶瓷和石英等材料进行精密抛光研磨，仅需抛光３０分钟即可达到较好的效果，表面粗糙度可从原来的Ｒａ０．４达到Ｒａ０．１，提高抛光精度和效率，提高产品成品率，该研磨膏成本低廉，制备便捷，易于推广。

４９ 一种可见光辅助金刚石化学机械抛光方法

       抛光液由磨料、氧化剂、可见光光催化剂、去离子水构成。在可见光光源照射下，使用抛光液对金刚石进行化学机械抛光，可见光光源置于抛光盘正上方１０‑２０ｃｍ处，抛光盘（垫）为玻璃盘或者聚氨酯抛光垫，抛光盘（垫）转速５０‑７０ｒ／ｍｉｎ，抛光压力为１‑２ＭＰａ，抛光液流量为１０‑２０ｍｌ／ｍｉｎ。抛光后金刚石表面粗糙度可达０．２５０‑０．３５４ｎｍ。相较于传统抛光方法，晶体表面粗糙度降低，抛光效率提升。相较于紫外光辅助化学机械方法，使用设备结构简单，实用性强。

５０ 一种研磨组合物及其应用

        应用包括对钼蒸发料进行研磨处理，包括如下过程：将钼蒸发料采用所述复合研磨组合物进行第一研磨和第二研磨。通过对研磨中研磨介质即研磨组合物的设计，实现了钼蒸发料表面污物和缺陷的高效去除，同时显著降低了钼蒸发料的损失率，较现有技术中的钼蒸发料损失率（４０‑２０％）显著降低，钼蒸发料处理后的损失率为０．０５‑０．１％。

５１ 一种核壳结构的二氧化铈／纳米金刚石复合磨料、其制备方法及用于蓝宝石超精密抛光的抛光液

        核壳结构的二氧化铈／纳米金刚石复合磨料为生长有纳米金刚石颗粒的二氧化铈纳米棒，该新型复合磨料既能避免金刚石划伤蓝宝石，显著降低蓝宝石表面的粗糙度，又能有效提高抛光效率。本发明还公开了一种用于蓝宝石超精密抛光的抛光液，该抛光液中的二氧化铈／纳米金刚石磨料分散均
匀、不易团聚，更容易形成稳定的浊状液体系，长时间保持分散均匀且不分层。

５２ 一种研磨液组合物及其生产工艺

        涉及研磨液制备技术领域，以金刚石磨粒、铜粉、碳化硅粒、二氧化钵粉末和白刚玉粉作为磨料，并严格控制粒径，配合极压润滑剂、甘油、硬脂酸以及乳化剂的作用，润滑性能远高于同类产品，提高表面加工精度。

５３ 一种喷雾型金刚石研磨液制备方法

        将该研磨液用于喷雾供液系统时，可有效减少雾化飞散液滴的产生，并可加速液滴沉降，在提升研磨液利用率的同时可以显著避免雾化吸入，从而降低对操作人员的身心伤害。

５４ 一种石英玻璃研磨液及其制备方法

        提供的石英玻璃研磨液中同时加入两种不同材质的研磨颗粒，二者硬度不同，硬度大的金刚石颗粒有利于石英玻璃材料的有效去除，硬度略低的氧化铝颗粒可对金刚石加工造成的裂纹进行修复，可同时满足石英玻璃研磨去除率高、粗糙度小的理想研磨效果。

５５ 一种碳化硅单晶抛光液及其使用方法

       碳化硅单晶抛光液包括以下原料：过氧化氢、磨料和助剂；其中，所述磨料由二氧化硅、氧化铝和金刚石微粉构成；所述二氧化硅的粒径为１０ｎｍ～３０ｎｍ；所述氧化铝的粒径为５０ｎｍ～１００ｎｍ；所述金刚石微粉的粒径为小于０．２５μｍ。该抛光液利用不同粒度的抛光磨料，实现了对碳化硅单晶表面的有效抛光，实现了碳化硅单晶表面粗糙度Ｒａ均达到亚纳米级。

５６ 一种环保不锈钢抛光液制备方法

        抛光料为纳米四氧化三铁包覆的多巴胺改性金刚石粉，所述多巴胺改性金刚石粉。与现有技术相对比，抛光颗粒硬度适中、磁控剪切力大，载流体为乙醇／水体系环保，抛光颗粒可回收，处理后不锈钢表面形成钝化膜大大延缓腐蚀等优点。

５７ 一种抛光用复合磨粒制备方法

       包括由内至外依次组成的内核体、杂化膜层、以及含有硬质磨粒的硬质磨粒层。以及该复合磨粒及研磨液的制备方法。抛光用复合磨粒、研磨液及其制备方法，使用该复合磨粒的研磨液研磨时，可以有效提高产品的研磨效率，且同时可以提高产品的表面质量，减小了产品划伤的概率。

５８ 一种用于抛光硬质基材的多峰金刚石磨料包或浆料

        多峰金刚石磨料包或浆料通常包含多种金刚石磨料。多种金刚石磨料中的每一种金刚石磨料都具有一种粒度。其中，多峰金刚石磨料包或浆料包含第一金刚石磨料和第二金刚石磨料。第一金刚石磨料具有第一粒度，且第二金刚石磨料具有第二粒度。其中，第一金刚石磨料的第一粒度小于第二金刚石磨料的第二粒度。

５９ 一种含纳米混合抛光粉的磁流变抛光液及其制备方法

。制备方法包括将羰基铁粉、纳米混合抛光粉、基载液混合，然后加入表面活性剂和ｐＨ调节剂即得。磁流变抛光液可实现磁流变抛光高去除效率和高表面质量的兼容，流变性能好，稳定性强，能够实现光学元件的磁流变高效超光滑加工。

６０ 一种用于晶片衬底片的金刚石研磨液制备方法

        其属于精细化工技术领域。该研磨液中醇醚有机溶剂的加入，使该研磨液的表面张力降低，增加了润湿渗透能力。多功能金属离子捕捉剂的分子结构中含有酰胺官能团，酰胺键与一个氧原子相连。金属离子捕捉剂与有机溶剂的协同作用可显著降低研磨屑对晶片表面以及边缘的吸附力，易被冲洗，避免将研磨屑带入去蜡槽。并且采用高性能的分散剂对金刚石微粉进行均匀分散，是研磨液具有良好的分散稳定性。

６１ 一种ＳｉＣ衬底加工用纳米金刚石抛光液及其制备方法

       金刚石微粉中，耐磨磨粒／圆形磨粒颗粒数比值为１‑１５：１，其中，圆度Ｆｃ＞０．９５０为圆形磨粒；０．９００≤Ｆｃ≤０．９５０为耐磨磨粒。所述抛光液通过控制金刚石微粉的形貌构成，在耐磨磨粒提高抛光效率的同时，借助圆形磨粒修复表面损伤层和粗糙度，从而实现对抛光划伤的控制。

６２ 一种用于陶瓷轴承球的抛光液及其制备方法

        抛光液主要由以下质量份数的组分组成：金刚石０．１～５份、润滑剂０．１～２０份、悬浮剂０．１～１０份、保水剂１～２份、分散剂０．１～１５份和水５０～８０份。抛光液具有高效率、易清洗的特点，抛光后陶瓷轴承球的表面质量优异。

６３ 一种碳化硅晶片粗抛用金刚石抛光液及制备方法

       磨料两步处理法可有效提高多晶金刚石粉体利用率，同时有效的减少抛光液中超尺寸颗粒以及硬团聚体存在导致的划伤问题；采用改性脲溶液作为有机悬浮剂，抛光液长期放置无明显分层现象，与无机悬浮剂，如疏水改性气相法白炭黑，有机膨润土相比，抛光废屑不易粘附在抛光盘上，易清洗。

６４ 一种煤岩专用抛光剂及其制备方法

       加磁改性金刚石微粉经过下列步骤制得：将金刚石微粉和铁微粉在真空环境下混合，通入氧气并高温加热，在金刚石微粉表面沉积生长Ｆｅ＜ｓｕｂ＞３＜／ｓｕｂ＞Ｏ＜ｓｕｂ＞４＜／ｓｕｂ＞包裹层，冷却过筛得到所需的加磁改性金刚石微粉。配方设计科学合理，通过加磁改性金刚石微粉替代传统的金刚石微粉，金刚石微粉具备磁性，使所得抛光剂中金刚石微粉能长期稳定悬浮，保障抛光质量和抛光效率，满足煤岩分析的需求。

６５ 一种金刚石研磨液制备方法

       磨料为多晶金刚石微粉、类多晶金刚石微粉、单晶金刚石微粉的混合物；磨料预先采用烷基酚聚氧乙烯醚进行表面改性处理；悬浮剂为Ｎ‑甲基吡咯烷酮、改性聚脲、甲基吡咯烷、蓖麻油衍生物中的至少一种。该金刚石研磨液研磨效率高，磨料分散均匀，悬浮稳定性好，长时间放置不会发生沉降分层现象。

６６ 一种碳化硅抛光液及其应用

       使用非水溶剂，利用非水溶剂代替水，避免了抛光液中各组分的反应活化能、配位性能和氧化还原电位等特性都受制于水性溶液的束缚的问题，提供的碳化硅抛光液具有良好的金刚石悬浮性，能够提高抛光效率，且无挥发性问题，易于长期储存，是理想的半导体化合物晶圆制造亚纳米级光洁度的抛光液。

６７ 一种用于加工陶瓷插芯的研磨液制备方法

       其特征在于包括如下组分及其重量份数：金刚石颗粒１～９；煤油４００‑６００；十六烷酸２００～３００；油酸２００～３００；亚油酸４０～１００；白油６０～８０。本发明还公开了该研磨液的制备方法。采用的配方，耐高温、研磨效率大大提高，研磨后孔径一致性佳。

６８ 一种超快速低损碳化硅衬底抛光液及其制备方法

       包括添加剂和抛光基液，抛光基液包括纳米金刚石微粉、强氧化剂，稳定剂等；添加剂按包括一定重量比的石墨烯、碳化钨、硅胶和二氧化钛；添加剂对抛光基液具有平衡抛光时摩擦力作用，使碳化硅衬底在高速抛光的过程中，不会因为抛光速度加快而出现划痕或粗糙度加剧的问题，实现高速抛光的同时，降低表面粗糙度，减少划痕的目的，且整个精加工过程，加工精度高、自动化程度高。