欢迎光临国际新技术资料网
国际新技术资料网
咨询热线:13141225688
环保新技术网
新版说明

各位读者:大家好!   

         自从我公司2000年推出每年一期的金属表面处理新技术、新工艺汇编以来,深受广大企业的欢迎,在此,我们衷心地感谢致力于创新的新老客户多年来对我们产品质量和服务的认同,由衷地祝愿大家工作顺利! 日前,国家提出的十大重点产业调整和振兴规划,以及新近发布的关于加快七大战略性新兴产业发展的决定,对现代高端制造业的金属表面处理及其技术发展提出了更高的要求。为推动国内现代制造业的技术升级和产品换代,实现节能环保、减排增效和绿色制造的目标,促进国民经济的高效和持续发展。提高金属表面处理剂质量,我公司特推出本期新技术工艺配方汇编。  

        镀膜工艺以其镀膜层优良的外观和耐腐蚀性在工业领域有着广泛的应用。如在不锈钢基材上电镀含铜、镍、金、钛等金属的膜层,因所镀膜层具有较高的硬度、良好的耐磨性以及较高的化学稳定性,可大大提高不锈钢基材的外观及使用性能和抗腐蚀抗氧化性。通常在以下情况下需要对镀膜层进行退镀:在生产过程中由于偶然因素,所镀的膜层不符合品质要求,为减少损失,节约成本,需要远除所述膜层,丽对外引线进行重新镀膜。
 
       目前,业界去除镀膜的方法主要为电解退镀法,然而,电解退镀法的生产耗能大,对治具设计的精度要求较高,不适合大批量生产。另外,电解退镀法仅能去除金属基材上的镀膜,对于金属与塑胶的复合件,其无法去除塑胶件上的镀膜。而退镀液的出现则解决了这一难题, 退镀液的使用不仅避免了电解退镀法中耗能较大的缺点,并且操作快捷简便,可以适用于大批量生产的退镀作业。然后,现今常用的退镀液也存在容易产生废气污染环境(例如NO) 和酸碱性较高腐蚀金属器件的表面的问题,所以急需要研究一种环保性好且腐蚀性低的退镀液供人们生产生活使用。
    

        本期所介绍的资料,系统全面地收集整理了最新的金属表面处理退镀最新技术,包括:优秀的专利新产品,新配方、新产品生产工艺的全文资料。其中有许多优秀的新技术在实际应用巨大的经济效益和社会效益,这些优秀的新产品的生产工艺、技术配方非常值得我们去学习和借鉴。


      国际新技术资料网出品 订购电话:010-63488305  13141225688 梅兰 女士

2025版《日本光刻胶制造工艺配方精选汇编》

2025版《日本光刻胶制造工艺配方精选汇编》

日本企业占据了全球光刻胶市场约70%到90%的份额,尤其在高端的ArF和EUV光刻胶领域,市场份额甚至超过90%。这些高端光刻胶是半导体制造中不可或缺的关键材料,直接影响芯片的性能和制造精度。

本篇资料收录了日本著名公司光刻胶制造专利技术,涉及:工艺、配方、制备方法等,是我国从事光刻胶行业研究生产单位的重要参考资料。

【资料内容】生产工艺、配方
【出品单位】国际新技术资料网
【资料语种】日文
【电  子 版】1680元(PDF文档 邮箱发送)
【联系电话】13141225688 梅兰(女士)

0.00
1680.00
数量:
立即购买
加入购物车
  

日本企业占据了全球光刻胶市场约70%到90%的份额,尤其在高端的ArF和EUV光刻胶领域,市场份额甚至超过90%。这些高端光刻胶是半导体制造中不可或缺的关键材料,直接影响芯片的性能和制造精度。

本篇资料收录了日本著名公司光刻胶制造专利技术,涉及:工艺、配方、制备方法等,是我国从事光刻胶行业研究生产单位的重要参考资料。

【资料内容】生产工艺、配方
【出品单位】国际新技术资料网
【资料语种】日文
【电  子 版】1680元(PDF文档 邮箱发送)
【联系电话】13141225688 梅兰(女士)

目录

1半導体フォトレジスト用組成物およびこれを利用したパターン形成方法三星エスディアイ株式会社
2フォトレジスト用樹脂、フォトレジスト組成物および硬化物日油株式会社
3金属含有フォトレジスト現像液組成物、およびこれを利用した現像段階を含むパターン形成方法三星エスディアイ株式会社
4金属含有フォトレジストのエッジビーズ除去用組成物または金属含有フォトレジストの現像液組成物、およびこれを利用したパターン形成方法三星エスディアイ株式会社
5フォトレジスト上層膜用組成物およびこれを利用したパターン形成方法三星エスディアイ株式会社
6半導体フォトレジスト用組成物およびこれを用いたパターン形成方法三星エスディアイ株式会社
7金属含有フォトレジスト用現像液組成物、およびこれを用いた現像段階を含むパターン形成方法三星エスディアイ株式会社
8有機塩、それを含むフォトレジスト組成物、及びフォトレジスト組成物を用いるパターン形成方法三星電子株式会社
9金属含有フォトレジスト用現像液組成物、およびこれを用いた現像工程を含むパターン形成方法三星エスディアイ株式会社
10重合性化合物、酸発生剤、樹脂、及びフォトレジストサンアプロ株式会社
11有機金属化合物、フォトレジスト用感光材、及びフォトレジストサンアプロ株式会社
12スルホニウム塩、前記スルホニウム塩を含む酸発生剤、及び前記スルホニウム塩を含むフォトレジストサンアプロ株式会社
13金属含有膜形成用化合物、金属含有膜形成用組成物、パターン形成方法、及び半導体フォトレジスト材料信越化学工業株式会社
14電着フォトレジスト用塗料組成物株式会社シミズ
15カルボン酸塩、それを含むフォトレジスト組成物、及びそのフォトレジスト組成物を用いるパターン形成方法三星電子株式会社
16フォトレジスト剥離液ナガセケムテックス株式会社
17金属含有フォトレジスト現像液組成物、およびこれを用いた現像工程を含むパターン形成方法三星エスディアイ株式会社
18フォトレジスト用剥離液及びこれを用いた基板の処理方法東京応化工業株式会社
19フォトレジスト剥離組成物関東化学株式会社
20電着フォトレジスト塗膜の剥離方法ハニー化成株式会社
21改良されたフォトレジスト製剤船井電機株式会社
22光酸発生剤、それを含むフォトレジスト組成物、及びそれを利用したパターン形成方法三星電子株式会社
23パターン化された有機金属フォトレジスト及びパターニングの方法インプリア・コーポレイション
24化合物、前記化合物を含む酸発生剤、フォトレジスト、及び前記フォトレジストを使用した電子デバイスの製造方法サンアプロ株式会社
25ノボラック型フェノール樹脂、ノボラック型フェノール樹脂の製造方法、及びフォトレジスト組成物明和化成株式会社
26複合フォトレジスト材料とその製造方法、および流体吐出ヘッド船井電機株式会社
27ネガ型レジスト樹脂組成物およびネガ型フォトレジスト樹脂組成物サンアプロ株式会社
28ノズルプレートの接着性を強化するためのフォトレジストイメージングおよび現像船井電機株式会社
29フォトレジスト組成物及びパターン形成方法ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシー
30半導体フォトレジスト用組成物およびそれを用いたパターン形成方法三星エスディアイ株式会社
31半導体フォトレジスト用組成物およびその製造方法、ならびにこれを用いたパターン形成方法三星エスディアイ株式会社
32フォトレジスト樹脂の製造方法株式会社ダイセル
33フォトレジスト組成物、液体吐出ヘッド及び液体吐出ヘッドの製造方法キヤノン株式会社
34フォトレジストパターン形成方法東京応化工業株式会社
35フォトレジスト用のノボラック型フェノール樹脂およびその製造方法、ならびにフォトレジスト用の感光性樹脂組成物住友ベークライト株式会社
36フォトレジストの特性解析方法および特性解析装置フェムトディプロイメンツ株式会社
37フォトレジスト組成物およびその硬化物太陽インキ製造株式会社
38ネガ型カチオン性電着フォトレジスト用樹脂組成物及びそれを電着塗装してなる塗膜ハニー化成株式会社
39フォトレジスト用フェノール樹脂組成物及びフォトレジスト組成物明和化成株式会社
40厚膜用フォトレジスト組成物及び厚膜フォトレジストパターン形成方法東京応化工業株式会社
41単量体、フォトレジスト用樹脂、フォトレジスト用樹脂組成物、及びパターン形成方法株式会社ダイセル
42フォトレジスト除去用組成物三菱ガス化学トレーディング株式会社
43フォトレジスト用組成物株式会社ダイセル
44フォトレジスト用樹脂、フォトレジスト用樹脂の製造方法及びフォトレジスト組成物明和化成株式会社
45感光性樹脂組成物、これを用いたフォトレジストフィルム、及びレジストパターンの形成方法ニッコー・マテリアルズ株式会社
46フォトレジスト用樹脂、フォトレジスト用樹脂の製造方法、フォトレジスト用樹脂組成物、及びパターン形成方法株式会社ダイセル
47重合性化合物、重合性組成物、重合体及びフォトレジスト用組成物JNC株式会社
48フォトレジスト用保護フィルム三菱ケミカル株式会社
49フォトレジスト及びフォトリソグラフィ日本化成株式会社
50フォトレジスト塗布装置トヨタ自動車株式会社
51化学増幅型フォトレジスト組成物サンアプロ株式会社
52化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物サンアプロ株式会社
53ネガ型フォトレジスト用樹脂組成物及び硬化膜サンアプロ株式会社
54光発生装置、光発生装置を備える露光装置、露光システム、光発生方法、及び露光フォトレジスト製造方法公立大学法人兵庫県立大学
55誘導自己組織化用の化学テンプレートを形成するための硬化フォトレジストのUV支援剥離東京エレクトロン株式会社
56ネガティブトーン現像剤相溶性フォトレジスト組成物及び使用方法トーキョー エレクトロン ユーエス ホールディングス,インコーポレーテッド
57機能構造体製造方法及びフォトレジスト処理装置ウシオ電機株式会社
58ポジ型フォトレジスト住友精化株式会社
59コーティング用組成物およびフォトレジスト積層体の製造方法旭硝子株式会社
60フォトレジスト組成物及びこれを利用する微細パターン形成方法三星電子株式会社
61フォトレジスト用樹脂、フォトレジスト樹脂の製造方法、フォトレジスト用樹脂組成物、及びパターン形成方法株式会社ダイセル
62フォトレジストフィルム、レジストパターンの形成方法、および導体パターンの形成方法ニッコー・マテリアルズ株式会社
63ドライフィルムフォトレジスト支持体二軸配向ポリエステルフィルム東レ株式会社
64アルコール誘導体、アクリル酸エステル誘導体、混合物、高分子化合物およびフォトレジスト組成物株式会社クラレ
65コーティング用組成物の製造方法およびフォトレジスト積層体の製造方法AGC株式会社
66フォトレジスト成分濃度測定装置および濃度測定方法パナソニックIPマネジメント株式会社
67ポジ型フォトレジスト組成物東京応化工業株式会社
68フォトレジスト組成物並びにそれを用いたドライエッチング用マスク及び積層体旭化成イーマテリアルズ株式会社
69半導体基板処理装置、フォトレジストを剥離する方法、および半導体装置の製造方法セイコーインスツル株式会社
70フォトレジスト用活性エネルギー線硬化性組成物ダイセル・オルネクス株式会社


双击此处添加文字