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新版说明

各位读者:大家好!   

         自从我公司2000年推出每年一期的金属表面处理新技术、新工艺汇编以来,深受广大企业的欢迎,在此,我们衷心地感谢致力于创新的新老客户多年来对我们产品质量和服务的认同,由衷地祝愿大家工作顺利! 日前,国家提出的十大重点产业调整和振兴规划,以及新近发布的关于加快七大战略性新兴产业发展的决定,对现代高端制造业的金属表面处理及其技术发展提出了更高的要求。为推动国内现代制造业的技术升级和产品换代,实现节能环保、减排增效和绿色制造的目标,促进国民经济的高效和持续发展。提高金属表面处理剂质量,我公司特推出本期新技术工艺配方汇编。  

        镀膜工艺以其镀膜层优良的外观和耐腐蚀性在工业领域有着广泛的应用。如在不锈钢基材上电镀含铜、镍、金、钛等金属的膜层,因所镀膜层具有较高的硬度、良好的耐磨性以及较高的化学稳定性,可大大提高不锈钢基材的外观及使用性能和抗腐蚀抗氧化性。通常在以下情况下需要对镀膜层进行退镀:在生产过程中由于偶然因素,所镀的膜层不符合品质要求,为减少损失,节约成本,需要远除所述膜层,丽对外引线进行重新镀膜。
 
       目前,业界去除镀膜的方法主要为电解退镀法,然而,电解退镀法的生产耗能大,对治具设计的精度要求较高,不适合大批量生产。另外,电解退镀法仅能去除金属基材上的镀膜,对于金属与塑胶的复合件,其无法去除塑胶件上的镀膜。而退镀液的出现则解决了这一难题, 退镀液的使用不仅避免了电解退镀法中耗能较大的缺点,并且操作快捷简便,可以适用于大批量生产的退镀作业。然后,现今常用的退镀液也存在容易产生废气污染环境(例如NO) 和酸碱性较高腐蚀金属器件的表面的问题,所以急需要研究一种环保性好且腐蚀性低的退镀液供人们生产生活使用。
    

        本期所介绍的资料,系统全面地收集整理了最新的金属表面处理退镀最新技术,包括:优秀的专利新产品,新配方、新产品生产工艺的全文资料。其中有许多优秀的新技术在实际应用巨大的经济效益和社会效益,这些优秀的新产品的生产工艺、技术配方非常值得我们去学习和借鉴。


      国际新技术资料网出品 订购电话:010-63488305  13141225688 梅兰 女士

《日本铜电解液、添加剂制造工艺配方精选汇编》

《日本铜电解液、添加剂制造工艺配方精选汇编》

   本期重点收录日本铜电解液、添加剂制造工艺配方精选汇编重要技术资料,对我国从事金属表面处理、金属制品及非金属镀银技术研制以及生产单位的新产品开发、提高产品质量将起到很大的帮助作用!

  
本篇专集资料包括日本金属电镀铜技术生产配方、非金属表面处理工艺、现有表面处理技术分析、存在技术问题分析、表面处理国际环保政策、产品防腐性能测试及标准、盐雾试验数据、解决的具体问题、表面处理实施例配方等等。是企业提高产品质量和发展新产品的重要、实用、超值和难得的技术资料。涉及国内著名公司、科研单位、知名企业的最新专利技术全文资料,工艺配方详尽,技术含量高、环保性强是从事高性能、高质量、产品加工研究生产单位提高产品质量、开发新产品的重要情报资料。

【资料页数】1010页 (日本原文 大16开 A4纸)
【资料内容】制造工艺及配方
【项目数量】62项
【资料电子版】1980元(PDF文档)(邮件发送)
【联系电话】13141225688 梅兰 女士


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   本期重点收录日本铜电解液、添加剂制造工艺配方精选汇编重要技术资料,对我国从事金属表面处理、金属制品及非金属镀银技术研制以及生产单位的新产品开发、提高产品质量将起到很大的帮助作用!

  
本篇专集资料包括日本金属电镀铜技术生产配方、非金属表面处理工艺、现有表面处理技术分析、存在技术问题分析、表面处理国际环保政策、产品防腐性能测试及标准、盐雾试验数据、解决的具体问题、表面处理实施例配方等等。是企业提高产品质量和发展新产品的重要、实用、超值和难得的技术资料。涉及国内著名公司、科研单位、知名企业的最新专利技术全文资料,工艺配方详尽,技术含量高、环保性强是从事高性能、高质量、产品加工研究生产单位提高产品质量、开发新产品的重要情报资料。

【资料页数】1010页 (日本原文 大16开 A4纸)
【资料内容】制造工艺及配方
【项目数量】62项
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1    三菱マテリアル株式会社    酸性電解銅めっき液、プリフォーム層の形成方法、接合用シートの製造方法、接合用基板の製造方法及び接合体の製造方法
2    センカ株式会社    電解めっき液添加剤及びその製造方法、電解めっき液並びに電解めっき付き部材の製造方法
3    株式会社JCU    スルホニオ基含有エーテル化合物を含むめっき液
4    大阪瓦斯株式会社    めっき液添加剤
5    日電精密工業株式会社    めっき液、めっき処理方法及び金属材料
6    株式会社JCU    硫酸銅めっき液およびこれを用いた硫酸銅めっき方法
7    住友金属鉱山株式会社    めっき膜の製造方法
8    住友金属鉱山株式会社    めっき液、めっき膜の製造方法
9    株式会社ADEKA    電解めっき液用添加剤を含有する電解めっき液及び該電解めっき液を用いた電解めっき方法
10    日東紡績株式会社    電解めっき液添加剤及びその用途
11    JX金属株式会社    硫酸銅、硫酸銅溶液、めっき液、硫酸銅の製造方法、半導体回路基板の製造方法及び電子機器の製造方法
12    三洋化成工業株式会社    電気銅めっき液用添加剤、その電気銅めっき液及びこれを用いた銅めっき方法
13    住友金属鉱山株式会社    フレキシブル配線板用の電気銅めっき液及び該電気銅めっき液により製造される積層体の製造方法
14    住友金属鉱山株式会社    フレキシブル配線板用の電気銅めっき液及び該電気銅めっき液を用いた積層体の製造方法
15    ローム・アンド・ハース電子材料株式会社    電気銅めっき液
16    国立大学法人信州大学    めっき液およびその製造方法、並びに、複合材料、銅複合材料およびその製造方法
17    YKK株式会社    ストライク銅めっき液およびストライク銅めっき方法
18    住友金属鉱山株式会社    硫酸銅めっき液と湿式めっき法、及び湿式めっき法を用いた銅被覆フィルム基板並びにフレキシブルプリント配線板の製造方法
19    奥野製薬工業株式会社    PRパルス電解銅めっき用添加剤及びPRパルス電解めっき用銅めっき液
20    奥野製薬工業株式会社    含リン銅をアノードとする電解銅めっき液用添加剤、電解銅めっき液及び電解銅めっき方法
21    ローム・アンド・ハース電子材料株式会社    電解銅めっき液及び電解銅めっき方法
22    株式会社JCU    酸性電解銅めっき液
23    JX日鉱日石金属株式会社    銅電解液
24    三星電子株式会社    銅めっき溶液およびこれを用いた銅めっき方法
25    日立化成株式会社    銅鍍金液のフィルド性評価方法、鍍金液のフィルド性評価装置、及びフィルド性評価用基板、並びにフィルド性評価用電極群及びその再利用方法
26    三洋化成工業株式会社    金属めっき液添加剤及び金属めっき方法
27    三井金属鉱業株式会社    セミアディティブ用硫酸系銅めっき液及びプリント配線基板の製造方法
28    JX日鉱日石金属株式会社    ULSI微細ダマシン配線埋め込み用電気銅めっき水溶液
29    JX日鉱日石金属株式会社    二層フレキシブル基板、及びその製造に用いる銅電解液
30    奥野製薬工業株式会社    亜鉛含有金属又はマグネシウム含有金属からなる物品用ストライク銅めっき液
31    株式会社日立製作所    めっき液,凸状金属構造体を有する導電体基板、及び、その製造方法
32    三菱マテリアル株式会社    銅メッキシステム並びに銅メッキ方法及び電解メッキ液の製造方法
33    古河電気工業株式会社    電解銅皮膜、その製造方法及び銅電解皮膜製造用の銅電解液
34    富士通株式会社    電解メッキ液、電解メッキ方法、および半導体装置の製造方法
35    JX日鉱日石金属株式会社    電解銅箔製造用の電解液
36    株式会社JCU    酸性電解銅めっき液およびこれを用いる微細配線回路の作製方法
37    JX日鉱日石金属株式会社    銅電解液及びそれを用いて得られた2層フレキシブル基板
38    株式会社日本表面処理研究所    銅めっき用添加剤及びその銅めっき用添加剤を用いた銅めっき液並びにその銅めっき液を用いた電気銅めっき方法
39    株式会社荏原製作所    電気銅めっき方法及び硫酸銅めっき液
40    新光電気工業株式会社    めっき液の空気攪拌装置及びめっき液の管理方法
41    株式会社JCU    プリント基板用硫酸銅めっき液
42    三井金属鉱業株式会社    硫酸酸性銅電解液の調製方法
43    三井金属鉱業株式会社    銅配線の製造方法及び銅めっき用電解液
44    TDK株式会社    めっき液、導電性素材および導電性素材の表面処理方法
45    三井金属鉱業株式会社    銅電解液及び該銅電解液に用いる添加剤の製造方法並びに該銅電解液を用いて得られた電析銅皮膜
46    三井金属鉱業株式会社    銅電解液及びその銅電解液を用いた電析銅皮膜の形成方法
47    奥野製薬工業株式会社    酸性電気銅めっき液及び電気銅めっき方法
48    株式会社荏原製作所    めっき装置及びめっき液の管理方法
49    福田金属箔粉工業株式会社    銅箔の粗面化処理方法及び粗面化処理液
50    奥野製薬工業株式会社    酸性電気銅めっき液、及び含硫黄有機化合物の電解消耗量の少ない電気銅めっき方法
51    奥野製薬工業株式会社    酸性電気銅めっき液
52    日鉱金属株式会社    特定骨格を有する化合物を添加剤として含む銅電解液並びにそれにより製造される電解銅箔
53    日本エレクトロプレイテイング・エンジニヤース株式会社    埋め込み用硫酸銅めっき液及びそれを用いた銅めっき方法
54    パナソニック株式会社    半導体装置の製造方法及びメッキ液
55    パナソニック株式会社    粗化銅めっき液及びそのめっき方法
56    新光電気工業株式会社    電解銅めっき液の管理方法
57    三井金属鉱業株式会社    電解銅箔製造用銅電解液及び電解銅箔の製造方法
58    株式会社荏原製作所    微細回路配線の形成方法並びにこれに用いるめっき液およびめっき装置
59    日鉱金属株式会社    特定骨格を有するジアルキルアミノ基含有重合体及び有機硫黄化合物を添加剤として含む銅電解液並びにそれにより製造される電解銅箔
60    新光電気工業株式会社    電解銅めっき液及び電解銅めっき方法
61    株式会社日立製作所    プリント配線基板、その製造方法、電気銅めっき方法、及び電気銅めっき液
62    学校法人 芝浦工業大学    銅メッキ溶液、銅メッキ用前処理溶液及びそれらを用いた銅メッキ膜とその形成方法

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